The invention discloses a display panel, a manufacturing method thereof and a display device, belonging to the field of liquid crystal display manufacturing. The display panel manufacturing method includes: providing a two display substrate, the two display substrate in each display substrate forming process includes providing a substrate, using nanoimprint technology in the side of the substrate is formed on the wire grid polarizing layer, the wire grid polarizer layer includes a plurality of arrays the wire grid structure; in the two display substrate is formed between the liquid crystal layer; wherein, the two line shows the length direction of the substrate in the vertical grid structure. The display panel and its manufacturing method and display device provided by the embodiment of the invention solves the existing technology prone to warping, Polaroid polarizer inner I PVA contraction LED display device four angle or four angle blue light leakage problem, to realize polarizer attachment process on the display panel in the process. The display panel production capacity. The invention is used for the manufacture of display panels.
【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及液晶显示器制造领域,特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示器已被广泛应用于各种电子产品中,目前的液晶显示器主要包括彩膜基板、阵列基板以及形成于这两个基板间的液晶层以及设于两个基板外表面的偏光片。相关技术中,在制作偏光片时,主要以高分子碘类聚乙烯醇型(I-PVA)为主要偏光材料,其偏光原理主要是,通过拉伸的细长碘分子吸收平行于其长轴方向的偏振光并透过垂直于其长轴方向的偏振光,从而达到了偏光的效果,以这种偏光材料制成的偏光片因具有良好的偏光特性和可量产性而被广泛应用。但是,现有技术中的偏光片是采用贴附的方式附着在玻璃基板的上下表面的,这种贴附的方式不但会增加液晶显示器的厚度,而且容易出现偏光片翘曲的问题。在信赖性测试时由于偏光材料的特性,会出现偏光片内层的I-PVA收缩的问题,导致扭曲向列(英文:TwistNematic;简称:TN)型偏光片出现四角漏光、高级超维转换(英文:ADvancedSuperDimensionSwitch;简称:ADS)型偏光片出现四角发蓝的问题。
技术实现思路
为了解决现有技术中容易出现偏光片翘曲、偏光片内层的I-PVA收缩导致显示装置四角漏光或四角发蓝的问题,本专利技术实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下:第一方面,提供了一种显示面板,包括:两个显示基板,以及形成在所述两个显示基板之间的液晶层;所述两个显示基板中每个显示基板包括:衬底基板,所述衬底基板的一面上采用纳米压印技术形成有线栅偏光层,所述线栅偏光层包括多个阵列排布的线栅结构;其 ...
【技术保护点】
一种显示面板,其特征在于,包括:两个显示基板,以及形成在所述两个显示基板之间的液晶层;所述两个显示基板中每个显示基板包括:衬底基板,所述衬底基板的一面上采用纳米压印技术形成有线栅偏光层,所述线栅偏光层包括多个阵列排布的线栅结构;其中,所述两个显示基板中的线栅结构的长度方向垂直。
【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:两个显示基板,以及形成在所述两个显示基板之间的液晶层;所述两个显示基板中每个显示基板包括:衬底基板,所述衬底基板的一面上采用纳米压印技术形成有线栅偏光层,所述线栅偏光层包括多个阵列排布的线栅结构;其中,所述两个显示基板中的线栅结构的长度方向垂直。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述两个显示基板包括阵列基板,在所述阵列基板中,形成有所述线栅偏光层的衬底基板的一面上形成有薄膜晶体管TFT结构。3.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述两个显示基板包括彩膜基板,在所述彩膜基板中,形成有所述线栅偏光层的衬底基板的一面上形成有彩色滤光片。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述线栅偏光层中的每个所述线栅结构的宽度范围为25纳米至250纳米;所述线栅偏光层中的线栅结构等间距排布,且每两个相邻的线栅结构的间距范围为25纳米至250纳米。5.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:提供两个显示基板,所述两个显示基板中每个显示基板的形成过程包括:提供衬底基板,在所述衬底基板的一面上采用纳米压印技术形成线栅偏光层,所述线栅偏光层包括多个阵列排布的线栅结构;在所述两个显示基板之间形成液晶层;其中,所述两个显示基板中的线栅结构的长度方向垂直。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述两个显示基板包括阵列基板,所述阵列基板的形成过程包括:在形成有所述线栅偏光层的衬底基板的一面上形成薄膜...
【专利技术属性】
技术研发人员:王兵,王炎,张朝科,王辉,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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