【技术实现步骤摘要】
本技术属于抛光片清洗水处理，尤其是涉及一种抛光片清洗水处理装置。
技术介绍
1、硅片的生产过程中需要对硅片进行抛光和清洗，在抛光和清洗的工作过程中，会产生大量的抛光片清洗水，根据不同的生产工艺抛光片清洗水的ph值，这部分抛光片清洗水，需要进行委外处理，污水处理及清洗用水量巨大，导致生产成本增加，如何重复利用这部分抛光片清洗水成为了降低了生产成本中亟需解决的问题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本技术旨在提出一种抛光片清洗水处理装置，以期解决上述部分技术问题中的至少之一。
2、为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：
3、一种抛光片清洗水处理装置，包括依次连通的原水箱、第一反应槽、过滤水槽、软化器、反渗透过滤器、第二反应槽、处理水箱；
4、所述原水箱用于缓存抛光片清洗液，所述过滤水槽与软化器连通的连接管上设有第一电磁阀门，所述过滤水槽通过第二电磁阀门与排放罐连通，所述处理水箱通过第三电磁阀门与纯水系统的过滤水箱连通，所述处理水箱通过第四电磁阀门与排放罐连通；
5、所述排放罐与污水处理系统连通。
6、进一步的，所述过滤水槽的出液端设有水质在线检测组件，所述水质在线检测组件与控制器电连接，所述第一电磁阀门、第二电磁阀门分别通过驱动器与控制器电连接；
7、当所述在线检测组件检测到过滤水槽流出液体符合标准时，第一电磁阀门开启，第二电磁阀门关闭，滤水槽流出液体进入软化器内；
8、当所述在线检测组件检测到过滤
9、进一步的，所述处理水箱的出液端设有水质在线检测组件，所述水质在线检测组件与控制器电连接，所述第三电磁阀门、第四电磁阀门分别通过驱动器与控制器电连接；
10、当所述在线检测组件检测到过处理水箱流出液体符合标准时，第三电磁阀门开启，第四电磁阀门关闭，处理水箱流出液体进入软化器内；
11、当所述在线检测组件检测到过处理水箱流出液体不符合标准时，第三电磁阀门关闭，第四电磁阀门开启，处理水箱流出液体进入排放罐内。
12、进一步的，所述软化器与反渗透过滤器之间设有阻垢剂添加组件，所述阻垢剂添加组件用于添加阻垢剂。
13、进一步的，所述第一反应槽内添加ph调节剂，所述第二反应槽内添加ph调节剂；
14、所述ph调节剂包括盐酸或氢氧化钠。
15、相对于现有技术，本技术所述的一种抛光片清洗水处理装置具有以下有益效果：
16、(1)本技术所述的一种抛光片清洗水处理装置，通过对车间清洗水进行回收处理，处理后的水质满足回用要求，用于纯水制纯，从而节约水资源，更好地实现企业的社会责任，时降低取水和排放水成本，进而降低了硅片的生产成本。
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1.一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：包括依次连通的原水箱(1)、第一反应槽(2)、过滤水槽(3)、软化器(4)、反渗透过滤器(5)、第二反应槽(6)、处理水箱(7)；
2.根据权利要求1所述的一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：所述过滤水槽(3)的出液端设有水质在线检测组件，所述水质在线检测组件与控制器电连接，所述第一电磁阀门、第二电磁阀门分别通过驱动器与控制器电连接；
3.根据权利要求1所述的一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：所述处理水箱(7)的出液端设有水质在线检测组件，所述水质在线检测组件与控制器电连接，所述第三电磁阀门、第四电磁阀门分别通过驱动器与控制器电连接；
4.根据权利要求1所述的一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：所述软化器(4)与反渗透过滤器(5)之间设有阻垢剂添加组件，所述阻垢剂添加组件用于添加阻垢剂。
5.根据权利要求1所述的一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：所述第一反应槽(2)内添加pH调节剂，所述第二反应槽(6)内添加pH调节剂；
【技术特征摘要】
1.一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：包括依次连通的原水箱(1)、第一反应槽(2)、过滤水槽(3)、软化器(4)、反渗透过滤器(5)、第二反应槽(6)、处理水箱(7)；
2.根据权利要求1所述的一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：所述过滤水槽(3)的出液端设有水质在线检测组件，所述水质在线检测组件与控制器电连接，所述第一电磁阀门、第二电磁阀门分别通过驱动器与控制器电连接；
3.根据权利要求1所述的一种抛光片清洗水处理装置，其特征在于：...
【专利技术属性】
技术研发人员：周艺妃，潘力，孙维帅，杨国林，王陆，张晋英，谭永麟，孙晨光，王彦君，
申请(专利权)人：天津中环领先材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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