图案形成体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种可以简便地得到表面自由能不同的图案的图案形成体的制造方法。在基材(11)上涂布含有表现出低表面自由能的第1化合物和表现出高于第1化合物的表面自由能的第2化合物的树脂组合物(12)，使树脂组合物(12)与形成有基于表面自由能差的图案的原版(20)接触并使其固化，在基材(11)上形成转印有原版(20)的图案的固化树脂层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种具有表面自由能不同的图案的图案形成体的制造方法。本申请以2013年6月11日在日本申请的日本专利申请号特愿2013－122812为基础主张优先权，通过参照该申请而被引用到本申请中。
技术介绍
目前，半导体、显示器、电子产品等的电子线路的微细图案几乎都是利用光刻(photolithography)技术制作的，但光刻技术在廉价产品的制造上存在局限性。而且，在以大面积化为目标的电子产品的制造中，在采用光刻技术的制作方法中难以控制制造成本。基于这样的现状，研究了所谓的“印刷电子(PrintedElectronics)”、即有效利用印刷技术来制造电子线路、传感器、元件等。该方法可望减少化学物质的使用量，作为对地球环境温和的制造工艺而受到关注。另外，该方法的一部分已经应用于薄膜键盘的电极印刷、汽车的窗玻璃红外线、射频识别(RadioFrequencyIdentification，RFID)标签天线等。专利文献1中记载着使表面张力部分地降低的转印用凹版，专利文献2中记载着对基材施行产生表面自由能差的表面改质。然而，在专利文献1记载的技术中，每次转印时必须使表面张力低的物质在一部分版面上偏析，另外，在专利文献2记载的技术中，由于是利用掩模图案进行基材的表面改质，所以制作方法繁杂。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2007－164070号公报；专利文献2：日本特开2005－52686号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术鉴于这样的现有实情而提出，提供一种可以简便地得到表面自由能不同的图案的图案形成体的制造方法。解决课题的方法为了解决所述课题，本专利技术的图案形成体的制造方法的特征在于，具备下述工序：涂布工序，在基材上涂布树脂组合物，所述树脂组合物含有表现出低表面自由能的第1化合物和表现出高于所述第1化合物的表面自由能的第2化合物；以及固化工序，使所述树脂组合物与原版接触并被固化，所述原版上形成有基于表面自由能差的图案，在所述基材上形成转印有所述原版图案的固化树脂层。另外，本专利技术的图案形成体的特征在于：通过上述制造方法形成的。另外，本专利技术的表面自由能转移用树脂组合物的特征在于：含有表现出低表面自由能的第1化合物、表现出高于所述第1化合物的表面自由能的第2化合物和光聚合引发剂，其中，所述第1化合物是含有全氟聚醚的丙烯酸酯。专利技术效果根据本专利技术，不需要光刻等复杂的工艺，可以简便地得到转印有原版图案的表面自由能不同的图案。附图说明图1是显示涂布工序的概略的剖面图。图2是显示固化工序的概略的剖面图。图3是显示图案形成体之一例的剖面图。图4是显示实施例中的原版A的概略的立体图。图5是显示使用原版A使树脂组合物A固化的固化工序的概略的剖面图。图6是涂膜A表面的光学显微镜照片。图7是利用油性笔涂抹涂膜A表面时的光学显微镜照片。图8是在涂膜A表面涂布树脂组合物B并使其固化时的光学显微镜照片。图9是在涂膜A表面涂布树脂组合物B并使其固化时的AFM观察图像。具体实施方式以下，参照附图，按照下述顺序对本专利技术的实施方式进行详细说明。1.图案形成体的制造方法2.图案形成体3.实施例＜1.图案形成体的制造方法＞本专利技术的一个实施方式所涉及的图案形成体的制造方法具备下述工序：涂布工序，在基材上涂布树脂组合物，所述树脂组合物含有表现出低表面自由能的第1化合物和表现出高于第1化合物的表面自由能的第2化合物；固化工序，使树脂组合物与形成有基于表面自由能差的图案的原版接触并使其固化，在基材上形成转印有原版图案的固化树脂层。以下，利用图1和图2对各工序进行说明。此外，图1、图2中虽然例示氟树脂类化合物作为第1化合物，但并不限于此。图1是显示涂布工序的概略的剖面图。在该涂布工序中，在基材11上涂布树脂组合物12。涂布可以使用刮条涂布机、喷涂机、旋转涂布机等。