相变化存储器单元的形成方法技术

公开了一种相变化存储器单元的形成方法，包括：在具有第一介电层、第二介电层及第三介电层的第一结构上形成冠状结构；沉积第四介电层在第一结构上，第四介电层在其所覆盖的不同区域皆具有相同的厚度；移除第四介电层的一部分以形成具有第四介电层的剩余部分的第一间隙物；移除第四介电层的该部分时也移除第三介电层的一部分而形成具有第三介电层的剩余部分的第二间隙物，因而形成第二结构；在第二结构上沉积相变化层；在相变化层上沉积电极层；以及形成具有该相变化层的剩余部分的一相变化区，以及形成具有该电极层的剩余部分的一电极区。本申请的方法可以降低制造成本。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】本申请是申请号为201110092410.X、申请日为2011年4月11日、专利技术名称为“相变化存储器单元及其形成方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种相变化存储器单元，尤其涉及一种具有冠状结构的相变化存储器单元。
技术介绍
相变化存储器(phase change memory ;PCM)为一种非易失性存储器，其中相变化材料的功能区的状态在结晶态(crystalline)及非晶态(amorphous)间转换，例如借由产生热能的电流来转换。而利用功能区的状态来表现存储的数据。例如，在热激发(heatexcitat1n)后，若功能区在结晶态，所存储的数据是在低逻辑电平(例如，“低信号”)。然而，若功能区为非晶态，所存储的数据为高逻辑电平(例如，“高信号”)。相变化存储器也称为相随机存取存储器(phase random access memory ;PRAM)、相变化随机存取存储器(phase change random access memory ;PCRAM)、双向通用存储器(ovonic unifiedmemory)、硫族随机存取存储器(chalcogenide random access memory ;C_RAM)等。传统上，相变化随机存取存储器的制造需要利用复杂且昂贵的蚀刻技术，例如需要多于一个的图案化掩模。
技术实现思路
为了克服现有技术中存在的缺点，本专利技术一实施例提供一种，包括:在具有一第一介电层、一第二介电层、及一第三介电层的一第一结构上形成穿过该第三介电层及该第二介电层的一冠状结构；沉积一第四介电层在该第一结构上，使得该第四介电层覆盖该第三介电层的表面、该冠状结构的侧壁以及表面，其中该第四介电层在该第四介电层所覆盖的不同区域皆具有相同的厚度；移除该第四介电层的一部分，以形成具有该第四介电层的剩余部分的一第一间隙物；移除该第四介电层的该部分时也移除该第三介电层的一部分，而形成具有该第三介电层的剩余部分的一第二间隙物，因而形成一第二结构；在该第二结构上沉积一相变化层；在该相变化层上沉积一电极层；以及利用一化学机械研磨工艺移除部分的该相变化层及该电极层，以形成具有该相变化层的剩余部分的一相变化区，以及形成具有该电极层的剩余部分的一电极区。本专利技术另一实施例提供一种相变化存储器单元，包括:一第一接触插塞；一相变化区在该第一接触插塞上且与其接触；一电极区；以及一第二接触插塞在该电极区上且与其接触；其中该相变化区围绕该电极区；该电极区具有与该相变化区接触的一第一表面，以及与该第二插塞接触的一第二表面；该第二表面面积大于该第一表面面积。本专利技术又一实施例提供一种，包括:在一基板上形成一冠状结构；在该冠状结构中形成一第一间隙物在一第二间隙物上；该第一间隙物及该第二间隙物定义一第一开口 ；该第一间隙物具有一第一间隙物开口大于该第二间隙物的一第二间隙物该口 ；在该第一开口中形成一相变化区，因此定义一第二开口 ；在该第二开口中形成一电极区；其中该相变化区的形成以及该电极区的形成是借由下列步骤的其中一种所形成:在该第一开口上沉积一相变化层；在该相变化层上沉积一电极层；以及借由第一化学机械研磨工艺移除部分该相变化层及该电极层，以形成具有该相变化层的剩余部分的该相变化区，以及形成具有该电极层的剩余部分的该电极区；或在该第一开口上沉积该相变化层；借由一第二化学机械研磨工艺移除该相变化层的一部分，以形成该相变化区；在该相变化区上沉积该电极层，而后借由一第三化学机械研磨工艺移除该电极层的一部分，以形成该电极区。本专利技术的实施例中，利用一个掩模来形成相变化随机存取存储器单元的冠状结构，可降低制造成本。为让本专利技术的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举出较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下:【附图说明】图1为根据数个实施例的相变化存储器阵列的三维透视图。