用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具及制造方法技术

本发明专利技术公开了一种用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具及制造方法。该复合软模具包括：特征结构层、刚性限制层和弹性支撑层。其中，特征结构层包含所要复制的微纳米图形结构，采用透明的氟聚合物基材料；刚性限制层位于特征结构层之上，限制特征结构层的横向变形和纵向变形；弹性支撑层位于刚性限制层上。该复合软模具的制造方法包括：（1）制造母模；（2）制造并结合刚性限制层和弹性支撑层；（3）制作特征结构层；（4）结合特征结构层和刚性限制层；（5）脱模。该复合软模具的显著的优点：高精度、大面积、与非平整衬底良好的共形接触能力、易于脱模和长的使用寿命，它特别适合于大尺寸、高分辨率非平整衬底晶圆级纳米压印工艺。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种纳米压印软模具结构及其制造方法，尤其涉及ー种用于大尺寸非平整衬底晶圆级纳米压印エ艺的复合软模具结构及制造方法，属微纳米制造

技术介绍
纳米压印光刻(NanoimprintLithography, NIL)是一种全新微纳米图形化的方法，它是ー种使用模具通过抗蚀剂的受力变形实现其图形化的技木。与其它微纳米制造方法相比，NIL具有高分辨率、超低成本(国际权威机构评估同等制作水平的NIL比传统光学投影光刻至少低ー个数量级)和高生产率的特点，尤其在大面积微纳米结构和复杂三维微纳米结构制造方面具有突出的优势。随着纳米压印光刻在LED纳米图形化、高密度磁盘介质(HDD)、光学器件(如光学透镜、衍射光学元件、光栅等)、太阳能光伏器件、微流控器件等领域的广泛应用，对于大面积和晶圆级纳米压印エ艺的需求越来越迫切，同时压印面积也 变得越来越大、复形精度的要求也愈来愈高。目前实现大面积或者整片晶圆纳米压印光刻的方法主要有两种第一种是采用步进重复纳米压印エ艺(Step-and-repeat NIL);第二种是采用单步整片晶圆纳米压印光刻。与采用步进重复纳米压印光刻エ艺实现大面积图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具，其特征是，它包括：特征结构层、刚性限制层和弹性支撑层；所述特征结构层包含所要复制的微纳米图形结构；刚性限制层位于特征结构层之上，限制特征结构层的横向变形和纵向变形；弹性支撑层位于刚性限制层之上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：兰红波，
申请(专利权)人：青岛理工大学，
类型：发明
国别省市：