监测掩膜板形成图案位置的方法以及基板技术

本发明专利技术公开了一种监测掩膜板形成图案位置的方法及对应的基板。方法包括：提供一掩膜板及一基板，其中掩膜板上设置有多个检测开口，基板上对应设置有多个图案测试区，图案测试区包括多个标尺图案；应用掩膜板在基板上沉积与检测开口对应的检测图案；根据检测图案的边缘与各标尺图案相对位置关系确定检测图案在基板上的实际位置。通过以上方式，本发明专利技术能够方便、快速完成OLED面板的检查，进而判断掩膜板是否异常，能满足快速应对随机抽取的多片基板的监测需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及OLED
，特别是涉及一种监测金属掩膜板形成图案位置的方法以及基板。
技术介绍
有机电致发光技术(Organic Light Emitting Diode,OLED)是一种新型的显示、照明技术，近几年内针对OLED技术的投资项目逐渐增加，OLED已经成为行业热点。OLED显示面板制造主要分为三大部分，第1部分阵列基板(Array)制程，第2部分OLED制程，第3部分模组(Module)制程，其中Array和OLED制程极为重要。Array制程：主要经历涉及金属/非金属成膜，涂胶，曝光，显影，蚀刻等步骤，在基板表面形成具有特定图案的膜层，图案的结构预先设置在曝光板(photo mask)表面。Photo Mask通用材质为石英。通过Photo mask曝光形成的图案具有很高的精度，精度通常在微米级。通过使用不同图案的曝光板，经历多次循环的成膜、涂胶、曝光、显影、蚀刻，最终形成驱动像素的薄膜晶体管(thin film transistor，TFT)结构。对于同一层薄膜，往往需要移动photo mask在基板的不同位置进行曝光，在移动photo mask过程中，很难将photo mask精准地移动至相应位置，容易导致位置偏差。OLED制程：目前已经量产、建设的OLED面板企业，一般采用真空蒸镀技术形成有机和金属薄膜，即：在真空环境(～10-5Pa)，加热有机材料，材料受热升华，通过具有特殊图案的掩膜板(evaporation mask),在经历Array制程的玻璃基板表面形成具有一定形状的有机\\金属薄膜，经历多种材料的连续沉积成膜，即可形成具有多层薄膜的OLED结构。掩膜板(Mask)通常采用铁镍合金(Invar)材质，简称金属mask，包括精细型金属mask(fine mask)和开口型金属mask(open mask)，具体地，铁镍合金薄片(30～200um)焊接在不锈钢金属框架四边。采用利用掩膜板(mask)形成具有特殊结构的薄膜层，涉及多个过程：(1)掩膜的网面(mask sheet)的加工；(2)网面和金属框架的焊接，制造成可用于面板生产的Mask；(3)Mask经过运输到达面板生产企业；(4)Mask投入前首次清洗；(5)Mask和基板的对位；(6)真空蒸镀(Mask Sheet受热)；(7)Mask清洗、检测并循环使用等。在整个过程中，厂商的加工的规格偏差、运输异常，面板生产企业内Mask的清洗、搬运，使用者错误操作等都可能造成薄膜层的设计规格和实际规格的偏差，甚至损坏mask有效面，影响产品制程，造成产品不良。因此，正式生产以前和生产期间监控设计图形和实际成膜图形之间的规格偏差，对OLED面板生产有重要意义。针对该问题，目前的改善做法包括以下几个方面：(1)面板生产企业积极地管控入厂Mask开口精度、总间距(Total Pitch，TP)、下垂量等，以此管制来料金属Mask的异常。(2)对于经历蒸镀的首片基板进行显微镜(通常使用UV显微镜)检查，即：将具有蒸镀图形的基板放置在显微镜平台,量测指定点、蒸镀图形到参考点或图形的距离，具体地涉及图案定位、间距测量，同时将结果与设计规格比较，从而知悉实际薄膜和设计薄膜的规格偏差。但是，在连续生产前，首片检查要求操作人员熟悉显微镜的使用，而且非常熟悉设计规格，才有能力判断蒸镀成膜图形OK/NG。当需要进行多个点位图形的测量时，需重复操作显微镜(定点、定边界、测距等操作)，更显得繁琐。连续生产期间，随机抽取基板进行检查，此时迅速测量并判断薄膜层位置是否符合规格非常重要,否则将导致大量产品报废，此时反复的操作显微镜测量图形，非常耗时。特别地，测量精细金属掩膜(Fine Metal Mask，FMM)形成的有机图案时，因为有机图形尺寸、图形间距较小(10um～100um)，往往需要切换显微镜镜头，再进行一系列图形测量，非常不方便。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种监测金属掩膜板形成图案位置的方法以及基板，能够方便、快速完成OLED面板的检查，进而判断掩膜板是否异常，能满足快速应对随机抽取的多片基板的监测需求。