一种掩膜板结构制造技术

本实用新型专利技术公开一种掩膜板结构，包括掩膜板、设置于掩膜板上表面的第一保护膜以及设置于掩膜板下表面下方的第二保护膜，所述第一保护膜与所述第二保护膜为分离设计，其中，所述第一保护膜为高透过率保护膜，所述第一保护膜与掩膜板上表面密封连接，所述第二保护膜与掩膜板下表面密封连接。与现有技术相比，分离设计的第一保护膜和第二保护膜分别设置在一种掩膜板结构的上、下表面上，可分别进行更换，使掩膜板的清洁、翻新变得更加快捷，极大的节省了掩膜板清洁成本。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板结构
本技术涉及显示面板
，特别涉及一种掩膜板结构。
技术介绍
现有的显示面板(MASK)使用过程中表面容易脏污。MASK表面脏污需要专门的清洗设备清洗，同时下表面贴有昂贵贴膜的需要特殊拆除并重新贴附，成本极高。现有技术清洁时，花费大量的清洁成本，且清洁显示面板操作复杂。
技术实现思路
本技术提供一种掩膜板结构，该掩膜板结构的上、下表面覆盖有分离设计的保护膜，可实现分别更换，提高清洁、翻新效率，节约掩膜板的清洗成本。本技术实施例提供一种掩膜板结构，包括掩膜板、设置于所述掩膜板上表面的第一保护膜以及设置于所述掩膜板下表面下方的第二保护膜，所述第一保护膜与所述第二保护膜为分离设计，其中所述第一保护膜为高透过率保护膜，所述第一保护膜与所述掩膜板上表面密封连接，所述第二保护膜与所述掩膜板下表面密封连接。优选地，所述掩膜板结构还包括设置于所述掩膜板下表面与所述第二保护膜之间的密封条，所述第二保护膜为刚性膜或柔性膜，所述密封条为一个表面或两个表面具有胶层的封装带，其与掩膜板的下表面接触的一面具有胶层。优选地，所述第一保护膜包括：依次层叠设置的第一硬化层、第一软化层、主膜层、第二软化层、第二硬化层及第二胶层，其中，所述第一保护膜为防静电保护膜，所述第一硬化层设置于最外表面，所述第二胶层与掩膜板的上表面密封连接。优选地，所述第一硬化层为聚酯薄膜，厚度为1μm～20μm。优选地，所述第一软化层为抗静电薄膜，为聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯及抗静电剂的混合物，厚度为2μm～50μm。优选地，所述抗静电剂选自多烷基季胺盐、二异丁烯-马来酸二钠盐、丙三醇多硬脂酸酯、聚乙烯多胺及聚醚酯中的至少一种。优选地，所述主膜层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；主膜层有两个相对的电晕处理表面，其中，第一软化层设置于其中一个电晕处理表面上。优选地，所述主膜层的厚度为50μm～300μm，透光率大于95％，雾度小于2％。优选地，所述第二软化层为抗静电薄膜，厚度为2μm～30μm。优选地，所述第二胶层的材料为聚氨酯压敏胶、硅胶或亚克力胶；第二胶层36可反复粘贴，且剥落后无残留，厚度为5μm～60μm。本技术实施例提供一种掩膜板结构，该掩膜板结构包括掩膜板、设置于掩膜板上表面上的第一保护膜以及设置于掩膜板下表面上的第二保护膜，该第一保护膜与该第二保护膜为分离设计，第一保护膜与掩膜板上表面密封连接，第二保护膜与掩膜板下表面密封连接，实现保护掩膜板结构的上、下表面覆盖有分离设计的保护膜的目的，可实现更换，提高清洁、翻新效率，节约掩膜板的清洗成本。附图说明图1为本技术实施例提供的一种掩膜板结构的结构示意图。图2为图1所示掩膜板结构的第一保护膜的结构示意图。具体实施方式为更进一步阐述本技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本技术提出的一种掩膜板结构及其具体实施方式、方法、步骤、结构、特征及功效，详细说明如下。在本实施例中，本技术掩膜板结构在掩膜板的上表面和下表面分别安装第一保护膜和第二保护膜，其中，第一保护膜和第二保护膜采用分离设计，更换上表面的第一保护膜时，无需拆除新的第二保护膜。其中，第一保护膜采用高透过率、带有静电防护的保护膜。请参考图1，图1为本技术一种掩膜板结构一种实施例的结构示意图。如图1所示，该掩膜板结构，包括掩膜板1、设置于该掩膜板1上表面的第一保护膜3、设置于该掩膜板1下表面下方的第二保护膜4，以及设置在该掩膜板1下表面与该第二保护膜4之间的密封条2。该第一保护膜3与该第二保护膜4为分离设计，其中，该第一保护膜3为高透过率、防静电的保护膜，该第一保护膜3与该掩膜板1上表面密封连接，该第二保护膜4通过该密封条2与该掩膜板1下表面密封连接，实现保护掩膜板的上、下表面的目的。