显示基板及其制作方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板及其制作方法和显示装置。该显示基板包括衬底基板；图案化的黑矩阵，其设置在所述衬底基板上；以及触控电极，其中在所述黑矩阵所在的区域，所述显示基板包括位于所述黑矩阵上的滤光层叠层，所述滤光层叠层包括顺序堆叠的两个以上彩色滤光层并且设置有多个开口；以及所述触控电极设置在所述滤光层叠层上并且覆盖所述多个开口的表面。根据本发明专利技术，在显示基板的黑矩阵所在的区域中设置具有多个开口的滤光层叠层，使得覆盖所述滤光层叠层的触控电极的表面积增加，有利于聚集更多电荷，从而提高触控的灵敏度和准确度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，并且具体而言涉及一种显示基板及其制作方法和显示装置。
技术介绍
目前智能设备普遍采用触控技术以实现人机交互。触控屏(touchpanel)按照组成结构可以分为外挂式(add-on)触控屏、覆盖表面式(on-cell)触控屏和内嵌式(in-cell)触控屏。外挂式触控屏是将触控屏与液晶面板分开生产，然后贴合到液晶面板使其具有触控功能。外挂式触控屏的制作成本高、光透过率较低、模组较厚。覆盖表面式触控屏是将触控电极设置在液晶面板的彩膜基板和偏光片之间。内嵌式触控屏是将触控电极设置在液晶面板的内部，只需要外部贴合一层保护玻璃，而无需设置触控面板玻璃。因此，内嵌式触控屏具有高透光度、高贴合率、轻薄化等优点，可成为未来触控市场的主流。
技术实现思路
在内嵌式触控屏中，驱动电极和感应电极都集成在显示基板中，这会引起显示基板的信噪比较低，从而影响触控的准确度和灵敏度。为此，本专利技术旨在解决或减轻本领域中的上述问题或其它问题。具体而言，本专利技术提出增加触控电极的表面积，从而有利于聚集更多的电荷并且提高触控的灵敏度和准确度。在第一方面，提供了一种显示基板，包括：衬底基板；图案化的黑矩阵，其设置在所述衬底基板上；以及触控电极，其中，在所述黑矩阵所在的区域，所述显示基板包括位于所述黑矩阵上的滤光层叠层，所述滤光层叠层包括顺序堆叠的两个以上彩色滤光层并且设置有多个开口；以及所述触控电极设置在所述滤光层叠层上并且覆盖所述多个开口的表面。在电容式触控屏中，当触控电极由不透明导电材料形成时，触控电极可以设置在黑矩阵所在的区域以避免影响触控屏的开口率。因此，触控电极的宽度受到黑矩阵图形的尺寸限制，从而可能导致触控电极之间的互电容较小，在触控屏被触控时触控电极之间的互电容变化微弱，使得信噪比低，影响触控屏的触控灵敏度和准确度。本专利技术的技术方案可以有效地解决上述问题。根据本专利技术，在显示基板的黑矩阵所在的区域中设置具有多个开口的滤光层叠层，使得覆盖所述滤光层叠层的触控电极的表面积增加，有利于聚集更多电荷。结果，触控电极之间的互电容较大，在触控屏被触控时触控电极之间的互电容变化较强，从而提高信噪比，提高触控屏的触控灵敏度和准确度。本专利技术的上述技术方案同样适用于触控电极由透明导电材料形成的情形。在本专利技术中，滤光层叠层中的各层可以与显示基板中的各个彩色滤光层利用同一材料在同一图案化工艺中形成。即，该显示基板的制作工艺可以与已有的显示基板制作工艺兼容，而无需引入额外的工艺步骤。这有利于简化工艺，控制成本。例如，所述黑矩阵在远离所述衬底基板的表面上设置有多个第一凹陷部，其中所述多个第一凹陷部分别对应于所述滤光层叠层中的所述多个开口；以及所述触控电极还覆盖所述多个第一凹陷部的表面。示例性地，中所述多个第一凹陷部分别与所述滤光层叠层中的所述多个开口连通(communicate)。在本专利技术中，触控电极不仅覆盖多个开口的表面，而且还覆盖多个第一凹陷部的表面。这可以使触控电极的表面积进一步增加，从而进一步提高触控的灵敏度和准确度。例如，所述多个第一凹陷部的深度等于或小于所述黑矩阵的厚度。在本专利技术中，当第一凹陷部的深度等于黑矩阵的厚度时，触控电极可以由不透明导电材料，例如不透明金属形成。这样，可以通过该不透明导电材料实现第一凹陷部所在位置的黑矩阵的遮光功能。当第一凹陷部的深度小于黑矩阵的厚度时，触控电极既可以由透明导电材料形成，也可以由不透明导电材料形成。例如，所述显示基板还包括设置在所述衬底基板和所述滤光层叠层之间的第一保护层(over-coating,OC)；所述第一保护层在远离所述衬底基板的表面上设置有多个第二凹陷部，其中所述多个第二凹陷部分别对应于所述滤光层叠层中的所述多个开口。在本专利技术中，第一保护层在远离衬底基板的表面上设置有多个第二凹陷部，并且多个第二凹陷部分别对应于滤光层叠层中的多个开口。第一保护层中的多个第二凹陷部可以使触控电极的表面积进一步增加，从而进一步提高触控的灵敏度和准确度。例如，所述第一保护层设置在所述衬底基板和所述黑矩阵之间。在本专利技术中，第一保护层设置在衬底基板和黑矩阵之间，第一保护层的上表面设置有多个第二凹陷部，并且多个第二凹陷部致使黑矩阵相应地形成多个凹陷部。触控电极覆盖多个开口的表面以及黑矩阵中的多个凹陷部的表面。这可以使触控电极的表面积进一步增加，从而进一步提高触控的灵敏度和准确度。