一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法技术

本发明专利技术涉及显示技术领域，公开了一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法。所述薄膜成膜不均一，所述修复方法包括：首先确定一待修复区域，使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内，然后去除所述待修复区域内的薄膜，最后重新在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料，形成修复区域，且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围，提高成膜均一性，保证产品的显示品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法。
技术介绍
在显示器件的制作过程，各显示薄膜的制作质量直接影响最终产品的显示品质。当利用喷嘴通过喷墨打印工艺制备显示薄膜时，会因为颗粒或材料残留等原因造成成膜缺陷。现有技术中，对于具有凹陷缺陷(图1中的虚线框内)的薄膜1，一般会利用喷嘴进行修复作业，但是缺陷区域的薄膜体积一般小于5pL，而喷嘴的直径为5um，最小喷墨体积在10pL左右，修复后会导致凸起缺陷，如图2中的虚线框内所示，无法达到修复目的，使得成膜均一性较差。如果更换直径小于5um的喷嘴，制作精度不容易实现，而且容易出现堵塞的问题从而频繁导致宕机，影响生产产能。
技术实现思路
本专利技术提供一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法，用以提供一种薄膜修复方法，保证显示基板上薄膜的均一性。为解决上述技术问题，本专利技术实施例中提供一种薄膜的修复方法，所述薄膜设置在一基底上，所述薄膜具有不平整区域，所述不平整区域的薄膜远离所述基底的表面为不平整面，所述修复方法包括：确定一待修复区域，使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内；去除所述待修复区域内的薄膜；在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料，形成修复区域，且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围，所述高度差为所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距离。本专利技术实施例中还提供一种显示基板的制作方法，包括形成封装薄膜的步骤，当所述封装薄膜具有不平整区域时，采用如上所述的修复方法对所述封装薄膜进行修复。本专利技术实施例中还提供一种薄膜，所述薄膜包括修复区域和位于所述修复区域外围的周边区域，所述修复区域采用如上所述的修复方法制得。本专利技术实施例中还提供一种显示基板，包括封装薄膜，所述封装薄膜采用如上所述的薄膜。本专利技术的上述技术方案的有益效果如下：上述技术方案中，当薄膜成膜不均一时，首先确定一待修复区域，使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内，然后去除所述待修复区域内的薄膜，最后重新在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料，形成修复区域，且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围，提高成膜均一性，保证产品的显示品质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1表示薄膜的表面具有凹陷缺陷的结构示意图；图2表示采用现有技术中的修复对图1中的凹陷缺陷进行修复后的结构示意图；图3表示本专利技术实施例中薄膜的修复方法流程图；图4-图6表示本专利技术实施例中对表面具有凹陷缺陷的薄膜的修复过程图；图7-图9表示本专利技术实施例中对表面具有凸起缺陷的薄膜的修复过程图；图10表示本专利技术实施例中去除待修复区域的薄膜的过程图；图11表示本专利技术实施例中在待修复区域填充制作薄膜的材料的过程图；图12表示本专利技术实施例中显示基板的结构示意图。具体实施方式下面将结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。实施例一在显示器件的制备过程中，会出现薄膜成膜均一性差，降低产品的显示品质的技术问题。为了解决上述技术问题，本实施例中提供一种薄膜的修复方法，用于对薄膜进行修复，提高薄膜的均一性。所述薄膜设置在一基底上，所述薄膜具有不平整区域，所述不平整区域的薄膜远离所述基底的表面为不平整面。如图3所示，所述修复方法包括：确定一待修复区域，使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内；去除所述待修复区域内的薄膜；在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料，形成修复区域，且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围，所述高度差为所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距离。通过上述修复方法对薄膜进行修复后，能够有效改善薄膜表面的平整度。提高薄膜的均一性，保证产品的显示品质。需要说明的是，除特别声明外，本专利技术中薄膜的表面均为薄膜远离基底的表面。所述不平整区域为表面为凹陷(如图1所示)，表面为凸起(如图7所示)，或两者的结合，通过本专利技术的技术方案均可以实现修复。