对基材11没有特别限定，可以使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯，Polyethyleneterephthalate)、玻璃、聚酰亚胺等。另外，还可以使用透明材料或不透明材料中的任一种。在使用紫外线固化型树脂组合物作为树脂组合物12时，通过使用透过紫外线的透明材料，可以从基材11侧进行紫外线照射。树脂组合物12含有：表现出低表面自由能的第1化合物、和表现出高于第1化合物的表面自由能的第2化合物。第1化合物可以使用所谓的“防粘连剂”、“平滑剂”、“流平剂”、“防污剂”等表面调节剂，优选使用氟树脂类化合物、或有机硅树脂类化合物。作为氟树脂类化合物，可以举出：含全氟聚醚基的化合物、含全氟烷基的化合物等，作为有机硅树脂类化合物，可以列举：含聚二甲基硅氧烷的化合物、含聚烷基硅氧烷的化合物等。第2化合物只要是表现出高于第1化合物的表面自由能的化合物即可，例如，在使用含全氟烷基的丙烯酸酯作为第1化合物时，优选使用三丙烯酸季戊四醇酯、聚乙二醇单丙烯酸酯等含羟基的丙烯酸酯作为第2化合物。树脂组合物12优选使用快速固化的自由基聚合型或阳离子聚合型树脂组合物，除第1化合物和第2化合物以外，还含有聚合性树脂和聚合引发剂。在自由基聚合型树脂组合物中，含有丙烯酸酯和自由基聚合引发剂。作为丙烯酸酯，例如可以列举：三丙烯酸季戊四醇酯、丙二醇改性三丙烯酸甘油酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸二甘醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯等，这些丙烯酸酯可以单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，作为自由基聚合引发剂，例如可以列举：苯烷基酮(alkylphenone)类光聚合引发剂、酰基氧化膦类光聚合引发剂、二茂钛类光聚合引发剂等，这些聚合引发剂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。在阳离子聚合型树脂组合物中，含有环氧树脂和阳离子聚合引发剂。作为环氧树脂，例如可以列举：双酚型环氧树脂、酚醛型环氧树脂、脂环型环氧树脂、杂环型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂等，这些环氧树脂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，作为阳离子聚合引发剂，例如可以列举：芳族锍盐、芳族重氮盐、碘鎓盐、磷盐、硒盐等鎓盐，这些阳离子聚合引发剂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。此外，在树脂组合物12中，可以任意包含粘度调节剂、稀释剂、表面调节剂等作为其他的化合物。图2是显示固化工序的概略的剖面图。在该固化工序中，使树脂组合物12与形成有基于表面自由能差的图案的原版20接触并使其固化，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案形成体的制造方法，具备下述工序：涂布工序，在基材上涂布树脂组合物，所述树脂组合物含有表现出低表面自由能的第1化合物和表现出高于所述第1化合物的表面自由能的第2化合物；以及固化工序，使所述树脂组合物与原版接触并使其固化，所述原版上形成有基于表面自由能差的图案，在所述基材上形成转印有所述原版的图案的固化树脂层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.06.11 JP 2013-1228121.一种图案形成体的制造方法，具备下述工序：
涂布工序，在基材上涂布树脂组合物，所述树脂组合物含有表现出低表面
自由能的第1化合物和表现出高于所述第1化合物的表面自由能的第2化合物；以
及
固化工序，使所述树脂组合物与原版接触并使其固化，所述原版上形成有
基于表面自由能差的图案，在所述基材上形成转印有所述原版的图案的固化树
脂层。
2.根据权利要求1所述的图案形成体的制造方法，其中，所述第1化合物是
氟树脂类化合物或有机硅树脂类化合物。
3.根据权利要求1或2所述的图案形成体的制造方法，其中，所述树脂组合
物是自由基聚合型树脂组合物。
4.根据权利要求1或2所述的图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤牧八，远藤亮介，尹炅成，近藤洋文，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP