光罩检查机制造技术

本实用新型专利技术涉及一种光罩检查机，其于机架上设有一位于载台上方的光学影像处理模组，且该光学影像处理模组与该载台可相对线性位移，又该光学影像处理模组可向下撷取该载台上光罩的影像，再者该上检测模组于该光学影像处理模组一侧另设有一导光单元，该导光单元具有一光源及一导光板，其中该导光板可导引该光源的光线以线性方式照射于该光学影像处理模组的扫描位置，藉此，可利用由线性影像感光元件构成的光学影像处理模组，快速扫描光罩的表面，且通过斜设的导光单元导光板的作用，使光源的光线可斜射于光学影像处理模组扫描处，而提高其聚焦效果，从而提高污染物的辨识率，故能有效增进其检查效率与准确率，减少不必要的人力及误判状况，进一步可提高晶圆后续加工的合格率。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光罩的检查技术，更详细而言是关于一种可快速、且准确检出光罩表面污染物的光罩检查机。
技术介绍
按，在半导体的制程中，是以微影(Photolithography)与蚀刻制程(EtchingProcess)来完成晶圆表面图案的制作，其中光罩(Mask)为其不可或缺的关键。光罩是一绘有特定图案的透光玻璃片，其中包含一具图形(Pattern)的图案区，供利用一光源，将图案区上的图形转移至晶圆上的光阻，再经过蚀刻制程于晶圆表面完成图案。而光罩为了保护图案区上的图形，图案区的上方通常会设有一图罩护膜(Pellicle)，避免图案区上的图形遭受刮伤、污染或破坏。然而，光罩污染是一直存在发生的问题，在操作波长等于或小于248纳米长的光微影制程中，高解析度光罩特别容易受到污染。其中一种光罩污染称作为雾状污染。雾状污染是一种沉淀物或杂质，其沉淀物是由清洗光罩过程后所残留的化学物质所形成，而杂质系由无尘室或设备环境交叉接触所产生。例如，于清洗光罩过程中，若使用含有硫酸盐及钱的溶液，则当光罩曝光于短波长的紫外光(Ultrav1let Light)，如波长为193纳米长或248纳米长，污染本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩检查机，其特征在于其至少包含有：一机架，该机架上设有一供承载一光罩的载台；一上检测模组，其于该机架上设有一位于该载台上方的光学影像处理模组，且该光学影像处理模组与该载台能够相对线性位移，又该光学影像处理模组能够向下撷取该载台上该光罩的影像，供扫描、辨识、标示及储存该光罩的污染物，再者该上检测模组于该光学影像处理模组一侧另设有一导光单元，该导光单元具有一光源及一导光板，其中该导光板能够导引该光源的光线以线性方式照射于该光学影像处理模组的扫描位置，且该导光单元斜射的光线与该光学影像处理模组垂直的扫描线间形成有一夹角；藉此，进而组构成一迅速、且准确检出异物的光罩检查机。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，邱铭乾，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，陈明生，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71