该第二保护膜4可为刚性膜，也可为柔性膜，密封条2为一个表面或两个表面具有胶层的封装带，其与掩膜板1的下表面接触的一面具有胶层。当密封条2为一个表面具有胶层时，则第二保护膜4则需要选用具有胶层的保护膜。在另一实施例中，该掩膜板1下表面与该第二保护膜4之间也可不设置密封条2，当该掩膜版1的下表面不具有胶层时，将具有胶层的第二保护膜4与该掩膜版1下表面密封连接；或在该掩膜版1的下表面设置胶层，直接将第二保护膜4与该掩膜版1的下表面密封连接。请参考图2，图2为图1所示掩膜板结构的第一保护膜3的结构示意图。在本实施例中，该第一保护膜3选用硬度较高的复合功能保护膜。如图2所示，该掩膜板结构的第一保护膜3包括：依次层叠设置的第一硬化层31、第一软化层32、主膜层33、第二软化层34、第二硬化层35及第二胶层36，其中第一硬化层31设置于最外表面，第二胶层36与掩膜板1的上表面密封连接。该第一硬化层31为聚酯薄膜，厚度为1μm～20μm。该第一软化层32为抗静电薄膜，为聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯及抗静电剂的混合物，抗静电剂选自多烷基季胺盐、二异丁烯-马来酸二钠盐、丙三醇多硬脂酸酯、聚乙烯多胺及聚醚酯中的至少一种，厚度为2μm～50μm。该主膜层33为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜，该主膜层33有两个相对的电晕处理表面。其中，第一软化层32设置于其中一个电晕处理表面上。电晕处理表面使得主膜层33具有较好的粘着特性，有利于在其上的材料更好的粘附。优选地，该主膜层33的厚度为50μm～300μm，透光率大于95％，雾度小于2％。该第二软化层34为抗静电薄膜，厚度为2μm～30μm。该第二硬化层35的厚度为3μm～20μm，第二胶层36层叠于第二硬化层35远离第二软化层34的表面。该第二胶层36的材料为聚氨酯压敏胶、硅胶或亚克力胶。第二胶层36可反复粘贴，且剥落后无残留。第二胶层36的厚度为5μm～60μm。在本实施例中，该主膜层33的两侧设置分别设置第一硬化层31、第一软化层32、第二软化层34、第二硬化层35，可以提高第一保护膜3的硬度，同时能够有效地防第一保护膜3的翘曲。综上所述，本技术通过在掩膜板的上表面和下表面分别设置有保护膜，使清洁掩膜板操作复杂的工作变得只需要更换第一保护膜或者第二保护膜，方便，快捷，极大的节省了清洁掩膜板的成本。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本技术技术方案范围内，当可利用上述所揭示的
技术实现思路
作出些许变更或修饰等，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板结构，其特征在于，包括掩膜板、设置于所述掩膜板上表面的第一保护膜以及设置于所述掩膜板下表面下方的第二保护膜，所述第一保护膜与所述第二保护膜为分离设计，其中所述第一保护膜为高透过率保护膜，所述第一保护膜与所述掩膜板上表面密封连接，所述第二保护膜与所述掩膜板下表面密封连接。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板结构，其特征在于，包括掩膜板、设置于所述掩膜板上表面的第一保护膜以及设置于所述掩膜板下表面下方的第二保护膜，所述第一保护膜与所述第二保护膜为分离设计，其中所述第一保护膜为高透过率保护膜，所述第一保护膜与所述掩膜板上表面密封连接，所述第二保护膜与所述掩膜板下表面密封连接。2.根据权利要求1所述的掩膜板结构，其特征在于，还包括设置于所述掩膜板下表面与所述第二保护膜之间的密封条，所述第二保护膜为刚性膜或柔性膜，所述密封条为一个表面或两个表面具有胶层的封装带，其与掩膜板的下表面接触的一面具有胶层。3.根据权利要求1所述的掩膜板结构，其特征在于，所述第一保护膜包括：依次层叠设置的第一硬化层、第一软化层、主膜层、第二软化层、第二硬化层及第二胶层，其中，所述第一保护膜为防静电保护膜，所述第一硬化层设置于最外表面，所述第二胶层与掩膜板的上表面密封连接。4.根据权利要求3所述的掩膜板结构，其特征在于，所述第一硬化层为聚酯薄膜，厚度为1μm～20μm。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓佳，邓亮，张成明，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32