遮光图案的制造方法技术

一种遮光图案的制造方法，其包括以下步骤。提供基板。基板具有透光区以及位于透光区的周边的遮光区。于透光区上形成保护层。于遮光区上形成遮光材料层。移除保护层，以形成遮光图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关于一种图案的制造方法，且特别是有关于一种。
技术介绍
现行的显示面板、触控面板或是触控显示面板通常会配置有遮光图案，用以避免漏光或是遮蔽位于透光区周围的金属走线。考虑到遮光图案的遮光效果，现行遮光图案的颜色通常为黑色，此黑色的遮光图案即一般电子产品常见的黑色边框。 在遮光效果的考虑下，传统采用铬、铝等穿透率低的金属材质作为遮光图案的材质，且经由派镀光刻工艺、蚀刻(狀也丨叩)工艺等工艺步骤制造出遮光图案。然而，此种既繁琐又耗费工艺时间及工艺成本。因此，现有技术主要是以黑色树脂(0681:1)作为遮光图案的材质，并经由光刻工艺制造出遮光图案。现有技术的改良虽已简化传统的工艺步骤，然而，所述光刻工艺仍包括涂底(办加丨!^)、抗蚀剂涂布、软烤(300: ^成一)、曝光、显影、硬烤及去抗蚀剂等多道工艺步骤。因此，现有的仍存在低产能以及高工艺成本等问题。 另外，对于使用者而言，黑色边框(即黑色的遮光图案)不一定能满足其对于产品外观的需求，因此白色、红色、蓝色等非黑色的遮光图案相继地被提出。然而，非黑色的遮光图案要在足够的厚度设计下才会具有理想的遮光效果，因而使得非黑色的遮光图案在制造上相对困难且耗费工艺时间。
技术实现思路
本专利技术提供一种，其具有高产能以及低工艺成本。 本专利技术的一种，其包括以下步骤。提供基板。基板具有透光区以及位于透光区的周边的遮光区。于透光区上形成保护层。于遮光区上形成遮光材料层。移除保护层，以形成遮光图案。 在本专利技术的一实施例中，上述的遮光区环绕透光区。 在本专利技术的一实施例中，上述的保护层与遮光材料层位于基板的同一侧。 在本专利技术的一实施例中，上述的保护层全面地覆盖于透光区上。 在本专利技术的一实施例中，上述的遮光材料层全面地覆盖于遮光区上。 在本专利技术的一实施例中，上述的遮光材料层与保护层共平面。 在本专利技术的一实施例中，上述的遮光材料层的边缘实质上与保护层的边缘切齐。 在本专利技术的一实施例中，上述的保护层为胶带，且于透光区上形成保护层的方法包括将胶带贴附于透光区上，而移除保护层的方法包括将胶带从透光区上撕除。 在本专利技术的一实施例中，上述的保护层为可剥胶，且于透光区上形成保护层的方法包括网版印刷，而移除保护层的方法包括将可剥胶从透光区上剥除。 在本专利技术的一实施例中，上述的保护层为高分子膜，且于透光区上形成保护层的方法包括涂布，而移除保护层的方法包括以热水溶化高分子膜。 在本专利技术的一实施例中，上述的遮光材料层的材料包括高分子材料或油墨。 在本专利技术的一实施例中，上述于遮光区上形成遮光材料层的方法包括印刷工艺。 在本专利技术的一实施例中，上述的印刷工艺包括喷墨印刷(工成知七网板印刷(3(^6611凹版印刷(&或数字印刷(01^11:81 9:1111:111?)。 基于上述，本专利技术在保护层的设置下形成遮光材料层，而在移除保护层后即可形成遮光图案。因此，相较于现有技术以光刻工艺制造遮光图案的方法，本专利技术的可具有高产能以及低工艺成本。 为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。 【附图说明】 图1八至图10为本专利技术一实施例的遮光图案的制作流程俯视示意图； 图2为应用本实施例的遮光图案的触控面板的俯视示意图。 附图标记说明: 100:遮光图案； 110:基板； 120:保护层； 130:遮光材料层； 10:触控面板； 12:第一触控结构； 12&.14&:感测垫； 1213,14?:连接部； 14:第二触控结构； 16:接垫； 18:金属走；线 八1: 透光区； ^2:遮光区； X、？:方向。 【具体实施方式】 图1八至图10为本专利技术一实施例的遮光图案的制作流程俯视示意图。请参照图1八，提供基板110，其中基板110的材质可根据其用途而定。举例而言，基板110的材质可选用透明或是不透明的材质。此处，透明材质泛指一般具备高穿透率的材质，而非用以限定穿透率为100%的材质。一般而言，在显示面板及触控显示面板的应用中，当基板110是用来形成彩色滤光层或是触控结构的基板时，基板110的材质通常是选用透明的材质，但本专利技术不限于此。 此外，基板110可以是硬质基板或是可挠基板。详言之，基板110的材质可以是玻璃、石英、高分子材料或其它合适的材料。高分子材料例如是聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、尼龙、聚碳酸酯、聚氨酯、聚四氟乙烯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺(901711111(16, 或丙烯酸树酯^68111)等挠曲性高的材料。