一种具有曝光补正的光罩制造技术

本发明专利技术提供一种具有曝光补正的光罩，所述光罩包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域，所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域，所述补正子区域设置在所述曝光子区域的锐角顶点周围。本发明专利技术通过将补正子区域设置在所述曝光子区域的锐角顶点周围，当光通过补正子区域，发生衍射，与通过锐角照射到光阻上的光相互增强，从而增加锐角顶点周围的曝光强度，从而达到增加曝光能力，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升到显示器的显示效果。

Photomask with exposure correction

The invention provides an exposure correction mask, the mask includes a light shielding region and the exposure area is surrounded by the shading area, the exposure area including correction sub area and the area of the photon exposure area correction sub set in the exposure region around the vertex angle of photon. The correction sub area is arranged around the vertex angle the photon exposure area, when the light is diffracted by the Bu Zhengzi area, and by an acute angle to resist the light of mutually reinforcing, thereby increasing the exposure intensity around the vertex angle, so as to increase the exposure, the desired pattern is obtained by etching exposure after then, the uniform electric field distribution, enhance the quality and enhance the production of LCD products, to display the display.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，特别涉及一种具有曝光补正的光罩。
技术介绍
当前，液晶显示器已经广泛的应用在电子显示产品上，如电视、计算机屏幕、笔记本电脑、移动电话等。在液晶显示器中，为保证液晶的偏转角度，需要保证在面板中形成的电场强度。然而，在广视角(FFS)显示模式中，电场为横向分布，从而更需要保证像素电极的曝光精度，从而得到均匀的电场，使液晶均匀偏转。在制作光罩的过程中，当光罩上的尺寸小于曝光机的最小精度，由于曝光精度的限制，不能完全复制设计的图形，假设如果是锐角，经过曝光、蚀刻制作过程后，得到的光罩上的图形会形成圆角，如果使用这样的光罩，会使电场不均匀，影响液晶的偏转，形成暗带，从而影响产品的制作质量，进而影响到显示器的显示效果。故，有必要提供一种光罩，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
为了避免由于曝光精度的限制，不能完全复制光罩设计的图形，本专利技术提供一种具有曝光补正的光罩。本专利技术提供一种具有曝光补正的光罩，包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域，所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域，所述补正子区域设置在所述曝光子区域的锐角顶点周围。在现有的光罩中，由于曝光精度的限制，该曝光区域中的锐角在曝光蚀刻后会变形成圆角形状，这样会导致电场不均匀，影响面板中的液晶偏转，因此通过将补正子区域设置在在所述曝光子区域的锐角顶点周围，且因为锐角的尺寸小于曝光机的曝光最小精度以及补正子区域的宽度小于曝光机的曝光最小精度，这样不会影响的曝光图案，即当光通过补正子区域，发生衍射，与通过锐角照射到光阻上的光相互增强，从而增加锐角顶点周围的曝光强度，从而达到增加曝光能力，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升显示器的显示效果。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，所述补正子区域与所述曝光子区域连通。此为补正子区域的具体位置。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，所述补正子区域包括但不限于类圆形区域。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，当所述补正子区域为圆形区域时，所述圆形区域的直径小于曝光机的曝光最小精度。通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，当所述补正子区域为椭圆形区域时，所述椭圆形区域的长轴方向平行于所述锐角的中线且所述曝光椭圆形的短轴长小于曝光机的曝光最小精度。通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，所述补正子区域与所述曝光子区域通过所述遮光区域分离。此为补正子区域的另一种具体位置。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，所述补正子区域包括但不限于类圆形区域、环形区域以及折线区域中一个。