本专利技术提供一种监测金属掩膜板形成图案位置的方法，包括：提供一掩膜板及一基板，其中掩膜板上设置有多个检测开口，基板上对应设置有多个图案测试区，图案测试区包括多个标尺图案；应用掩膜板在基板上沉积与检测开口对应的检测图案；根据检测图案的边缘与各标尺图案相对位置关系确定检测图案在基板上的实际位置。其中，根据检测图案的边缘与标尺图案相对位置关系确定检测图案在基板上的实际位置的步骤之后，进一步包括：获取实际位置与设计位置的偏差，进而判断掩膜板是否出现异常。其中，掩膜板上进一步设置有多个有效开口；检测开口设置在掩膜板有效开口所形成的有效区域外围，或者设置在掩膜板有效区域内，且穿插在有效开口之间。其中，检测图案的边缘的设计位置位于图案测试区的中心，标尺图案分布在检测图案的边缘的设计位置的两侧，呈左右或上下对称。其中，每一标尺图案的附近增加数字，以指示标尺图案距离固定参考点的距离。其中，检测开口的每个边缘在基板上对应设置有至少一个标尺图案区域，每个标尺图案区域包括多个标尺图案。其中，形成检测图案的薄膜为光致发光材料，根据检测图案的边缘与各标尺图案相对位置关系确定检测图案在基板上的实际位置的步骤进一步包括：利用紫外光激发检测图案，并根据检测图案形成的发光图案确定检测图案的边缘与各标尺图案相对位置关系。其中，基板上进一步设置有用于辅助识别检测图案的边缘的参考图案。其中，参考图案为垂直于检测图案的边缘设置的金属线或金属氧化物线。本专利技术还提供一种基板，基板上设置有多个图案测试区，图案测试区包括多个标尺图案，标尺图案用于标定应用金属掩膜板在基板上形成的检测图案的实际位置。通过上述方案，本专利技术的有益效果是：本专利技术通过在掩膜板上设置有多个检测开口，基板上对应设置有多个图案测试区，图案测试区包括多个标尺图案；应用掩膜板在基板上沉积与检测开口对应的检测图案；根据检测图案的边缘与各标尺图案相对位置关系确定检测图案在基板上的实际位置，能够方便、快速完成OLED面板的检查，进而判断掩膜板是否异常，能满足快速应对随机抽取的多片基板的监测需求。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：图1是本专利技术实施例的监测掩膜板形成图案位置的方法的流程示意图；图2a是本专利技术实施例的检测开口设置在有效开口所形成的有效区域外围的掩膜板的结构示意图；图2b是与图2a中的掩膜板对应的基板的结构示意图；图3a是本专利技术实施例的检测开口穿插在有效开口之间的掩膜板示意图；图3b是与图3a中的掩膜板对应的基板的结构示意图；图4是本专利技术第一实施例的标尺图案的结构示意图；图5是本专利技术第二实施例的标尺图案的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部实施例。基于本专利技术中的实施例，本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种监测掩膜板形成图案位置的方法，其特征在于，所述方法包括：提供一掩膜板及一基板，其中所述掩膜板上设置有多个检测开口，所述基板上对应设置有多个图案测试区，所述图案测试区包括多个标尺图案；应用所述掩膜板在所述基板上沉积与所述检测开口对应的检测图案；根据所述检测图案的边缘与各所述标尺图案相对位置关系确定所述检测图案在所述基板上的实际位置。

【技术特征摘要】
1.一种监测掩膜板形成图案位置的方法，其特征在于，所述方法包括：提供一掩膜板及一基板，其中所述掩膜板上设置有多个检测开口，所述基板上对应设置有多个图案测试区，所述图案测试区包括多个标尺图案；应用所述掩膜板在所述基板上沉积与所述检测开口对应的检测图案；根据所述检测图案的边缘与各所述标尺图案相对位置关系确定所述检测图案在所述基板上的实际位置。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述检测图案的边缘与所述标尺图案相对位置关系确定所述检测图案在所述基板上的实际位置的步骤之后，进一步包括：获取实际位置与设计位置的偏差，进而判断所述掩膜板是否出现异常。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜板上进一步设置有多个有效开口；所述检测开口设置在所述掩膜板有效开口所形成的有效区域外围，或者设置在所述掩膜板有效区域内，且穿插在所述有效开口之间。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述检测图案的边缘的设计位置位于所述图案测试区的中心，所述标尺图案分布在所述检测图案的边缘的设计位置的两侧，呈左右或上下对称。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋谦，金江江，黄静，武志勇，顾宇，黄金昌，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42