显示基板及其制造方法技术

本发明专利技术的实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板和形成在衬底基板上的光学膜层，其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光。该显示基板可以是阵列基板和/或彩膜基板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制造方法。
技术介绍
显示装置的功能就是能重现色彩，在色彩重现的技术中，可利用电脑图形处理将图像的颜色重现，而是否能将色彩完整地呈现出来，其中涉及显示器的色域(colorgamut)表现能力。色域是颜色的子集，颜色子集最常见的应用是用来精确地代表一种特定环境下真实的色彩，例如一个色彩空间(colorspace)或是某个输出装置(如显示器)的显色范围。一般的液晶显示装置主要由背光模块和液晶显示面板组成，液晶显示面板本身不会发光，必须通过背光模块提供光源。在制作显示装置时，除了一般显示效能(如分辨率、反应时间、对比度、亮度)外，还着重于显示装置的色域大小，目前，一般的背光模块中采用白光LED(即2色混合的LED)作为光源，由这样的背光模块组成的显示装置的色域大约为NTSC(美国国家电视标准委员会制定的一个色域空间)72％。广色域是一种进阶的色彩技术，国际标准是色彩覆盖率能达到NTSC92％即为广色域。随着人们对显示装置的要求不断提高，广色域显示装置越来越普遍。目前，一般通过改善LED光源、背光模块或者彩膜基板来进行色域提升，具体为：将LED中封装的Y(黄色)粉改为红绿两种颜色的RG荧光粉，使得红色、绿色单独发光，从而提升显示装置的色域；或者，将背光模块改造为量子点背光模块，采用蓝色LED+红/绿量子点的方案，以使得色彩覆盖率可以达到NTSC110％；或者，调整现有的彩膜基板，以提升色域。但是，这些色域提升方案均存在缺陷：这三种方案均不能与现有的显示基板制造工艺集成，需要设置单独的制造工艺，使得它们的制造成本均较高，而且，通过改善LED光源或彩膜基板，只能将显示装置的色域提供至NTSC85％-95％，虽然量子点背光源能将色域提升至NTSC110％，但是量子点本身的成本非常高，目前仅定位于高端市场。另外，一些上游厂商开发了一些能够用于提高色域的膜材，这类膜材可以阻隔部分黄光波段，但是这些薄膜通常需要同Pol(偏振片)复合或者置于背光中，从而使得背光模块的厚度大大增加，而且，这类膜材的制造工艺也不能与现有的显示基板制造工艺集成，需要设置单独的制造工艺和设备，因此，这类膜材通常也不能由显示面板的制造厂商单独提供。
技术实现思路
本专利技术实施例旨在提供一种具有光学膜层的显示基板，以提高包括该显示基板的显示装置的色域。根据本专利技术的一个方面，提供一种显示基板，包括：衬底基板；和形成在衬底基板上的光学膜层，其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光。根据一些实施例，所述显示基板为阵列基板。根据一些实施例，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。根据一些实施例，所述阵列基板还包括：栅绝缘层和/或钝化层，所述光学膜层形成为与所述栅绝缘层和/或钝化层不同的层。根据一些实施例，形成所述光学膜层的材料从适于形成所述栅绝缘层和/或所述钝化层的材料的组中选择。根据一些实施例，所述显示基板为彩膜基板。根据一些实施例，形成所述光学膜层的材料从适于形成与所述彩膜基板对盒的阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层的材料的组中选择。根据一些实施例，该光学膜层由多层薄膜构成，该多层薄膜包括至少两种材料，该至少两种材料具有不同的折射率。根据一些实施例，该多层薄膜包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层。根据一些实施例，所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm。根据一些实施例，形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、非晶硅、多晶硅、氮化镓、钨、石墨烯、二氧化钛、碳化硅、单晶硅、氟化镁的组中选择。根据一些实施例，形成所述光学膜层的材料的折射率在1.2-4的范围内。根据一些实施例，所述多层薄膜的层数在5-50的范围内。根据一些实施例，所述光学膜层形成在所述阵列基板的衬底基板的面向彩膜基板的一侧上，和/或所述光学膜层形成在所述阵列基板的衬底基板的背向彩膜基板的一侧上。根据一些实施例，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和钝化层，并且在像素单元的开口区域中，所述栅绝缘层和所述钝化层彼此接触。根据一些实施例，所述光学膜层形成在所述彩膜基板的衬底基板的面向阵列基板的一侧上，和/或所述光学膜层形成在所述彩膜基板的衬底基板的背向阵列基板的一侧上。根据一些实施例，所述光学膜层仅形成在与预定基色亚像素对应的位置处。根据本专利技术的另一方面，还提供一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，所述阵列基板为根据上述方面或实施例中任一个所述的显示基板，和/或所述彩膜基板是根据上述方面或实施例中任一个所述的显示基板。根据一些实施例，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层，和所述彩膜基板包括第二衬底基板和形成在该第二衬底基板上的第二光学膜层，并且其中，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm；或者，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm。根据一些实施例，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层和第二光学膜层，并且其中，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm。根据本专利技术的又一方面，还提供一种显示基板的制造方法，包括如下步骤：提供衬底基板；和在所述衬底基板上形成光学膜层，其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光。根据一些实施例，所述衬底基板为阵列基板的衬底基板。根据一些实施例，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。根据一些实施例，所述制造方法还包括如下步骤：在所述阵列基板的衬底基板上形成栅绝缘层和/或钝化层。根据一些实施例，形成所述光学膜层的材料从适于形成所述栅绝缘层和/或所述钝化层的材料的组中选择。根据一些实施例，在所述衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：通过沉积工艺，在所述衬底基板上形成光学膜层。根据一些实施例，所述衬底基板为彩膜基板的衬底基板。根据一些实施例，所述制造方法还包括如下步骤：在所述光学膜层上形成黑色树脂层。根据一些实施例，在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：在所述彩膜基板的衬底基板上形成黑色树脂层；对黑色树脂层进行图案化；在图案化后的黑色树脂层上形成所述光学膜层；在所述光学膜层上形成透明电极层。根据一些实施例，所述制造方法还包括如下步骤：在所述彩膜基板的衬底基板上形成多基色亚像素，其中，在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：使用掩膜版，以仅在与预定基色亚像素对应的位置处形成所述光学膜层；或者在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：在全部亚像素上均形成光学膜层，采用蚀刻工艺蚀刻掉与除预定基色亚像素之外的其它基色亚像素对应的位置处的光学膜层，以仅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，包括：衬底基板；和形成在衬底基板上的光学膜层，其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：衬底基板；和形成在衬底基板上的光学膜层，其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光。2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板为阵列基板。3.根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。4.根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述阵列基板还包括：栅绝缘层和/或钝化层，所述光学膜层形成为与所述栅绝缘层和/或钝化层不同的层。5.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板为彩膜基板，所述光学膜层仅形成在与预定基色亚像素对应的位置处。6.根据权利要求1-5中任一项所述的显示基板，其中，所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm。7.一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，所述阵列基板为根据上述权利要求1-4和6中任一项所述的显示基板，和/或所述彩膜基板是根据上述权利要求1和5-6中任一项所述的显示基板。8.根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层，并且所述彩膜基板包括第二衬底基板和形成在该第二衬底基板上的第二光学膜层，并且其中，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm；或者，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580...

【专利技术属性】
技术研发人员：李颖祎，高剑，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11