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，当所述补正子区域为圆形区域时，所述圆形区域的直径小于曝光机的曝光最小精度。通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，当所述补正子区域为环形区域时，所述的环形区域的宽度小于曝光机的曝光最小精度。通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果。在本专利技术中的具有曝光补正的光罩，当所述的补正子区域为折线区域时，所述折线区域的宽度小于曝光机的曝光最小精度。通过对补正子区域的形状及大小的限制，可以更加优化补正效果，进而提高显示器的显示效果。与现有技术相比，本专利技术提供的具有曝光补正功能的光罩中曝光子区域的锐角顶点周围形成至少一补正子区域，该补正子区域取代了原有的锐角分顶点部分或补正子区域设置在锐角的周围，因此通过将补正子区域设置在在所述曝光子区域的锐角顶点周围，且因为锐角的尺寸小于曝光机的曝光最小精度以及补正子区域的宽度小于曝光机的曝光最小精度，这样不会影响的曝光图案，即通过增加曝光面积，当光通过补正子区域，发生衍射，与通过锐角照射到光阻上的光相互增强，从而增加锐角顶点周围的曝光强度，从而达到增加曝光能力，经曝光蚀刻后得到想要的图案，进而使得电场分布均匀，提升液晶产品制作质量，进而提升显示器的显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本专利技术的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。图1为本专利技术中的光罩的实施例一中补正子区域为圆形区域的结构示意图；图2为本专利技术中的光罩的实施例二中补正子区域为椭圆形区域的结构示意图；图3为本专利技术中的光罩的实施例三中补正子区域为圆形区域的结构示意图；图4为本专利技术中的光罩的实施例四中补正子区域为环形区域的结构示意图；图5为本专利技术中的光罩的实施例五中补正子区域为折线区域的结构示意图；图6为本专利技术中的光罩的实施例五中补正子区域为折线区域且该折线区域从该折线区域的交叉点沿两端两逐渐变窄的结构示意图。具体实施方式请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本专利技术具体实施例，其不应被视为限制本专利技术未在此详述的其它具体实施例。请参阅图1，为本专利技术的一较佳实施例提供的具有曝光补正功能的光罩1。该光罩1包括遮光区域11和曝光区域12。其中该曝光区域12被该遮光区域11包围。阴影部分为遮光区域11，空白部分为曝光区域12。具体的，该遮光区域11包括本体111及自该本体111向外延伸而成的延伸部112。本实施例中，该本体111为矩形。该本体111包括一底边1111。可以理解的，其他实施例中该本体111的形状可以根据实际需求进行适应性调整，如方形、多边形等。本实施例中，所述延伸部112自该本体111的底边1111斜向外延伸而成。该延伸部112大致呈U行结构。本实施例中，该延伸部112的首尾与该本体111的底边1111连接形成所述曝光区域20。可以理解的，其他实施例中，所述延伸部112的形状及数量根据实际需要进行适应性调整，只有能够与本体111连接配合形成所述曝光区域12即可。该曝光区域12包括曝光子区域122和补正子区域121。具体的，本实施例中，该曝光子区域122大致呈菱形。也即所述延伸部112与该本体111配合形成的曝光区域12大致呈菱形。该曝光区域12位于该延伸部112与本体111连接的临界位置形成至少一锐角顶点区域。该补正子区域121设置形成在该锐角顶点区域。也即该补正子区域121设置在该曝光子区域122的锐角顶点周围。具体的，该补正子区域121与该曝光子区域122连通。优选的，该补正子区域包括但不限于类圆形区域。本实施例中，所述补正子区域121为圆形区域，该圆形区域121的直径小于曝光机的曝光最小精度。为了达到更加的补正效果，通过多次实验可以得出，当该圆形区域121的圆心设置在锐角顶点区域的对角线上，可以使补正效果更佳，即更好的还原锐角图案，这样可以避免原锐角，因为曝光精度的限制，在曝光、蚀刻之后会形成圆角形状导致电场不均匀的情况。请参阅图2，为本专利技术的一较佳实施例二提供的具有曝光补正功能的光罩2。该光罩2包括遮光区域21和曝光区域22。其中该曝光区域22被该遮光区域21包围。阴影部分为遮光区域21，空白部分为曝光区域22本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有曝光补正的光罩，包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域,其特征在于，所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域，所述补正子区域设置在所述曝光子区域的锐角顶点周围。

【技术特征摘要】
1.一种具有曝光补正的光罩，包括遮光区域和被遮光区域包围的曝光区域,其特征在于，所述曝光区域包括补正子区域以及曝光子区域，所述补正子区域设置在所述曝光子区域的锐角顶点周围。2.根据权利要求1所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述补正子区域与所述曝光子区域连通。3.根据权利要求2所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，所述补正子区域包括但不限于类圆形区域。4.根据权利要求3所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，当所述补正子区域为圆形区域时，所述圆形区域的直径小于曝光机的曝光最小精度。5.根据权利要求3所述的具有曝光补正的光罩，其特征在于，当所述补正子区域为椭圆形区域时，所述椭圆形区域的长轴方向平行于所述锐角的中线且所述曝光椭圆形的短轴长小于...

【专利技术属性】
技术研发人员：张春倩，陈彩琴，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42