掩膜板制造技术

本发明专利技术实施例提供一种掩膜板，包括：遮光区和透光区，所述掩膜板还包括：衍射区，所述衍射区设置在所述透光区中，用于使透射光衍射。本发明专利技术实施例的掩膜板，通过在透光区中设置衍射区，使透射光发生衍射，从而增强过孔处的曝光强度，消除过孔处光刻胶的残留，提高过孔的解析度，改善产品良品率。

mask

The embodiment of the invention provides a mask plate, which comprises a light shielding zone and a light transmitting area, wherein the mask plate also comprises a diffraction zone, wherein the diffraction region is arranged in the light transmitting zone for diffraction of the transmitted light. The mask of the embodiment of the invention, the diffraction zone is arranged in the transparent area, so that the transmission light diffraction, thus enhanced the exposure intensity hole, eliminating the residual hole of the photoresist, improve hole resolution, improve product yield.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板
本专利技术涉及光刻
，特别是涉及一种掩膜板。
技术介绍
随着科学技术的不断进步，视觉资讯在人们的生活中的地位越来越重要，因而承载视觉资讯信息的平板显示器件也在人们生活中占据了越来越重要的地位。这些平板显示器件包括液晶显示器件(LCD)，有机发光二极管(OLED)，场发射显示(FED)，等离子显示(PDP)等。随着人们生活水平的提高和科技的进步，人们对显示面板的品质需求也在逐渐提高，例如，高分辨率，高色域，快速响应等。这些都对面板制造商的技术提出了严格的要求。随着显示面板分辨率越来越高，显示面板中的布线和过孔的尺寸也越来越小，并且由于过孔的特殊形状(圆形、椭圆形，方形等)设计，相同尺寸下的过孔比线宽更加的难以分辨，这样会出现过孔处光刻胶残留的现象，造成过孔无法解析，影响产品的良品率。例如，如图1和2所示，分别为应用现有技术的掩膜板制作过孔的示意图和现有技术的掩膜板的俯视图。掩膜板包括遮光区11和透光区12。遮光区11对应的基板的其他部分的光刻胶14不会被光线照射，因此，这些光刻胶14保留。透光区12对应过孔13。光线穿过透光区12照射过孔13内的光刻胶，照射后的光刻胶可被腐蚀去除。由于上述的缺陷，过孔13处会出现残留的光刻胶15，造成过孔13无法解析，影响产品的良品率。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种掩膜板，以解决现有技术的掩膜板用于制作过孔时易造成过孔处出现残留的光刻胶的问题。本专利技术的技术方案提供一种掩膜板，包括：遮光区和透光区，所述掩膜板还包括：衍射区，所述衍射区设置在所述透光区中，用于使透射光衍射。进一步，所述衍射区包括：至少一个遮光部和至少一个透光部，其中，所述透光部的相对的两侧之间的距离为0.2～0.5μm。进一步：所述遮光部的宽度为0.2～0.5μm。进一步：当所述遮光部的数量为一个，所述遮光部为环形时，所述透光部为所述环形的遮光部围成的区域。进一步：所述透光部的中心与所述透光区的中心重合。进一步：当所述遮光部的数量为两个以上，所述遮光部为环形时，两个以上的所述环形的遮光部依次套设，所述透光部包括位于最内圈的所述环形的遮光部围成的区域以及相邻套设的两个所述环形的遮光部之间的区域。进一步：位于最内圈的所述环形的遮光部围成的所述透光部的中心与所述透光区的中心重合。进一步：两个以上的所述环形的遮光部同心设置。进一步：所述环形为圆环、正方形环或者长方形环。进一步：当所述遮光部的数量为两个以上，所述遮光部为条形时，两个以上的所述遮光部相互平行设置，所述透光部为相邻的两个所述遮光部之间的区域。进一步：所述遮光部的数量为双数，所述透光部的数量为单数时，位于最中间的所述透光部的中心与所述透光区的中心重合。进一步：所述透光区的边缘与相邻的所述遮光部之间的距离为1～2μm。这样，本专利技术实施例中，设置与过孔对应的透光区，并在透光区中设置衍射区，使透射光发生衍射，从而增强过孔处的曝光强度，消除过孔处光刻胶的残留，提高过孔的解析度，提高产品良品率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是应用现有技术的掩膜板制作过孔的示意图；图2是现有技术的掩膜板的俯视图；图3是应用本专利技术实施例的掩膜板制作过孔的示意图；图4是透射光在本专利技术实施例的掩膜板发生衍射的示意图；图5是本专利技术实施例的掩膜板和现有技术的掩膜板的曝光强度的对比示意图；图6是本专利技术实施例的一种掩膜板的侧视图；图7是本专利技术实施例的另一种掩膜板的侧视图；图8是本专利技术实施例1的掩膜板的俯视图；图9是本专利技术实施例2的掩膜板的俯视图；图10是本专利技术实施例3的掩膜板的俯视图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例公开了一种掩膜板。