结合图4和图7所示，本专利技术的薄膜修复方法首先确定一待修复区域100，使薄膜1的不平整区域完全落入待修复区域100内，该步骤的目的是保证后续在待修复区域100内填充材料时，能够达到修复目的，即，在待修复区域100内填充材料形成的修复区域101，其与周边区域的薄膜1的表面的高度差在预设范围内，有效改善薄膜的表面平整度，结合图6和图9所示。优选的，修复区域101的薄膜1的厚度与位于修复区域101的周边区域的薄膜1的厚度完全一致。由于修复区域101和所述周边区域的薄膜由同一材料制得，且同层，因此用同一标记表示。其中，待修复区域100的确定与后续工艺中填充设备的填充参数有关，所述填充设备用于在待修复区域100内填充制作薄膜1的材料，形成修复区域101(结合图5和图6所示)，且修复区域101的薄膜1的第一表面与位于修复区域101外围的周边区域的薄膜1的第二表面的高度差在预设范围。具体为：所述填充设备在单位时间内填充的材料体积小于修复区域101的薄膜1的体积。本实施例的所述填充设备为喷墨打印设备，利用喷嘴3在待修复区域100内喷墨打印制作所述薄膜的材料，形成修复区域101，结合图11和图6所示。由于喷墨打印设备能够在设定区域内喷墨打印材料，缺省了构图工艺，简化了制作工艺。进一步地，设置所述修复区域的薄膜的体积大于所述喷嘴在单位时间内的最小喷墨体积，有效达到修复的目的。因为如果所述修复区域的薄膜的体积小于所述喷嘴在单位时间内的最小喷墨体积，则，利用所述喷嘴在待修复区域棚膜打印材料形成修复区域时，所述修复区域的薄膜的第一表面大大高于周边区域的表面的第二表面，形成凸起，不能够达到修复的目的。在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料之前，还需去除所述待修复区域内的薄膜，以去除表面不平整的表面。具体可以采用激光烧结工艺去除所述待修复区域内的薄膜。其中，激光烧结工艺是以激光为热源对薄膜进行烧结的技术，由于激光的能量较高，能够对很多材料进行烧结。而且激光光束集中和穿透能力小，适于对小面积、薄膜的烧结。由于所述待修复区域的面积较大，为了仅对所述待修复区域的薄膜进行选择性烧结，可选的，如图10所示，采用激光烧结工艺去除所述待修复区域内的薄膜的步骤包括：提供一遮挡2，遮挡板2上具有窗口，所述窗口与待修复区域100的位置对应，且所述窗口在基底10上的投影位于所述待修复区域在基底10上的投影内；激光束通过所述窗口扫描薄膜1，去除待修复区域100内的薄膜。遮挡板2能够阻挡激光透过烧结其他区域的薄膜1。上述步骤中，通过遮挡板限定激光的扫描范围，从而实现选择性烧结，控制对表面平整的薄膜的去除，缩短修复时间，提高产能。由于烧结的范围大于激光束实际扫描的范围，因此需要设置所述窗口在基底10上的投影位于所述待修复区域在基底本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜的修复方法，所述薄膜设置在一基底上，所述薄膜具有不平整区域，所述不平整区域的薄膜远离所述基底的表面为不平整面，其特征在于，所述修复方法包括：确定一待修复区域，使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内；去除所述待修复区域内的薄膜；在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料，形成修复区域，且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围，所述高度差为所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距离。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜的修复方法，所述薄膜设置在一基底上，所述薄膜具有不平整区域，所述不平整区域的薄膜远离所述基底的表面为不平整面，其特征在于，所述修复方法包括：确定一待修复区域，使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内；去除所述待修复区域内的薄膜；在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料，形成修复区域，且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围，所述高度差为所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距离。2.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，利用喷嘴在所述待修复区域内喷墨打印制作所述薄膜的材料，形成所述修复区域。3.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述修复区域的薄膜的体积大于所述喷嘴在单位时间内的最小喷墨体积。4.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，采用激光烧结工艺去除所述待修复区域内的薄膜。5.根据权利要求4所述的修复方法，其特征在于，采用激光烧结工艺去除所述待修复区域内的薄膜的步骤包括：提供一遮挡板，所述遮挡板上具有窗口，所述窗口与所述待修复区域的位置对应，且所述窗口在所述基底上的投影位于所述待修复区域在所述基底上的投影内；激光束通过所述窗口扫描所述薄...

【专利技术属性】
技术研发人员：李旭伟，崔富毅，肖昂，陈静静，王利娜，陈帅，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11