例如，所述第一保护层设置在所述黑矩阵和所述滤光层叠层之间；以及所述触控电极还覆盖所述多个第二凹陷部的表面。在本专利技术中，触控电极不仅覆盖多个开口的表面，而且还覆盖多个第二凹陷部的表面。这可以使触控电极的表面积进一步增加，从而进一步提高触控的灵敏度和准确度。例如，所述多个第二凹陷部的深度等于所述第一保护层的厚度；所述黑矩阵在远离所述衬底基板的表面上设置有多个第三凹陷部，其中所述多个第三凹陷部分别对应于所述多个第二凹陷部；以及所述触控电极还覆盖所述多个第三凹陷部的表面。示例性地，所述多个第三凹陷部分别与所述多个第二凹陷部连通。在本专利技术中，触控电极覆盖滤光层叠层中的多个开口的表面、第一保护层中的多个第二凹陷部的表面以及黑矩阵中的多个第三凹陷部的表面。这可以使触控电极的表面积进一步增加，从而进一步提高触控的灵敏度和准确度。例如，所述多个第三凹陷部的深度等于或小于所述黑矩阵的厚度。在本专利技术中，当第三凹陷部的深度等于黑矩阵的厚度时，触控电极可以由不透明导电材料，例如不透明金属形成。这样，可以通过该不透明导电材料实现第三凹陷部所在位置的黑矩阵的遮光功能。当第三凹陷部的深度小于黑矩阵的厚度时，触控电极既可以由透明导电材料形成，也可以由不透明导电材料形成。在本专利技术中，第一保护层可以由无机材料形成，也可以由诸如树脂的有机材料形成。与由诸如氮化硅、氧化硅或氮氧化硅的无机材料相比，树脂材料更有优势，因为通过简单的涂布工艺即可形成树脂层，而无需单独的蒸镀腔室以形成无机材料层。在第二方面，本专利技术提供了一种显示装置，其包括如上文所述的显示基板。根据本专利技术的显示装置具有与上文所述的显示基板相同或相似的益处，此处不再赘述。在第三方面，本专利技术提供了一种制作显示基板的方法，其包括下述步骤：准备衬底基板，其上设置有图案化的黑矩阵；在所述衬底基板上形成滤光层叠层并图案化以形成多个开口；以及在所述滤光层叠层上形成覆盖所述多个开口的表面的触控电极。例如，所述方法还包括：在所述黑矩阵的远离所述衬底基板的表面上，形成分别对应于所述多个开口的多个第一凹陷部。示例性地，所述多个第一凹陷部分别与所述多个开口连通。例如，所述方法还包括：在形成所述滤光层叠层之前，在所述衬底基板上形成第一保护层；以及图案化所述第一保护层，以在远离所述衬底基板的表面上形成分别对应于所述多个开口的多个第二凹陷部。例如，形成所述第一保护层还包括：在所述衬底基板和所述黑矩阵之间形成所述第一保护层。例如，形成所述第一保护层还包括：在所述黑矩阵和所述滤光层叠层之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，包括：衬底基板；图案化的黑矩阵，其设置在所述衬底基板上；以及触控电极，其特征在于，在所述黑矩阵所在的区域，所述显示基板包括位于所述黑矩阵上的滤光层叠层，所述滤光层叠层包括顺序堆叠的两个以上彩色滤光层并且设置有多个开口；以及所述触控电极设置在所述滤光层叠层上并且覆盖所述多个开口的表面。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：衬底基板；图案化的黑矩阵，其设置在所述衬底基板上；以及触控电极，其特征在于，
在所述黑矩阵所在的区域，所述显示基板包括位于所述黑矩阵上的滤光层叠层，所述滤光层叠层包括顺序堆叠的两个以上彩色滤光层并且设置有多个开口；以及
所述触控电极设置在所述滤光层叠层上并且覆盖所述多个开口的表面。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述黑矩阵在远离所述衬底基板的表面上设置有多个第一凹陷部，其中所述多个第一凹陷部分别对应于所述滤光层叠层中的所述多个开口；以及
所述触控电极还覆盖所述多个第一凹陷部的表面。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，
所述多个第一凹陷部的深度等于或小于所述黑矩阵的厚度。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述显示基板还包括设置在所述衬底基板和所述滤光层叠层之间的第一保护层；
所述第一保护层在远离所述衬底基板的表面上设置有多个第二凹陷部，其中所述多个第二凹陷部分别对应于所述滤光层叠层中的所述多个开口。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，
所述第一保护层设置在所述衬底基板和所述黑矩阵之间。
6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，
所述第一保护层设置在所述黑矩阵和所述滤光层叠层之间；以及
所述触控电极还覆盖所述多个第二凹陷部的表面。
7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，
所述多个第二凹陷部的深度等于所述第一保护层的厚度；
所述黑矩阵在远离所述衬底基板的表面上设置有多个第三凹陷部，其中所述多个第三凹陷部分别对应于所述多个第二凹陷部；以及

【专利技术属性】
技术研发人员：王亮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11