一种用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于非平面基材的蚀刻方法，其包括：提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分；通过图形转移工具对覆盖在非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光；对进行曝光后的感光抗蚀剂进行显影；使用立体蚀刻方法对进行显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻。本发明专利技术还公开了一种用于非平面基材的蚀刻装置。本发明专利技术的用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置通过在非平面基材中非平面的至少一部分覆盖感光抗蚀剂并对感光抗蚀剂进行曝光和显影，再使用立体蚀刻方法对显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻，能够适应于大尺寸的非平面基材。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及图形蚀刻
，特别是涉及一种用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置。
技术介绍
对于在非平面基材表面制作线路图形，现有技术一般采用激光表面改性技术以及电镀工艺来实现。激光表面改性技术由于其大幅度提高了基材表面的硬度、耐磨性等，并且能够控制成本，目前得到广泛应用。电镀工艺由于工艺成熟，目前应用也较为广泛。但是，由于激光表面改性技术存在激光束小，导致其处理面小，因此不适应于大尺寸的非平面基材；电镀工艺采用的电镀槽是根据需要电镀的非平面基材设计的，若非平面 基材的尺寸过大，则电镀槽的尺寸必须相应增大，导致电镀过程中的控制精度降低。因此电镀工艺也不适应于大尺寸的非平面基材。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置，能够适应于大尺寸的非平面基材。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种用于非平面基材的蚀刻方法，其包括提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分；通过图形转移工具对覆盖在非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光；对进行曝光后的感光抗蚀剂进行显影；使用立体蚀刻方法对进行显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻。其中，使用立体蚀刻方法对进行显影后暴露出来的非平面基材的步骤具体为在非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一喷嘴，使得多个喷嘴相对非平面基材呈立体分布；喷嘴向显影后暴露出来的非平面基材喷射腐蚀剂，从而使得非平面基材形成预定图形。其中，喷嘴向显影后暴露出来的非平面基材喷射腐蚀剂的步骤包括在旋转非平面基材的同时喷嘴向非平面基材喷射腐蚀剂，蚀刻显影后暴露出来的非平面基材。其中，用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分的步骤包括将非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的每一部分。其中，感光抗蚀剂为树脂型光感材料。其中，非平面基材为超材料非平面基材。为解决上述技术问题，本专利技术还提供了一种用于非平面基材的蚀刻装置，其包括承载部，用于承载非平面基材，非平面基材中非平面的至少一部分覆盖有已曝光和已显影的感光抗蚀剂；用于喷射腐蚀剂的至少一喷嘴，相对承载部设置；其中，至少一喷嘴使用立体蚀刻方法对显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻。其中，承载部包括旋转机构，旋转机构驱动承载部进行旋转。其中，装置包括溶液槽，用于盛载感光抗蚀剂；操作机构，用于将非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得非平面基材中非平面的每一部分均覆盖有感光抗蚀剂，再将非平面基材置入承载部。其中，喷嘴为多个，多个喷嘴相对承载部呈立体分布，以使非平面基材中非平面的每一部分均相对设置有一喷嘴。本专利技术的用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置通过在非平面基材中非平面的至少一部分覆盖感光抗蚀剂并对感光抗蚀剂进行曝光和显影，再使用立体蚀刻方法对显影后暴露出来的非平面基材进行蚀 刻，蚀刻范围大，能够适应于对大尺寸的非平面基材的蚀刻处理。附图说明图I是本专利技术蚀刻方法一实施方式的流程图；图2是图I所示的蚀刻方法的具体流程图；图3是本专利技术蚀刻装置一实施方式的侧视示意图。