本实用新型专利技术提供一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板和筐底板，所述筐壁板和框底板构成筐体，还包括挡板和挂耳，所述筐底板设有若干阶梯槽孔，且若干阶梯槽孔呈矩形均匀分布；所述阶梯槽孔同一阶梯各槽构成的矩形尺寸分别与4英寸、5英寸、6英寸硅片放置篮尺寸相对应。本实用新型专利技术具有的积极效果是：新型硅片清洗筐结构能够同时清洗4篮4-6英寸的硅片，相对于原来只能清洗2筐6英寸硅片的清洗筐，大大提高了清洗效率，降低了能源损耗及产能浪费；阶梯槽孔的设计，能够同时适应不同尺寸的硅片放置篮，并且保证硅片的放置稳定安全，虽然结构简单，但是功能性强；壁孔和底孔的设计，减少了对超声波的遮挡，超声震荡清洗更加充分，清洗效果更加。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板和筐底板，所述筐壁板和框底板构成筐体，还包括挡板和挂耳，所述筐底板设有若干阶梯槽孔，且若干阶梯槽孔呈矩形均匀分布；所述阶梯槽孔同一阶梯各槽构成的矩形尺寸分别与4英寸、5英寸、6英寸硅片放置篮尺寸相对应。本技术具有的积极效果是：新型硅片清洗筐结构能够同时清洗4篮4-6英寸的硅片，相对于原来只能清洗2筐6英寸硅片的清洗筐，大大提高了清洗效率，降低了能源损耗及产能浪费；阶梯槽孔的设计，能够同时适应不同尺寸的硅片放置篮，并且保证硅片的放置稳定安全，虽然结构简单，但是功能性强；壁孔和底孔的设计，减少了对超声波的遮挡，超声震荡清洗更加充分，清洗效果更加。【专利说明】一种新型硅片清洗筐
本专利技术创造属于半导体材料中硅片的加工领域，尤其是涉及一种新型硅片清洗 Μ?
技术介绍
近年来，随着电子信息技术产业的飞速发展、产品的需求不断提高，对电子产品的主要原材料一一硅片在质量方面也提出了更高的要求。同时随着信息产业对硅片的需求量的不断提高，对硅片的生产率也提出了更高的要求。 但是目前普遍使用的硅片腐前清洗机所配套的清洗筐存有诸多不足，如质量较重；遮挡较多；功能单一，清洗硅片时对硅片的尺寸有较多的限制；单次清洗硅片数量较少等不足。 基于现有清洗筐的诸多不足，迫使技术人员对现有清洗筐进行改造，以提高硅片清洗的质量和效率。
技术实现思路
本专利技术创造要解决的问题是针对现有技术的不足，提供一种用于硅片清洗工序的清洗筐O 为解决上述技术问题，本专利技术创造采用的技术方案是:一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板和筐底板，所述筐壁板和框底板构成筐体，还包括挡板和挂耳；两个所述挡板分别设置在框底板两根中轴线上，且与筐壁板相连接，所述清洗筐分隔成四个部分；所述挂耳设置筐壁板外表面上，且对称设置；所述筐壁板设有若干壁孔且均匀分布；所述清洗筐分隔成的四个部分各部分框底板设有一个矩形孔，且所述矩形孔居中设置；所述筐底板设有若干阶梯槽孔，且若干阶梯槽孔呈矩形均匀分布；所述阶梯槽孔同一阶梯各槽构成的矩形尺寸分别与4英寸、5英寸、6英寸硅片放置篮尺寸相对应。 优选地，所述4-6英寸硅片放置篮对应的阶梯槽孔深度依次减少。 优选地，所述筐底板还设有若干底孔，且均匀分布。 优选地，所述清洗筐的材料为PP塑料。 优选地，所述挂耳为实体结构。 本专利技术创造具有的优点和积极效果是:本专利技术创造提供的新型硅片清洗筐结构能够同时清洗4篮4-6英寸的硅片，相对于原来只能清洗2筐6英寸硅片的清洗筐，大大提高了清洗效率，降低了能源损耗及产能浪费；阶梯槽孔的设计，能够同时适应不同尺寸的硅片放置篮，并且保证硅片的放置稳定安全，虽然结构简单，但是功能性强；壁孔和底孔的设计，减少了对超声波的遮挡，超声震荡清洗更加充分，清洗效果更加；采用PP塑料，使清洗筐质量轻便，便于机械手作业和人工搬运。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术创造俯视结构示意图； 图2是本专利技术创造侧视结构示意图； 图3是阶梯槽孔俯视结构示意图； 图4是阶梯槽孔正剖视结构示意图； 图中:1-筐壁板，11-壁孔，2-框底板，21-底孔，3-挡板，4-挂耳，5-阶梯槽孔。 【具体实施方式】 下面结合附图对本专利技术创造的具体实施例做详细说明。 