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本发明公开了一种用于非平面基材的蚀刻方法，其包括：提供非平面基材；用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分；通过图形转移工具对覆盖在非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光；对进行曝光后的感光抗蚀剂进行显影；使用立体蚀刻方法...
该专利属于深圳光启创新技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳光启创新技术有限公司授权不得商用。

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