薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:11351571 阅读:72 留言:0更新日期:2015-04-24 17:59
本发明专利技术提供一种薄膜晶体管,包括形成在基板上的栅极、有源层、源极和漏极,所述有源层包括具有掺杂离子的氧化物,所述掺杂离子具有p轨道电子排布结构,且所述掺杂离子的p轨道能级高于所述氧化物中氧离子的2p轨道能级,以使得掺杂后有源层的价带顶高于有源层中形成的氧空位的能级。相应地,本发明专利技术还提供一种薄膜晶体管的制作方法、阵列基板和显示装置。本发明专利技术中薄膜晶体管的有源层主要由具有掺杂离子的氧化物制成,可以提高薄膜晶体管的稳定性,且不需要在显示装置上增加遮光结构,简化制作工艺。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄膜晶体管,包括:形成在基板上的栅极、有源层、源极和漏极,其特征在于,所述有源层包括具有掺杂离子的氧化物,所述掺杂离子具有p轨道电子排布结构,且所述掺杂离子的p轨道能级高于所述氧化物中氧离子的2p轨道能级,以使得有源层的价带顶高于所述氧化物中形成的氧空位的能级。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王美丽
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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