一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板I和筐底板2，所述筐壁板I和框底板2构成筐体，还包括挡板3和挂耳4 ;两个所述挡板3分别设置在框底板2两根中轴线上，且与筐壁板I相连接，所述清洗筐分隔成四个部分；所述挂耳4设置筐壁板I外表面上，且对称设置；所述筐壁板I设有若干壁孔11且均匀分布；所述清洗筐分隔成的四个部分各部分框底板2设有一个矩形孔，且所述矩形孔居中设置；所述筐底板2设有若干阶梯槽孔5，且若干阶梯槽孔5呈矩形均匀分布；所述阶梯槽孔5同一阶梯各槽构成的矩形尺寸分别与4英寸、5英寸、6英寸硅片放置篮尺寸相对应；所述4-6英寸硅片放置篮对应的阶梯槽孔5深度依次减少；所述筐底板2还设有若干底孔21，且均匀分布；所述清洗筐的材料为PP塑料；所述挂耳4为实体结构。 目前针对主要生产的4、5、6英寸硅片的清洗工序，使用该清洗筐可以同时清洗这些尺寸的硅片。在清洗能力上的改进主要表现在:原清洗筐每批次清洗4英寸硅片4篮，5英寸硅片4篮，6英寸硅片2篮；改进后的清洗筐每批次清洗4英寸硅片4篮，5英寸硅片4篮，6英寸硅片4篮，提高了清洗效率。同时不同尺寸可以两两同时清洗，比如两篮4寸和两篮6寸，两篮5寸和两篮6寸，两篮4寸和两篮5寸这样的组合方式进行混合清洗，只需保证尺寸一致的硅片对角放置即可，如此可以保证在更换尺寸时，每批次均为四篮满筐运行，清洗效率至少提高了 20%。 阶梯槽孔5的设计，能够同时适应不同尺寸的硅片放置篮，并且保证硅片的放置稳定安全，虽然结构简单，但是功能性强；壁孔11和底孔21的设计，减少了对超声波的遮挡，超声震荡清洗更加充分，清洗效果更加，另外使清洗筐在槽体间转换过程中的残留液体流失降到最低；采用PP塑料，使清洗筐质量轻便，便于机械手作业和人工搬运。 以上对本专利技术创造的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本专利技术创造的较佳实施例，不能被认为用于限定本专利技术创造的实施范围。凡依本专利技术创造申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本专利技术创造的专利涵盖范围之内。【权利要求】1.一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板和筐底板，所述筐壁板和框底板构成筐体，其特征在于:还包括挡板和挂耳；两个所述挡板分别设置在框底板两根中轴线上，且与筐壁板相连接，所述清洗筐分隔成四个部分；所述挂耳设置筐壁板外表面上，且对称设置；所述筐壁板设有若干壁孔且均匀分布；所述清洗筐分隔成的四个部分各部分框底板设有一个矩形孔，且所述矩形孔居中设置；所述筐底板设有若干阶梯槽孔，且若干阶梯槽孔呈矩形均匀分布；所述阶梯槽孔同一阶梯各槽构成的矩形尺寸分别与4英寸、5英寸、6英寸硅片放置篮尺寸相对应。2.根据权利要求1所述的一种新型硅片清洗筐，其特征在于:所述4-6英寸硅片放置篮对应的阶梯槽孔深度依次减少。3.根据权利要求1所述的一种新型硅片清洗筐，其特征在于:所述筐底板还设有若干底孔，且均勾分布。4.根据权利要求1所述的一种新型硅片清洗筐，其特征在于:所述清洗筐的材料为PP塑料。5.根据权利要求1所述的一种新型硅片清洗筐，其特征在于:所述挂耳为实体结构。【文档编号】H01L21/673GK204230217SQ201420693964【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月18日 优先权日:2014年11月18日 【专利技术者】张俊生, 王俊朋, 甄红昌, 秦焱泽 申请人:天津中环领先材料技术有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种新型硅片清洗筐，包括筐壁板和筐底板，所述筐壁板和框底板构成筐体，其特征在于：还包括挡板和挂耳；两个所述挡板分别设置在框底板两根中轴线上，且与筐壁板相连接，所述清洗筐分隔成四个部分；所述挂耳设置筐壁板外表面上，且对称设置；所述筐壁板设有若干壁孔且均匀分布；所述清洗筐分隔成的四个部分各部分框底板设有一个矩形孔，且所述矩形孔居中设置；所述筐底板设有若干阶梯槽孔，且若干阶梯槽孔呈矩形均匀分布；所述阶梯槽孔同一阶梯各槽构成的矩形尺寸分别与4英寸、5英寸、6英寸硅片放置篮尺寸相对应。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张俊生，王俊朋，甄红昌，秦焱泽，
申请(专利权)人：天津中环领先材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12
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