A mask and a vapor deposition device, the mask plate comprises a frame and arranged inside the frame of the first mask, wherein, the frame comprises an outer frame and an inner frame, wherein the frame is located on the outside and has a first plane, the inner frame is positioned on the inner side and has a second plane, the first the plane is higher than that of the plane formed second steps; the first mask strip is fixed at both ends of the frame extending side edge in the frame and the frame by the first mask in the second plane projection and the inner frame on the side at least partially overlap. The mask plate effectively solves the problem of scratching the glass substrate by changing the design of the frame and the mask strip fixed thereon, thereby effectively improving the yield and the life of the subsequent product.
【技术实现步骤摘要】
掩膜板和蒸镀装置
本技术的实施例涉及一种掩膜板和蒸镀装置。
技术介绍
蒸镀工艺被广泛地应用于电子器件的镀膜过程中,其原理是将待蒸镀的基板放置于真空环境中,使蒸镀材料沉积在待蒸镀的基板表面而完成镀膜,而待蒸镀基板的镀膜区域通常通过掩膜条来限定。在蒸镀工艺中,如果基板边缘被刮伤易造成周边线路断路、封装失效等问题,从而影响产品良率和产品寿命。基板边缘的刮伤通常是掩膜条与玻璃基板接触时的相对运动引起的。目前,解决上述基板边缘易被刮伤的问题主要从两个方面入手,一是有效控制掩膜条边缘的锋利程度和粗糙度;二是减缓掩膜条与玻璃基板的相对运动,减弱二者的相互作用力。但是,为了确保掩膜条与玻璃基板接触时的平整度要求,掩膜条的厚度通常薄至100um或者更薄,这样不可避免的掩膜条的边缘会很锋利。而掩膜条是通过刻蚀工艺制成的,通过调整刻蚀工艺的参数来控制掩膜条边缘的锋利程度和粗糙度的难度很大。
技术实现思路
本技术至少一实施例提供一种掩膜板以及蒸镀装置。该掩膜板通过改变框架的结构将其设计成具有不同高度的两个平面由此形成台阶,然后将该第一掩膜条搭接在该框架上,使其主体部分与框架隔离开,避免了第一掩膜条给玻璃基板带来的刮伤的问题,有效提升了后续产品的良率和寿命。本技术至少一个实施例中,掩膜板包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条,其中,所述框架包括外框和内框,所述外框位于外侧且具有第一平面,所述内框位于内侧且具有第二平面,所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶;所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸,且所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所 ...
【技术保护点】
一种掩膜板,其特征在于,包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条,其中,所述框架包括外框和内框,所述外框位于外侧且具有第一平面,所述内框位于内侧且具有第二平面,所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶;所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸,所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条,其中,所述框架包括外框和内框,所述外框位于外侧且具有第一平面,所述内框位于内侧且具有第二平面,所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶;所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸,所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为1-10mm。3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为5mm。4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,在所述第一平面上且与所述第一掩膜条延伸方向垂直的方向上,所述第一掩膜条的主体部分与所述外框之间的距离为0.5mm-2mm。5.根据权利要求1-4中任一项所述的掩膜板,其特征在于,还包括设置在所述框架内侧的第二掩膜条。6.根据权利要求5所述的掩...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐鹏,乔永康,潘晟恺,刘杰,
申请(专利权)人:合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
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