当基板110的材质应用所述挠曲性高的材料时，则适于应用在挠曲表面或是任何可挠曲的对象上，进而增加基板110的应用范畴。 基板110可划分出透光区八1以及位于透光区八1的周边的遮光区42。在本实施例中，遮光区八2例如环绕透光区八1，但本专利技术不以此为限。遮光区八2与透光区八1的相对配置关系应视实际的需求而定。具体而言，透光区八1及遮光区八2依据欲形成的遮光图案的位置而定。详言之，遮光区八2为基板110上欲形成的遮光图案所覆盖的区域，而透光区八1则为欲形成的遮光图案所曝露出的区域。在显示面板的应用中，透光区八1可以作为对向基板的彩色滤光图案的配置区域。在触控面板的应用中，透光区八1可以作为触控结构的配置区域。另外，当基板110是作为保护元件的盖板时，透光区八1内也可以不用配置有任何元件。 请参照图18，于透光区八1上形成保护层120。在本实施例中，保护层120例如是全面地覆盖于基板110的透光区八1上。如此，可避免于后续工艺的过程中，透光区八1受到污染或是破坏。此外，保护层120可以是胶带、可剥胶或高分子膜。当保护层120为胶带时，保护层120例如是以贴附的方式形成于透光区八1上。当保护层120为可剥胶时，保护层120可以是以网版印刷的方式形成于透光区八1上。当保护层120为高分子膜时，保护层120例如是以涂布的方式形成于透光区八1上，其中高分子膜的材质可包括聚乙烯(001761^716116,四)、聚乙烯对苯二甲酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯访狀!'71社6，？臟[人)等。 请参照图10，于遮光区八2上形成遮光材料层130，其中遮光材料层130与保护层120位于基板110的同一侧。也就是说，遮光材料层130与保护层120共平面。在本实施例中，遮光材料层130例如是全面地覆盖于遮光区八2上，且遮光材料层130的边缘较佳是与保护层120的边缘切齐。 在本实施例中，遮光材料层130的材料例如是高分子材料或油墨，其中高分子材料或油墨的颜色可以是任意色彩，而可以不用限定为黑色，且于遮光区八2上形成遮光材料层130的方法例如是印刷工艺。印刷工艺例如是喷墨印刷、网板印刷、凹版印刷或数字印刷坐寸。 请参照图10，移除保护层120，以形成遮光图案100。当保护层120为胶带时，移除保护层120的方法包括将胶带从透光区八1上撕除。当保护层120为可剥胶时，移除保护层120的方法例如是将可剥胶从透光区八1上剥除。当保护层120为高分子膜时，移除保护层120的方法例如是以热水溶化高分子膜。 相较于现有技术于基板上全本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮光图案的制造方法，其特征在于，包括：提供基板，所述基板具有透光区以及位于所述透光区的周边的遮光区；于所述透光区上形成保护层；于所述遮光区上形成遮光材料层；以及移除所述保护层，以形成所述遮光图案。

【技术特征摘要】
1.一种遮光图案的制造方法，其特征在于，包括: 提供基板，所述基板具有透光区以及位于所述透光区的周边的遮光区； 于所述透光区上形成保护层； 于所述遮光区上形成遮光材料层；以及 移除所述保护层，以形成所述遮光图案。2.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征在于，所述遮光区环绕所述透光区。3.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征在于，所述保护层与所述遮光材料层位于所述基板的同一侧。4.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征在于，所述保护层全面地覆盖于所述透光区上。5.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征在于，所述遮光材料层全面地覆盖于所述遮光区上。6.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征在于，所述遮光材料层与所述保护层共平面。7.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征在于，所述遮光材料层的边缘实质上与所述保护层的边缘切齐。8.如权利要求1所述的遮光图案的制造方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王威捷，蔡益明，林圣贤，
申请(专利权)人：明兴光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71