阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本申请公开了一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置，用以防止产生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。本申请提供的一种阵列基板，包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板之上的层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，所述阵列基板还包括：用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。

Array substrate and manufacturing process thereof, display panel and display device

The invention discloses an array substrate and its manufacturing technology, display panel, display device, to prevent the generation of the Rubbing Mura Rubbing or reduce the degree of Mura. An array substrate is provided that comprises a glass substrate and is arranged on the glass substrate with uneven film layer structure, the layer structure of the array substrate includes: film film for adjusting the uneven flatness.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置
本申请涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置。
技术介绍
在液晶基板制造过程中，为了使液晶分子形成一定的角度，通常需要对基板上的取向膜进行摩擦取向。在这一过程中如果会出现摩擦不均匀，会造成面板品质不良。摩擦不均匀(RubbingMura)现象的产生机理是由于被摩擦(Rubbing)的表面不平，导致在Rubbing过程中，造成Rubbing布上的绒毛分布不均匀，而产生RubbingMura。高级超维场转换技术(AdvancedSuperDimensionSwitch，ADS)产品在进行Rubbing时，参见图1，滚轮101Rubbing方向与栅线(Gate线)平行，在Rubbing过程中由于Gate线区域103比玻璃基板104表面偏高，导致Rubbing布102的绒毛分布不均，即图中区域1021内的Rubbing布的绒毛分布不均匀，从而在Rubbing时，容易在Gate线区域103上产生RubbingMura106。
技术实现思路
本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置，用以防止产生RubbingMura或降低RubbingMura的程度。本申请实施例提供的一种阵列基板，包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板之上的层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，所述阵列基板还包括：用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。本申请实施例通过在阵列基板中设置用于调整凸凹不平的膜层的平整度的膜层，从而可以使得阵列基板更加平整，防止产生RubbingMura或降低RubbingMura的程度。可选地，所述凸凹不平的膜层为栅极扫描线。本申请实施例，通过对栅极扫描线设置用于调整栅极扫描线所在的凸凹不平的膜层的平整度的膜层，从而降低或避免薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)的段差，因此可以降低RubbingMura的程度或防止产生RubbingMura。可选地，所述用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层，为透明膜层。由于采用透明膜层，从而不影响光的透过率。可选地，所述透明膜层中设置有凹槽，所述栅极扫描线层设置在所述凹槽内。若栅极扫描线层全部设置在凹槽内，则可以得到平整的层结构，从而防止产生RubbingMura；若栅极扫描线层部分设置在凹槽内，则可以得到较为平整的层结构，从而降低RubbingMura的程度。可选地，所述栅极扫描线层全部设置在所述凹槽内，并且将所述凹槽填平。可选地，所述透明膜层为防蓝光膜层。通过利用防蓝光膜层调整TFT段差，从而既可以防蓝光，又可以降低RubbingMura的程度或防止出现RubbingMura。本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例所述的阵列基板。本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例所述的显示面板。本申请实施例提供的一种本申请实施例所述的阵列基板的制作工艺，包括设置玻璃基板，以及在所述玻璃基板之上设置层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，在所述玻璃基板之上设置所述层结构的过程中，包括设置用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。可选地，所述用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层，为防蓝光膜层；所述凸凹不平的膜层为栅极扫描线；在所述玻璃基板之上设置所述层结构，具体包括：在所述玻璃基板上设置防蓝光膜层；在所述防蓝光膜层上设置凹槽；在所述凹槽内设置栅极扫描线。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中的RubbingMura现象的产生过程示意图；图2～图14为本申请实施例提供的制作阵列基板的过程中的各结构示意图；图15为现有技术中的阵列基板的结构示意图。具体实施方式本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置，用以防止产生RubbingMura或降低RubbingMura的程度。下面结合附图对本申请实施例提供的技术方案进行说明。本申请实施例提供的一种阵列基板，包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板之上的层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，所述阵列基板还包括：用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。本申请实施例通过在阵列基板中设置用于调整凸凹不平的膜层的平整度的膜层，从而可以使得阵列基板更加平整，防止产生RubbingMura或降低RubbingMura的程度。可选地，所述凸凹不平的膜层为栅极扫描线。本申请实施例，通过对栅极扫描线设置用于调整栅极扫描线所在的凸凹不平的膜层的平整度的膜层，从而降低或避免薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)的段差，因此可以降低RubbingMura的程度或防止产生RubbingMura。当然了，除了栅极扫描线这种存在凸凹不平的膜层外，同理，本申请实施例还可以对其他存在凸凹不平的膜层进行调整。可选地，所述用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层，为透明膜层。由于采用透明膜层，从而不影响光的透过率。可选地，所述透明膜层中设置有凹槽，所述栅极扫描线层设置在所述凹槽内。可选地，所述栅极扫描线层全部设置在所述凹槽内，并且将所述凹槽填平。若栅极扫描线层全部设置在凹槽内，则可以得到平整的层结构，从而防止产生RubbingMura；若栅极扫描线层部分设置在凹槽内，则可以得到较为平整的层结构，从而降低RubbingMura的程度。可选地，所述透明膜层为透明玻璃。可选地，所述透明膜层的材料为氮化硅或氧化硅。市面上所用的各种手机、电脑、电视机等屏幕中都存在大量的不规则频率的短波蓝光。蓝光会导致眼疲劳，长时间蓝光照射视网膜会导致视网膜眼疾病。为改善显示屏发出的蓝光对于人员的伤害，研发出一种防蓝光技术。对于目前TFT液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)产品的防蓝光技术是在进行TFTLCD生产前，在TFT基板上增加防蓝光膜层，通过高低折射率交替的多层薄膜让特定波段光线的入射角等于反射角的原理，实现降低蓝光的透过。具体地，参见图2，在TFT工艺制作前，在玻璃基板201上涂覆防蓝光薄膜202，然后在防蓝光薄膜的基础上，进行TFTLCD工艺的制作。如果在防蓝光膜层制作完成后增加一道Mask工艺，将蓝光膜层挖出一些凹槽，把Gate层放在防蓝光层的凹槽内，可以降低Gate高度，减小TFT内段差，进而防止或是降低RubbingMura的程度。因此，可选地，所述透明膜层为防蓝光膜层。本申请实施例中，可以结合现有层结构降低TFT段差，例如通过在防蓝光技术产品上的防蓝光膜层上增加Mask曝光工艺，将Gate层放置在防蓝光膜层内，降低TFT表面段差，从而降低Rubbing工艺RubbingMura的程度或防止出现RubbingMura。即本申请实施例提供的技术方案，通过利用防蓝光膜层调整TFT段差，从而既可以防蓝光，又可以降低RubbingMura的程度或防止出现RubbingMura。本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例所述的阵列基板。本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板之上的层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，其特征在于，所述阵列基板还包括：用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板之上的层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，其特征在于，所述阵列基板还包括：用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸凹不平的膜层为栅极扫描线。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层，为透明膜层。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述透明膜层中设置有凹槽，所述栅极扫描线层设置在所述凹槽内。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极扫描线层全部设置在所述凹槽内，并且将所述凹槽填平。6.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述透明膜层为防蓝光膜层。7.一...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫杰，王凯，张艳辉，高小龙，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11