用于纳米压印复合模板的复制装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于纳米压印复合模板的复制装置，其包括第一对接单元和第二对接单元，其之间通过导向机构形成对合，且该第一对接单元和第二对接单元之间在对合后形成腔体。本发明专利技术相比于现有技术，其首先精简了结构的设置，使得制造成本得以降低；同时其复制过程简单，只需要向腔体内注入缓冲层即可，复制速度也得以提高；最后，通过设置导向机构，提高了复制的平整度，使得本发明专利技术无论相较于其他复制装置还是导向机构本身的作用，都取得了意想不到的技术效果，从而可以实现复合模板对微纳结构图案的高精度且高保真度的复制。

Copying device for nano imprint composite template

The invention discloses a device for copying composite nano imprint template, which comprises a first docking docking unit and the second unit, the guiding mechanism of the formation of the, and between the first unit and the second unit in the docking docking to form. Compared with the prior art, the first to streamline the structure of the set, so that the manufacturing cost can be reduced; meanwhile the replication process is simple, only need to inject a buffer layer in the cavity, the replication rate is also improved; finally, by setting the guiding mechanism, improve the flatness of the complex system, so that the present invention is compared to both the other copy device or guide mechanism itself, has made an unexpected technical effect, which can achieve the composite template on the micro nano structure pattern with high accuracy and high fidelity replication.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种微纳加工领域内的模板复制装置，具体涉及一种用于纳米压印复合模板的复制装置。
技术介绍
在大规模集成电路制造中，应用最广泛的是光刻工艺，其中包括了黄光光刻、极紫外光刻、电子束直写、浸入式光刻等。在摩尔定律指引下，大规模集成电路已经稳步进入了纳米时代，光刻在45nm节点已经形成瓶颈。由于光学光刻技术固有的限制，已难以满足半导体产业继续沿着摩尔定律快速发展。在下一代图形转移技术中，电子束直写、X射线曝光和纳米压印技术占有重要地位。其中纳米压印技术率先由StephenY.Chou教授提出，技术具有产量高、成本低和工艺简单的优点。这是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术既拥有大规模工业生产所必须的高产出率、低成本的优势，同时具备了电子束直写等技术才能达到的高分辨率。它的出现和快速发展迅速引起了全世界科研和生产部门的广泛重视。近年来，纳米压印技术得到了迅猛的发展，其中压印中模板的制备成为了关键技术。模板通常使用电子束直写技术来制备，但是电子束直写速度慢，成本高。模板的制备一直成为纳米压印技术中的关键性环节。因此，寻找一种制造成本低、复制快速且复制平整度高的制备模板的方法尤为重要。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种制造成本低、复制快速且复制平整度高的用于纳米压印复合模板的复制装置。为了达到上述目的，本专利技术的技术方案如下：用于纳米压印复合模板的复制装置，其包括第一对接单元和第二对接单元，其之间通过导向机构形成对合，且该第一对接单元和第二对接单元之间在对合后形成腔体。本专利技术的复制装置主要包括了第一对接单元、第二对接单元以及导向机构，第一对接单元和第二对接单元在对合后形成腔体，进行复制时，将支撑层和模板分别固定于第一对接单元和第二对接单元上，即固定在腔体内，然后通过向腔体内注入缓冲层(即用于复制的材料，如胶等)，利用缓冲层的流动性能，使得其在该密闭的腔体内缓慢地铺开和填满，待缓冲层形成后，复制的过程即完成。这其间，比较重要的一点，便是要保证对合后腔体上下的两底面的平行度，即保证第一对接单元和第二对接单元的平行度，为了达到这种平行度，本专利技术便设置了导向机构。导向机构在常规的使用中，其都是为了形成导向作用，从而保证运动部件的平稳移动，本专利技术利用该导向机构，使得第一对接单元相对于第二对接单元、或者第二对接单元相对于第一对接单元进行对合时，可以形成导向作用，该导向作用可以有效地克服人手或者其他设备在将对接单元进行对合时可能对其之间平行度的影响，即使得对接单元的对接具有参照物，从而使得对合后的两个对接单元得以保证平行度，从而使得腔体内所完成的复制品也可以保证其表面的平整度。