一种蒸镀工艺用掩膜版制造技术

本实用新型专利技术提供一种蒸镀工艺用掩膜版，包括：金属掩模基体，具有多个开口区以形成特定的图形；磁性弹性膜，所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体相对应的开口与图形，并形成于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧，且金属掩模基体的开口范围在磁性弹性膜对应的开口范围内。所述磁性弹性膜由磁性高分子材料构成。本实用新型专利技术提供的掩膜版中，高分子膜由于具有磁性，可与金属掩模基体具有牢固的结合，另外由于膜的弹性，可容纳玻璃基板上较大粒径的颗粒物，保证玻璃基板与掩膜版紧密贴合，有效防止蒸镀过程中玻璃基板与掩膜版非紧密贴合状态导致的混色蒸镀。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及有机发光显示器的制造工艺领域，尤其涉及一种蒸镀用的掩膜版。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称OLED)显示器是一种有机薄膜电致发光器件，其具有制备工艺简单、成本低、易形成柔性结构、视角宽等优点。因此，利用有机发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。有机发光二极管显示器核心部件为每个子像素中的有机发光层。子像素中的有机发光层的形成一般采用蒸镀的方式，如图1所示，蒸镀设备包括蒸镀源5’、掩膜版2’等部件。蒸镀过程中，玻璃基板1’与掩膜版2’重叠在一起，真空高温状态下(温度可达到650℃)，需要蒸镀的材料从下方经加热气化而沉积在基板未被掩膜版2’遮挡的特定区域内。常用掩膜版材料是铁镍合金，具有磁性，且热膨胀系数低。图1示出了蒸镀过程因颗粒物引起的混色蒸镀的原理。蒸镀过程中，当玻璃基板1’上存在微小的颗粒物6’(粒径为5～10μm)，会使得掩膜版2’和玻璃基板1’产生不平行状态，在部分区域掩膜版2’与玻璃基板1’之间存在空隙；当蒸镀时，一个子像素3’a或4’a会因为间隙的存在，产生多余的部分3’b或4’b,另外有机材料会由间隙扩散，而蒸镀到其相邻的子像素区域，导致一种颜色的有机材料形成在相邻的子像素区域，如图中的3’c或4’c，从而导致混色。
技术实现思路
为了解决以上提到的问题，本技术实施例提供一种蒸镀工艺用掩膜版，包括：金属掩模基体，具有多个开口区以形成特定的图形；磁性弹性膜，所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体相对应的开口与图形，并对位形成于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧。所述磁性弹性膜可选为磁性高分子材料，所述磁性高分子材料可选为磁性材料与高分子材料的形成的高分子复合材料，其中作为基体的高分子材料可选为可光学刻蚀的高分子材料。磁性弹性膜的开口与金属掩模基体对应，且金属掩模基体的开口范围在磁性弹性膜对应的开口范围内。磁性弹性膜与金属掩模基体通过磁性吸引力或粘结力结合，或同时通过以上两种作用力结合。本技术提供的掩膜版中，高分子膜由于具有磁性，可与金属掩模基体具有牢固的结合，另外由于膜的弹性，可容纳玻璃基板上较大粒径的颗粒物，保证玻璃基板与掩膜版紧密贴合，从而有效防止蒸镀过程中玻璃基板与掩膜版非紧密贴合状态导致的混色蒸镀。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中蒸镀过程因颗粒物引起的混色蒸镀的示意图；图2为本技术的一实施例的蒸镀掩膜版结构示意图；图3为本技术的一实施例的磁性弹性膜材料的一种组成结构示意图；图4为本技术的一实施例的磁性弹性膜材料的另一种组成结构示意图；图5为本技术的一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的对位贴合工艺的第一步；图6为本技术的一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的对位贴合工艺的第二步；图7为本技术的一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的对位贴合工艺的第三步；图8为本技术的一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的对位贴合工艺的第四步；图9为本技术的一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的对位贴合工艺的第五步；图10为本技术的一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的对位贴合工艺的第六步；图11为本技术的另一实施例中磁性弹性膜与金属掩模基体的开口的位置、尺寸关系示意图；具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，但是本技术还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似推广，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。如
技术介绍
