一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置，包括坩埚、火山口和多个衬锅；所述坩埚设有多个坩埚容器；所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚容器内，且所述坩埚上方置有所述火山口；其特征在于：所述蒸镀装置还包括多个升降装置和驱动装置；所述坩埚底端开设有多个孔口，所述升降装置穿过孔口与所述坩埚组合，并在所述驱动装置的调节下控制衬锅的运作状态。本实用新型专利技术通过调节衬锅的高度，缩小衬锅与火山口之间的间隙，改善蒸镀过程中蒸镀源间的交叉污染现象，减少片源异常，降低异常率，有效地降低成本；在蒸镀过程中，由于衬锅底部远离坩埚容器底部，减弱了坩埚底部对衬锅内镀源的冷却作用，从而减小镀膜时的功率输出，进一步节省成本。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置，包括坩埚、火山口和多个衬锅；所述坩埚设有多个坩埚容器；所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚容器内，且所述坩埚上方置有所述火山口；其特征在于：所述蒸镀装置还包括多个升降装置和驱动装置；所述坩埚底端开设有多个孔口，所述升降装置穿过孔口与所述坩埚组合，并在所述驱动装置的调节下控制衬锅的运作状态。本技术通过调节衬锅的高度，缩小衬锅与火山口之间的间隙，改善蒸镀过程中蒸镀源间的交叉污染现象，减少片源异常，降低异常率，有效地降低成本；在蒸镀过程中，由于衬锅底部远离坩埚容器底部，减弱了坩埚底部对衬锅内镀源的冷却作用，从而减小镀膜时的功率输出，进一步节省成本。【专利说明】—种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置
本技术属于半导体装置
，尤其涉及一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀 >J-U ρ?α装直。
技术介绍
在半导体制程工艺中，电子枪式金属蒸镀设备的原理是:电子枪经高压电加热后发射电子束，电子束轰击在衬锅内的金属膜料等蒸镀源表面并对其进行加热，使其熔融，在高真空环境中，待金属膜料温度超过临界温度后，固体的金属膜料便变成金属蒸汽，产生金属蒸汽流，蒸汽流中携带的金属原子或分子遇到晶片时，进而冷凝沉积成固体薄膜。 目前电子枪式蒸镀机多为多蒸镀源设备，且使用坩埚旋转方式选择蒸镀源。火山口固定在坩埚底座上方，坩埚底座上端与火山口下端之间存在一定的间隙(约2mm)，且该间隙无法调整。因此，在蒸镀时，少部分蒸发物会通过间隙附着到相邻的蒸镀源表面，造成蒸镀源的交叉污染，使得产品的良率降低，同时，造成了金属镀源的浪费，增大了生产的成本。
技术实现思路
本技术旨在改善现有技术中存在的电子枪蒸镀过程中蒸镀源交叉污染的问题。 有鉴于此，本技术提供一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置，包括坩埚、火山口和多个衬锅；所述坩埚设有多个坩埚容器；所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚容器内，且所述坩埚上方置有所述火山口，其特征在于:所述蒸镀装置还包括多个升降装置和驱动装置；所述坩埚底端开设有多个孔口，所述升降装置穿过孔口与所述坩埚组合，并在所述驱动装置的调解下控制衬锅的运作状态。 优选的，所述衬锅运作时，将其上升到设定高度，使得其高度不低于火山口的下端，从而通过缩小衬锅与火山口之间的间隙，改善在蒸镀过程中相邻蒸镀源间的交叉污染现象。 优选的，所述升降装置进一步地包括倒工字型升降台和弹性件，所述弹性件位于所述倒工字型升降台中间并包裹于其外周，所述弹性件可为弹簧等具有弹性的材料，并且所述升降装置与所述坩埚容器数目一致。 优选的，所述驱动装置进一步地包括推杆和驱动电机，所述推杆长度可调，所述驱动电机通过推杆调节所述升降装置和所述衬锅朝向或背离所述火山口。 优选的，所述控制装置传输操作信号至所述驱动装置，进而调节升降装置的运作。 综上所述，利用本技术所提供的一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置，通过调节衬锅的高度，缩小衬锅与火山口之间的间隙，改善了在蒸镀过程中相邻蒸镀源间的交叉污染现象，减少因镀源污染造成的片源异常，降低异常率，减少镀源交叉污染导致镀源无法继续使用，造成镀源的浪费，有效地降低成本；在蒸镀过程中，由于衬锅底部远离坩埚容器底部，因此减弱了坩埚底部对衬锅内镀源的冷却作用，从而减小镀膜时的功率输出，进一步节省生产成本。 