因此，本专利技术相比于现有技术，其首先精简了结构的设置，使得制造成本得以降低；同时其复制过程简单，只需要向腔体内注入缓冲层即可，复制速度也得以提高；最后，通过设置导向机构，提高了复制的平整度，使得本专利技术无论相较于其他复制装置还是导向机构本身的作用，都取得了意想不到的技术效果，从而可以实现复合模板对微纳结构图案的高精度且高保真度的复制。在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以作如下改进：作为优选的方案，上述的导向机构为间隔设置的多个。采用上述优选的方案，通过设置多个导向机构，使得各个导向机构在进行对接单元的对合时，彼此之间可以形成参照和牵制，使得对接单元的各个点，特别是边缘部分得以保持一个平行度，从而进一步地提高对接单元之间的平行度，保证复制的平整度。作为优选的方案，上述的导向机构包括导柱和导套，该导套设于第一对接单元上、该导柱对应该导套设于第二对接单元上，或者该导柱设于第一对接单元上、该导套对应该导柱设于第二对接单元上。采用上述优选的方案，通过导柱和导套的配合，可以更加便于形成第一对接单元和第二对接单元的定向对合，保证对接单元之间的平行度。作为优选的方案，上述的第一对接单元上设置有凸台，第二对接单元上设置有对应该凸台的凹槽，该凸台的高度低于该凹槽的深度，该凸台与凹槽对合形成上述腔体。采用上述优选的方案，采用凸台和凹槽的配合，可以使得腔体的四周边缘不会因为对合而形成拼缝，从而使得所形成的腔体具有更佳的密闭性，从而防止因为漏气而对复制的平整度产生影响。作为优选的方案，上述的凹槽外还设有密封垫。采用上述优选的方案，可以进一步地提高腔体的密闭性。作为可选的方案，上述的第一对接单元上设置有凹槽，第二对接单元上设置有对应该凹槽的凸台，该凸台的高度低于该凹槽的深度，该凹槽与凸台对合形成上述腔体。采用上述优选的方案，采用凸台和凹槽的配合，可以使得腔体的四周边缘不会因为对合而形成拼缝，从而使得所形成的腔体具有更佳的密闭性，从而防止因为漏气而对复制的平整度产生影响。作为可选的方案，上述的凸台外还设有密封垫。采用上述优选的方案，可以进一步地提高腔体的密闭性。作为优选的方案，上述的第二对接单元为双层结构，其上层部分形成与第一对接单元的对合。采用上述优选的方案，可以便于形成第二对接单元的两个功能分区，上层部分可以形成与第一对接单元的对合作用，下层部分则可以用于设置气口等组成部分。附图说明图1为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置拆分状态下的主视图。图2为图1的左视图。图3为图1的俯视图。图4为图1的立体图。图5为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置对合状态下的主视图。图6A为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置的第一对接单元的剖视图。图6B为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置的第二对接单元的剖视图。图7A为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置的第一对接单元上凸台的俯视图。图7B为图6A的立体图。图8为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置的第二对接单元中上层部分的俯视图。图9A为本专利技术的用于纳米压印复合模板的复制装置的第二对接单元中下层部分的俯视图。图9B为图9A的立体图。其中，1.第一对接单元11.凸台111.气道112.排气口113.注入口12.把手2.第二对接单元21.凹槽22.密封垫23.上层部分231.第一气孔232.第二气孔24.下层部分241.第一真空口242.第二真空口243.第一气腔244.第二气腔3.导向机构31.导柱32.导套4.腔体。具体实施方式下面本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于纳米压印复合模板的复制装置，其特征在于，包括第一对接单元和第二对接单元，其之间通过导向机构形成对合，且所述第一对接单元和所述第二对接单元之间在对合后形成腔体。

【技术特征摘要】
1.用于纳米压印复合模板的复制装置，其特征在于，包括第一对接
单元和第二对接单元，其之间通过导向机构形成对合，且所述第一对接
单元和所述第二对接单元之间在对合后形成腔体。
2.根据权利要求1所述的用于纳米压印复合模板的复制装置，其特
征在于，所述导向机构为间隔设置的多个。
3.根据权利要求1或2所述的用于纳米压印复合模板的复制装置，
其特征在于，所述导向机构包括导柱和导套，所述导套设于所述第一对
接单元上、所述导柱对应所述导套设于所述第二对接单元上，或者所述
导柱设于所述第一对接单元上、所述导套对应所述导柱设于所述第二对
接单元上。
4.根据权利要求1所述的用于纳米压印复合模板的复制装置，其特
征在于，所述第一对接单元上设置有凸台，所述第二对接单元上设置有<...

【专利技术属性】
技术研发人员：史晓华，
申请(专利权)人：苏州光舵微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32