如图3所示，为应用本专利技术实施例的掩膜板制作过孔的示意图。该掩膜板包括：遮光区31、透光区32和衍射区33。具体的，该遮光区31、透光区32和衍射区33可设置在基板36的表面上。基板36为一种透明材料，一般可选择石英玻璃。其中，根据需要形成的过孔34的形状的不同，遮光区31可以包围透光区32(如图3所示)，或者，遮光区31可以被透光区32包围。遮光区31遮挡光线，从而不会改变该位置的光刻胶35的特性，遮光区31对应的基板的位置处的光刻胶35不会被去除。遮光区31可通过在基板36的表面上设置黑色材料形成。该黑色材料可以为Cr，CrO2等黑色遮光金属或者金属氧化物。透光区32对应过孔34。透光区32可通过在基板36的表面上不设置黑色材料形成。该透光区32的形状一般可根据过孔34的形状确定。光线可穿过透光区32照射过孔34处的光刻胶，使此处的光刻胶曝光，从而可将该部分光刻胶腐蚀去除。一般的，透光区32的中心正对过孔34的中心，从而可使透过的光线照射过孔34的全部区域。衍射区33设置在透光区32中，用于使透射光衍射。如图4所示，为透射光在本专利技术实施例的掩膜板发生衍射的示意图。通过采用该掩膜板使透射光衍射，可增强曝光强度，有效改变照射的光刻胶的性质，从而可避免现有技术中易产生光刻胶残留的问题，提高过孔34的解析度，提高产品良品率。如图5所示，为本专利技术实施例的掩膜板和现有技术的掩膜板的曝光强度的对比示意图，其中，a表示本专利技术实施例的掩膜板的曝光强度，b表示现有技术的掩膜板的曝光强度。从图5可以看出，本专利技术实施例的掩膜板的曝光强度比现有技术的掩膜板的曝光强度大。如图3所示，应用本专利技术实施例的掩膜板后，过孔34处没有残留的光刻胶。具体的，如图6和7所示，该衍射区33包括：至少一个遮光部331和至少一个透光部332。该遮光部331可通过在基板36的表面上设置黑色材料形成，该透光部332可通过在基板36的表面上不设置黑色材料形成。其中，透光部332的相对的两侧之间的距离S为0.2～0.5μm。该特定尺寸的透光部332可提高衍射效果。多个透光部332的相对的两侧之间的距离S可以相同，也可以不同。优选的，上述的遮光部331的形状可为环形、条形等等。遮光部331的宽度L为0.2～0.5μm。该特定尺寸的遮光部331与特定尺寸的透光部332配合，可进一步提高衍射效果。多个遮光部331的宽度L可以相同，也可以不同。优选的，透光区32的边缘与相邻的遮光部331之间的距离D为1～2μm。该特定距离可进一步提高衍射效果。下面以具体的实施例对本专利技术的掩膜板做进一步说明。实施例1如图8所示，为本专利技术实施例1的掩膜板的俯视图。实施例1的掩膜板的结构与上述的掩膜板的结构相同，包括：遮光区81、透光区82和衍射区83。衍射区83包括遮光部831和透光部832。其中，遮光部831的数量为一个。因此，为了形成衍射区83，该衍射区83的遮光部831为环形。该环形可以是圆环、正方形环或者长方形环等等。如图8(a)所示，该环形为长方形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，包括：遮光区和透光区，其特征在于，所述掩膜板还包括：衍射区，所述衍射区设置在所述透光区中，用于使透射光衍射。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括：遮光区和透光区，其特征在于，所述掩膜板还包括：衍射区，所述衍射区设置在所述透光区中，用于使透射光衍射。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述衍射区包括：至少一个遮光部和至少一个透光部，其中，所述透光部的相对的两侧之间的距离为0.2～0.5μm。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于：所述遮光部的宽度为0.2～0.5μm。4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于：当所述遮光部的数量为一个，所述遮光部为环形时，所述透光部为所述环形的遮光部围成的区域。5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于：所述透光部的中心与所述透光区的中心重合。6.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于：当所述遮光部的数量为两个以上，所述遮光部为环形时，两个以上的所述环形的遮光部依次套设，所述透光部包括位于最内圈的所述环形的遮光部围成的区域以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：张锋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11