图2A为根据数个实施例的图1的相变化存储器阵列的相变化存储器结构的剖面图。图2B为根据数个实施例的相变化存储器阵列的相变化存储器单元的剖面图。图3为根据数个实施例的图1的相变化存储器阵列的制造方法的流程图。图4-图10为根据数个实施例的依照图3的制造方法所制造图1的相变化存储器阵列在不同制造阶段的剖面图。【主要附图标记说明】100?相变化存储器阵列105?字元线110?位元线115?存储器单元120?(第一)接触插塞125?(第二)接触插塞250?功能区A?平面200、400、500、600、700、800、1000 ?结构205?基板210?(第一)介电层215?(第二)介电层217?相变化区218?电极区219?区域220?(第三)介电层225?(第四)介电层230?(第五)介电层300?方法305、320、325、330、335、340 ?步骤505?光致抗蚀剂层507 ?开口605?冠状结构705?介电层810、815 ?间隙物805?外形905?相变化层910?电极层1005 ?表面【具体实施方式】以下依本专利技术的不同特征举出数个不同的实施例。本专利技术中特定的元件及安排是为了简化，但本专利技术并不以这些实施例为限。举例而言，于第二元件上形成第一元件的描述可包括第一元件与第二元件直接接触的实施例，也包括具有额外的元件形成在第一元件与第二元件之间、使得第一元件与第二元件并未直接接触的实施例。此外，为简明起见，本专利技术在不同例子中以重复的元件符号和/或字母表示，但不代表所述各实施例和/或结构间具有特定的关系。在一些实施例中，包括有一或多个特征的组合和/或优点。相变化随机存取存储器单元可由相变化材料的化学机械研磨工艺轻易形成。利用一个掩模来形成相变化随机存取存储器单元的冠状结构，可降低制造成本。相变化随机存取存储器单元可应用于高密度非易失性闪存式存储器(high density non-volatile flash memory)。其具有宽度的电极表面，因此可容易搭配位在电极表面顶部上方所设置的接触插塞。_6] 相变化存储器单元及结构的实施例图1为根据一些实施例的相变化(PC)存储器阵列100的三维透视图。相变化存储器阵列100包括四个字元线(word line) 105及三个位元线(bitline) 110。字元线105親接上三个存储器单元115，而位元线110親接上四个存储器单元115。为了简化的缘故，仅标示一个存储器单元115。存储器单元115经由第一接触区(例如，接触插塞)120耦接至字元线105，且经由第二接触插塞125耦接至位元线110。在一些实施例中，第一接触插塞120及第二接触插塞125是由钨制成，然而在不同实施例中也可使用其他金属材料。在至少一实施例中，字元线105是由多晶硅或其他适合的材料所形成。接触插塞120作为加热器，其中各加热器产生热能，而改变对应的功能区250的性质(图2B)，也即，改变相变化存储器单元115中所存储的数据。在一些实施例中，电流流经接触插塞120而在接触插塞120中产生热能。平面A表示图2A-图10的剖面的参考平面。图1显示四个字元线105、三个位元线110、数个单元耦接至字元线105 (例如三个单元115)，及数个单元親接至位元线110 (例如四个单元115)作为说明。在一些实施例中，字元线1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种相变化存储器单元的形成方法，包括：在具有一第一介电层、一第二介电层、及一第三介电层的一第一结构上形成穿过该第三介电层及该第二介电层的一冠状结构；沉积一第四介电层在该第一结构上，使得该第四介电层覆盖该第三介电层的表面、该冠状结构的侧壁以及表面，其中该第四介电层在该第四介电层所覆盖的不同区域皆具有相同的厚度；移除该第四介电层的一部分，以形成具有该第四介电层的剩余部分的一第一间隙物；移除该第四介电层的该部分时也移除该第三介电层的一部分，而形成具有该第三介电层的剩余部分的一第二间隙物，因而形成一第二结构；在该第二结构上沉积一相变化层；在该相变化层上沉积一电极层；以及利用一化学机械研磨工艺移除部分的该相变化层及该电极层，以形成具有该相变化层的剩余部分的一相变化区，以及形成具有该电极层的剩余部分的一电极区。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：沈明辉，曹淳凯，刘世昌，蔡嘉雄，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71