The invention provides a display substrate and a manufacturing method thereof, a display panel and a display device, which belong to the display technology field. The display substrate includes a substrate substrate; the substrate is located in the display layer on the substrate; the substrate from the display function of optical structure layer, the optical structure allows only the default view within the scope of the emergent light. Through the technical proposal of the invention, the anti peeping display of the display device can be realized at a lower cost.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
,特别是指一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
液晶显示技术已经成为市场主流显示技术,在像素分辨率、响应时间、屏幕尺寸等多个方面能够满足人们的需求,但是在一些特殊的显示环境下,人们需要特殊的显示模式以满足特定的需求,例如在办公环境中或者车载显示环境中,人们需要限制显示屏的观测角度,达到防窥或者车用显示防倒影的目的。现有的防窥显示技术是通过在显示面板上贴附特殊的防窥膜材来实现,成本不但比较高,防窥膜材的品质不易控制,而且还会增加显示模组的整体厚度。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置,能够以较低的成本实现显示装置的防窥显示。为解决上述技术问题,本专利技术的实施例提供技术方案如下:一方面,提供一种显示基板,包括:衬底基板;位于所述衬底基板上的显示功能层;位于所述衬底基板背离所述显示功能层一侧的光学结构,所述光学结构仅允许预设视角范围内的光线出射。进一步地,所述光学结构与所述衬底基板直接接触。进一步地,经所述光学结构出射的光线在第一平面上的出射角度小于阈值Θ;所述光学结构包括:多个间隔设置的遮光图形,所述遮光图形的延伸方向为第二方向,所述第二方向与所述第一平面垂直。进一步地,所述光学结构还包括:填充在相邻遮光图形之间的透光图形。进一步地,所述遮光图形的高度为h,相邻遮光图形之间的间距为b,其中,Θ=arctan(b/h)。进一步地,所述显示基板包括多个像素区域,所述遮光图形的宽度为a,每一像素区域的宽度为d,a+b的值不小于d不大于2d。本专利技术实施例还提供了一 ...
【技术保护点】
一种显示基板,其特征在于,包括:衬底基板;位于所述衬底基板上的显示功能层;位于所述衬底基板背离所述显示功能层一侧的光学结构,所述光学结构仅允许预设视角范围内的光线出射。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:衬底基板;位于所述衬底基板上的显示功能层;位于所述衬底基板背离所述显示功能层一侧的光学结构,所述光学结构仅允许预设视角范围内的光线出射。2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述光学结构与所述衬底基板直接接触。3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,经所述光学结构出射的光线在第一平面上的出射角度小于阈值Θ;所述光学结构包括:多个间隔设置的遮光图形,所述遮光图形的延伸方向为第二方向,所述第二方向与所述第一平面垂直。4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述光学结构还包括:填充在相邻遮光图形之间的透光图形。5.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述遮光图形的高度为h,相邻遮光图形之间的间距为b,其中,Θ=arctan(b/h)。6.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板包括多个像素区域,所述遮光图形的宽度为a,每一像素区域的宽度为d,a+b的值不小于d不大于2d。7.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上形成显示功能层;在所述衬底基板背离所述显示功能层的一侧形成光学结构,所述光学结构仅允许预设视角范围内的光线出射。8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述在所述衬底基板背离所述显示功能层的一侧形成光学结构包括:直接在所述衬底基板背离所述显示功能层的一侧表面上形成所述光学结构。9.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法,其特征在于,经所述光学结构出射的光线在第一平面上的出射角度小于阈值Θ;所述在所述衬底基板...
【专利技术属性】
技术研发人员:梁菲,李鹏涛,陈秀云,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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