【专利附图】【附图说明】 图1:本技术提供的蒸镀装置俯视示意图。 图2:本技术实施例1提供的蒸镀装置侧视示意图。 图3:本技术实施例2提供的蒸镀装置侧视示意图。 图中:1:火山口 ；2:坩埚;21、22、23、24、25、26:坩埚容器；3 (31、32、33、34、35、36):衬锅；4:孔口 ；5 (51、52、53、54、55、56):升降装置；511:倒工字型升降台；512:弹簧；6 (62、63、64、65、66):驱动装置；621:推杆；622:驱动电机。 【具体实施方式】 下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。 实施例1 如图1所示，在蒸镀过程中，衬锅3内分别盛放所需蒸镀源，再将其放入不同坩埚容器内，而其底部位于升降装置中的5中的倒工字型升降台上。在机台控制装置中设定所需控制的坩埚容器号，进而控制坩埚2的旋转和驱动电机621的运转。 具体地，坩埚2包括多个坩埚容器，本例优选使用数目为6个，分别为21-26，相应地，该蒸镀装置还具有6个衬锅31-36、6个升降装置51-56，以及5个驱动装置62-66。衬锅31盛放待蒸发蒸镀源，放置于坩埚容器21内，并受升降装置51支撑。此时，升降装置51的弹簧512处于压缩状态，受弹簧512弹力的作用，倒工字型升降台511处于坩埚容器21的底部。同时，其余衬锅32-36处于未蒸发位置，其驱动装置62-66接收到机台控制装置的信号后，驱动电机622开始运作，推动推杆621伸长，则升降装置5朝向火山口 I运动，使倒工字型升降台511升高，压缩弹簧512，进而将衬锅32-36升高到设定高度，使其恰好处在所述火山口 I的下端并接触；由于衬锅32-36高于所述衬锅31，在蒸发过程中蒸镀源不能通过火山口 I和坩埚2之间的间隙进入衬锅32-36内，而只能附着在其外壁上，从而防止蒸镀源间的交叉污染。 当坩埚容器21内的蒸镀源蒸发结束后，驱动装置62-66的驱动电机622接收到控制装置的信号后，停止运作，升降装置52-56的倒工字型升降台511受弹簧512的弹力作用，使得倒工字型升降台511下降，恢复到初始位置，位于衬锅3的底部；同时驱动装置62-66的推杆回收。随后，控制装置控制坩埚2逆时针(或顺时针)旋转一定角度，使得坩埚容器22处于待蒸发位置，其他坩埚容器21、23-26处于未蒸发位置，由于倒工字型升降台下端部大于孔口 4的直径，从而避免在坩埚2旋转过程中，弹簧512从孔口 4掉落。此时，控制驱动装置62-66的驱动电机622开始运转，将衬锅31、33-36升高至所述火山口 I下端并与其接触，进而开始一种新蒸镀源的蒸发。在蒸镀过程中，由于衬锅底部远离坩埚容器底部，因此减弱了坩埚底部对衬锅内镀源的冷却作用，从而减小镀膜时的功率输出，进一步节省生产成本。 在蒸镀过程中，坩埚2、升降装置5、驱动装置6密切配合，可以循环进行不同种类镀源的蒸镀。 实施例2 如图2所示，本实施例与实施例1的区别在于:该蒸镀装置仅在待蒸发位置设置有I个驱动装置6。在蒸发过程中，所述衬锅31处于待蒸发位置，而其他衬锅32-36处于未蒸发位置，受驱动装置6和升降装置51的作用，衬锅31上升到设定高度，高于火山口的下端；而其他衬锅32-36受弹簧512的弹力作用，均位于坩埚容器22-26的底部，此时衬锅31内的蒸镀源在被蒸发时，镀源蒸汽只可附着于火山口 I侧壁，而无法通过火山口 I和坩埚2的间隙进入其他衬锅32-36内，从而防止了蒸镀源间本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置，包括坩埚、火山口和多个衬锅；所述坩埚设有多个坩埚容器；所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚容器内，且所述坩埚上方置有所述火山口，其特征在于：所述蒸镀装置还包括多个升降装置和驱动装置；所述坩埚底端开设有多个孔口，所述升降装置穿过孔口与所述坩埚组合，并在所述驱动装置的调节下控制衬锅的运作状态。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：江新松，张家宏，林耀辉，王军辉，邱树添，彭家彦，
申请(专利权)人：安徽三安光电有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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