一种紫外光掩膜装置及其使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种紫外光掩膜装置及其使用方法，在紫外光掩膜装置中采用至少一种发射单一中心波长的紫外发光二极管形成的光源阵列作为紫外发光光源。紫外发光二极管不含有臭氧和重金属水银等有害物质，不会对人体或环境产生有害影响。并且，紫外发光二极管可以发射单一中心波长，因此，可以针对掩膜工艺中所需的特定吸收波长设定紫外光发光二极管的发射中心波长，以实现预期的化学反应或工艺，这样可以降低光损失以及保证工艺的稳定性。此外，紫外发光二极管为冷光源，其发光过程中产生的热量较少，相对于水银灯和金属卤化物灯，可以移近紫外发光二极管和需要被光照射的部件之间的距离，从而提高光利用率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示制造
，尤其涉及一种紫外光掩膜装置及其使用方法。
技术介绍
目前，在制造显示面板的过程中，在掩膜曝光机、边缘曝光机、密封剂硬化器、以及触摸面板的光学透明树脂(OCR)硬化灯工艺中，一般会使用紫外光。在这些工艺中一般会采用特定吸收波长的紫外光，目前一般采用水银灯和金属卤化物灯，目前使用的紫外灯会混合进一些在工艺中不需要使用的波长进行照射，因此具有一定的光损失且会危害工艺的稳定性。并且，目前使用的紫外灯含有臭氧(O3)和重金属水银，对人体或环境会造成一定有害的影响。此外，由于现有的紫外灯在发光的过程中伴随着巨大的热能，如图1所示，因此需要将紫外灯001与需要被光照射的部件例如掩膜基板200之间设定一定的距离a以便散热，会降低光利用率，而现有的紫外灯为线光源，此时为了使照射到部件的光线均匀性，需要增大紫外灯的功耗，这会进一步增大光损失。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种紫外光掩膜装置及其使用方法，用以解决现有的紫外光掩膜装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外光掩膜装置，其特征在于，包括：设置有至少一种发射单一中心波长的紫外发光二极管的光源阵列；设置在所述光源阵列下方且与所述光源阵列具有设定距离的掩膜基板，所述掩膜基板用于将掩膜板固定于所述掩膜基板的下方；以及，设置在所述掩膜基板下方且与所述掩膜基板具有设定距离的载台，所述载台用于承载需要被所述掩膜板掩膜的基板。

【技术特征摘要】
1.一种紫外光掩膜装置，其特征在于，包括：设置有至少一种发射单一
中心波长的紫外发光二极管的光源阵列；
设置在所述光源阵列下方且与所述光源阵列具有设定距离的掩膜基板，所
述掩膜基板用于将掩膜板固定于所述掩膜基板的下方；以及，
设置在所述掩膜基板下方且与所述掩膜基板具有设定距离的载台，所述载
台用于承载需要被所述掩膜板掩膜的基板。
2.如权利要求1所述的紫外光掩膜装置，其特征在于，在所述光源阵列
中，从中心区域指向边缘的方向，所述紫外发光二极管的分布密度逐渐增大。
3.如权利要求2所述的紫外光掩膜装置，其特征在于，在所述光源阵列
中拐角区域内所述紫外发光二极管的分布密度大于边缘区域内所述紫外发光
二极管的分布密度。
4.如权利要求1所述的紫外光掩膜装置，其特征在于，所述光源阵列中
设置有至少两种发射中心波长不同的紫外发光二极管，各种发射中心波长不同
的紫外发光二极管在所述光源阵列的行方向和列方向均交替排列。
5.如权利要求1所述的紫外光掩膜装置，其特征在于，所述光源阵列...

【专利技术属性】
技术研发人员：金宰弘，赵致贤，张富强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11