部分所述，基板上的颗粒物会使得金属掩模基体与玻璃基板处于不平行状态，导致有机原料蒸镀到其它像素区域，产生混色。有鉴于此，本技术实施例提供了一种蒸镀工艺用掩膜版11，如图2所示，掩膜版11包括金属掩模基体2与磁性弹性膜7，磁性弹性膜7形成于金属掩模基体2背离蒸镀源5的一侧，蒸镀过程中金属掩模基体2通过磁性弹性膜7与玻璃基板1接触。磁性弹性膜7具有与金属掩模基体2相同的开口，即磁性弹性膜与金属掩模基体的开口其形状、尺寸大小、位置均相同，且根据磁性弹性膜7与金属掩模基体2的开口对二者进行对位贴合。相同的开口设置保证磁性弹性膜7不改变蒸镀区域的位置与范围。磁性弹性膜7由磁性高分子材料构成。具体的，所述磁性高分子材料为由磁性材料与高分子基体材料组成的复合材料，磁性材料为磁性聚丁二炔衍生物，高分子基体材料为聚酰亚胺类树脂材料，图3为该复合材料的结构示意图。聚丁二炔衍生物为高分子聚合物，本身同样具有弹性，且与聚酰亚胺类树脂的相容性较好，在制备过程中可以混合得更加均匀，使得弹性膜具有较为均匀的力学性能。聚丁二炔衍生物可通过热聚合或固相聚合的方式制备，可选的，将三苯甲基自由基或氮氧自由基取代丁二炔的H得到成分为1,4-双(2,2,6,6-四甲基-4-羟基-1-氧自由基哌啶基)丁二炔的黑色磁性聚合物粉末，本技术实施例中制备聚丁二炔衍生物的原料以及方法以及产物均不以此为限。关于磁性复合材料的制备，可将以上制备的聚丁二炔衍生物粉末与聚酰亚胺预聚体混合，通过模压或者注射成型，将树脂或聚酰亚胺涂布在基板上，经过一系列光热处理，使聚酰亚胺预聚体发生聚合固化，制成含聚丁二炔衍生物的磁性高分子弹性膜。为保证聚丁二炔衍生物与聚酰亚胺预聚体混合后的流动性，该混合物的粘度可选为5～3500CPS，该混合物的固含量(聚丁二炔衍生物与聚酰亚胺预聚体占总重的比例)可选为10～30wt％。聚酰亚胺固化工艺的干燥方式可采用红外干燥或热风干燥，处理温度为90～140℃，通过干燥方式、干燥温度的调节可以调节弹性膜的硬度、弹性。考虑磁性弹性膜厚度对蒸镀效果的影响，为防止膜厚太小不能有效容纳颗粒物或或膜厚太大产生蒸镀阴影区，本实施例中可通过膜的制备工艺的调整，磁性弹性膜成膜之后的干膜的厚度d控制在15-40μm范围内，但不以此为限。考虑磁性弹性膜的热膨胀、收缩对开口尺寸的影响，为防止磁性弹性膜的热膨胀、收缩而改变开口尺寸，及其导致的遮挡开口的后果，磁性弹性膜材料的热膨胀系数范围可选为30～40ppm/k，但不以此为限。考虑磁性弹性膜容纳颗粒物的效果、膜的变形程度对贴合效果的影响，以及磁性弹性膜本身力学性能的要求，为防止磁性弹性膜太软而被颗粒物破坏，或磁性弹性膜太硬而无法有效容纳颗粒物而导致混色，可通过膜的制备工艺的调整，将磁性弹性膜的杨氏模量控制在6～7Gpa的范围，将硬度控制在0.35～0.45GPa的范围，但不以此为限。此外，为防止蒸镀过程中玻璃基板上的电路元器件受到静电损伤，所用磁性弹性膜对静电具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀工艺用掩膜版，其特征在于，包括：金属掩模基体，具有多个开口区以形成特定的图形；磁性弹性膜，形成于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧；其中，所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体相同的开口，且所述磁性弹性膜对位贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧；或所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体对应的开口，且对位贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧，所述金属掩模基体的开口在贴合平面的投影落在所述磁性弹性膜的开口在贴合平面的投影范围内。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀工艺用掩膜版，其特征在于，包括：金属掩模基体，具有多个开口区以形成特定的图形；磁性弹性膜，形成于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧；其中，所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体相同的开口，且所述磁性弹性膜对位贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧；或所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体对应的开口，且对位贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧，所述金属掩模基体的开口在贴合平面的投影落在所述磁性弹性膜的开口在贴合平面的投影范围内。2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，磁性弹性膜粘合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧。3.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，磁性弹性膜通过磁性贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧。4.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述磁性弹性膜为磁性高分子材料。5.如权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述磁性高分子材料为磁性材料与高分子材料的复合材料。6.如权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述磁性材料为聚丁二炔衍生物。7.如权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述磁性弹性膜中的所述高...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘海，王忠春，孙田雨，吴健，
申请(专利权)人：上海天马有机发光显示技术有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31