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施方式中的附图，对本专利技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本专利技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本专利技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，均属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，图I是本专利技术蚀刻方法一实施方式的流程图。蚀刻方法包括以下步骤步骤SlO :提供非平面基材。其中，非平面基材的表面不是平面，例如非平面基材呈半球形或锥体形。在本实施方式中，非平面基材是超材料非平面基材。超材料是指具有天然材料所不具备的超常物理性质的人工复合结构或复合材料。通过在材料的关键物理尺度上的结构有序设计，可以突破某些表观自然规律的限制，从而获得超出自然界固有的普通性质的超常材料功能。超材料的性质和功能主要来自于其内部的结构而非构成它们的材料。步骤S20 :用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分。其中，步骤S20进一步包括将非平面基材浸入感光抗蚀剂中并取出，使得感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分。当然，本领域技术人员可以容易的采用其它方式在非平面基材中非平面的至少一部分覆盖感光抗蚀剂，例如采用淋洒、喷洒等方式。感光抗蚀剂是一种经光照后能够改变抗蚀能力的高分子化合物，并且是一种酸性腐蚀液(主要包括盐酸、次氯酸钠或三氯化铁等成分)。在本实施方式中，感光抗蚀剂为树脂型光感材料。非平面基材浸入感光抗蚀剂的时间可以根据实际需要设定。步骤S30 :通过图形转移工具对覆盖在非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光。其中，可以根据预定图形对感光抗蚀剂进行曝光。预定图形设于图形转移工具上，光线透过图形转移工具对感光抗蚀剂进行曝光。在本实施方式中，通过采用立体曝光方法对感光抗蚀剂进行曝光，其步骤包括在非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一光源，使得多个光源相对非平面基材呈立体分布；在每一光源和非平面基材中非平面的每一部分之间设置图形转移工具；利用光源照射图形转移工具，从图形转移工具透射的光线使得感光抗蚀剂发生反应，从而使得图形转移工具上的图形转移至非平面基材。其中，为了使非平面基材的非平面全部处于光源的照射范围内，在非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一光源。为了节约光源数量，提高光照效率，可以在非平面基材中非平面的前后左右四个方向上各设置一个光源。通过立体曝光方法，感光抗蚀剂受到光照的部分发生反应后，在图形转移工具的保护下没有受到光照的部分便形成预定图形；或者感光抗蚀剂受到光照的部分形成预定图形。步骤S40 :对进行曝光 后的感光抗蚀剂进行显影。其中，感光抗蚀剂进行显影有两种方式感光抗蚀剂受到光照的部分经过显影后消失；感光抗蚀剂没有受到光照的部分消失。步骤S50 :使用立体蚀刻方法对进行显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻。其中，已曝光的感光抗蚀剂经过显影后，非平面基材的非平面便部分暴露出来，使用立体蚀刻方法蚀刻暴露出来的非平面基材的非平面后，便形成预定图形。立体蚀刻方法相较现有技术只在非平面基材的单一方向进行蚀刻的基础上，在非平面基材的多方向上进行立体蚀刻。下面，将对立体蚀刻方法进行详细说明。请一并参阅图2，图2是图I所示的蚀刻方法的具体流程图。在蚀刻方法中，步骤S50具体分为以下步骤步骤S51 :在非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一喷嘴，使得多个喷嘴相对非平面基材呈立体分布。其中，由于非平面基材的非平面相对于平面而言呈三维立体分布，为了使非平面基材的非平面全部处于喷嘴的喷射范围内，将非平面基材中非平面划分为多个部分，在非平面基材中非平面的每一部分均相对设置一喷嘴。为了尽量减少喷嘴数量，提高喷射效率，可以在非平面基材中非平面的前后左右四个方向上各设置一个喷嘴。步骤S52 :喷嘴向显影后暴露出来的非平面基材喷射腐蚀剂，从而使得非平面基材形成预定图形。其中，图形转移工具可以是菲林、钢网等图形承载物。通过图形转移工具进行曝光和显影后，剩余的感光抗蚀剂形成的图形即为图形转移工具上的图形。各个喷嘴均向显影后暴露出来的非平面基材喷射腐蚀剂，经过蚀刻后，非平面基材的非平面受到感光抗蚀剂保护本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于非平面基材的蚀刻方法，其特征在于，所述方法包括：提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖所述非平面基材中非平面的至少一部分；通过图形转移工具对所述覆盖在非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光；对进行所述曝光后的感光抗蚀剂进行显影；使用立体蚀刻方法对进行所述显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘若鹏，金曦，王旭伟，
申请(专利权)人：深圳光启创新技术有限公司，
类型：发明
国别省市：