灰色调掩模的检查装置及制造方法、图案转印方法制造方法及图纸

在本发明专利技术的灰色调掩模的检查方法中，经由照明光学系统(2)向灰色调掩模(3)照射从光源(1)发出的规定波长的光束，经由物镜系统(4)，由摄像部件(5)摄像经过灰色调掩模(3)的光束，求出摄像图像数据，根据该摄像图像数据，取得灰色调掩模的包含半透光部的区域的透过光强度分布数据。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于检查曝光用灰色调掩模的性能的灰色调掩模检查方法，尤其是主要涉及ー种平板显示器(下面称为FPD)装置制造用的大型灰色调掩模的检查方法。而且，本专利技术涉及ー种液晶装置制造用灰色调掩模的制造方法及图案转印方法。
技术介绍
以往，就光掩模的性能检查而言，在专利文献I (特开平5-249656号公报)中公开了ー种利用摄像元件(下面称为CCD)对成为被检体的光掩模的透过照明光的強度分布进行检测、来检查缺陷的装置。该检查装置中，将检查光聚光照射到形成有O. 3 μ m间距左右的细微图案的光掩模上，放大照射透过了该光掩模的检查光，利用分辨率为7 μ m左右的CXD进行摄像。S卩，在该检查装置中，将光掩模水平载置于台架(stage)上，经照明光学系统向该光掩模照射来自光源的检查光。台架可沿光掩模的面内方向移动操作。并且，在该检查装置中，使经过光掩模的检查光放大照射到摄像元件上来成像，得到光掩模的像。在专利文献2(特开平4-328548号公报)中，记载有一种可检测当通过曝光装置实际转印到晶片上时的光掩模的缺陷或异物的检查装置。在该检查装置中，除了以往的检查装置可检测的缺陷或异物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种灰色调掩模的检查方法，所述灰色调掩模用于显示装置的制造，且该灰色调掩模在透明基板上形成包含遮光部、透光部和透过曝光光的一部分的半透光部的图案，通过基于曝光装置的包含i线、h线、g线的混合曝光光，将所述图案转印到被转印体上，从而在所述被转印体上的与所述半透光部对应的部分形成膜厚比对应于所述遮光部的部分薄的抗蚀剂图案，所述灰色调掩模的检查方法的特征在于，包括：经由照明光学系统向所述灰色调掩模照射从光源发出的规定波长的光束，经由物镜系统，由摄像部件对透过了该灰色调掩模的光束进行摄像，从而求出摄像图像数据的步骤；和根据所述摄像图像数据，获取所述灰色调掩模的包含半透光部和遮光部的区域的透过光的强度分...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉田光一郎，平野照雅，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：