一种掩膜板检测装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术的目的是提供一种掩膜板检测装置和方法，其中所述装置包括：设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；检测板用于当平行光通过掩膜板上的透光区域照射到多个光敏电阻上时，检测多个光敏电阻的电阻值，并判断多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与第一光敏电阻的作用区域对应的掩膜板上的第一透光区域的位置信息。本发明专利技术能够确定掩膜板表面是否存在微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同缺陷而造成的损失。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术的目的是提供，其中所述装置包括：设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；检测板用于当平行光通过掩膜板上的透光区域照射到多个光敏电阻上时，检测多个光敏电阻的电阻值，并判断多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与第一光敏电阻的作用区域对应的掩膜板上的第一透光区域的位置信息。本专利技术能够确定掩膜板表面是否存在微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同缺陷而造成的损失。【专利说明】
本专利技术涉及液晶显示器制造过程中的掩膜板处理领域，尤其涉及一种掩膜板检测 装置和方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器（TFT-IXD)以其具有高画质、空间利用率高、低消耗功率、 无辐射等众多优点成为市场的主流。在制备TFT-LCD过程中，多次涉及到掩膜刻蚀工艺，例 如彩色滤光片的制造、阵列基板的制造等，都需要使用掩膜板（Mask)进行曝光显影工艺。 传统的曝光工艺中，经常会由于掩模板Mask表面存在微小的异物，减小了掩膜板 开口区域光的透过性，使得显影后形成的图形Pattern存在共同缺陷。 目前还没有一种简便的方法能够迅速检测出Mask表面是否有微小的异物及异物 存在的位置，因此需要经常清洗Mask，费时费力。有时甚至在清洗Mask后，微小异物依然存 在，如不能及时检出，会对产能及良率有很大的影响。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供，能够确定掩膜板表面是否存在 微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同 缺陷而造成的损失。 为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了 一种掩膜板检测装置，所述装置包括： 设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所 述光敏电阻的作用区域对应； 所述检测板用于当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电 阻上时，检测所述多个光敏电阻的电阻值，并判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标 准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与所述第一光 敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。 上述的掩膜板检测装置，其中，所述光敏电阻的两侧设置有触头，且所述光敏电阻 通过所述触头设置在所述检测板表面。 上述的掩膜板检测装置，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标 准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。 上述的掩膜板检测装置，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分 布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其 中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区 域的面积相同。 上述的掩膜板检测装置，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。 上述的掩膜板检测装置，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。 上述的掩膜板检测装置，其中，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积 时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。 上述的掩膜板检测装置，其中，所述装置还包括： 绝缘板，设置在所述多个光敏电阻与所述检测板之间。 为了实现上述目的，本专利技术实施例还提供了一种掩膜板检测方法，所述方法包 括： 在检测板表面设置多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述 光敏电阻的作用区域对应； 当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，所述检测 板检测所述多个光敏电阻的电阻值； 所述检测板判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，获得判断结果； 当所述判断结果指示所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值 时，所述检测板反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域 的位置信息。 上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值具体 为： 所述检测板测量所述光敏电阻两端的电压值； 所述检测板测量流过所述光敏电阻的电流值； 所述检测板根据所述电压值和所述电流值计算所述光敏电阻的电阻值。 上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标 准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。 上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分 布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其 中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区 域的面积相同。 上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。 上述的掩膜板检测方法，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。 上述的掩膜板检测方法，其中，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积 时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。 在本专利技术实施例中，掩膜板上每个透光区域的位置均与所述光敏电阻的作用区域 对应。由于光敏电阻对光的照射反应非常灵敏，一旦有微小异物遮挡住了掩膜板上的透光 区域，那么与该透光区域对应的光敏电阻的电阻值变化较小，电阻值超过了标准值。进一步 地，就可以根据该光敏电阻的作用区域确定掩膜板上存在微小异物的区域。 【专利附图】【附图说明】 图1为本专利技术实施例提供的一种掩膜板检测装置的结构示意图； 图2为本专利技术实施例提供的掩膜板内部结构示意图； 图3为本专利技术实施例提供的另一种掩膜板检测装置的结构示意图； 图4a_4b为本专利技术实施例提供的光敏电阻设置的俯视图； 图5为本专利技术实施例提供的掩膜板检测方法的流程示意图； 图6为本专利技术实施例提供的检测板的俯视图； 其中，主要组件符号说明： 1 :光敏电阻、2 :光敏电阻的触头、3 :检测板、：4 :掩膜板、5 :平行光、6 :异物、7 :透 光区域、8 :绝缘板。 【具体实施方式】 为使本专利技术实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附 图及具体实施例进行详细描述。 本专利技术实施例提供了 一种掩膜板检测装置，所述装置如图1所示，包括： 设置在检测板3表面的多个光敏电阻1，其中所述掩膜板4上每个透光区域7的位 置与所述光敏电阻1的作用区域对应； 所述检测板3用于当平行光5通过所述掩膜板4上的透光区域7照射到所述多个 光敏电阻1上时，检测所述多个光敏电阻1的电阻值，并判断所述多个光敏电阻1的电阻值 是否超过标准值，当所述多个光敏电阻1中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈 与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。 其中优选地，所述光敏电阻1的两侧设置有触头2,且所述光敏电阻1通过所述触 头2设置在所述检测板3表面。 每个光敏电阻的作用区域与掩膜板上的一个或若干个透光区域对应。 由于光敏电阻1对光的照射反应非常灵敏，一旦有微小异物遮挡住了掩膜板4上 的透光区域7 (这里本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板检测装置，其特征在于，所述装置包括：设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；所述检测板用于当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，检测所述多个光敏电阻的电阻值，并判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：肖宇，袁剑峰，吴洪江，黎敏，姜晶晶，李晓光，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11