沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法制造方法及图纸

一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体；从所述掩模主体突出的多个突出物；以及形成在所述掩模主体中的多个凹槽，其中所述掩模主体的颗粒尺寸在约10μm至约1000μm的范围中，且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求在韩国知识产权局于2014年11月21日提交的第10-2014-0163717号韩国专利申请的权益，其全部内容通过引用并入本文。
一个或多个示例性实施方式涉及一种沉积掩模、一种制造沉积掩模的方法和一种制造显示装置的方法。
技术介绍
基于移动性的电子装置具有广泛的用途。除了小的电子装置，如移动电话外，平板个人计算机(PC)最近已被用作移动电子装置。移动电子装置包括用于将视觉信息，如图像或移动图像提供给用户以支持各种功能的显示单元。由于用于驱动显示单元的组件最近已变得更小，显示单元在电子装置中所占据的部分已有所增加，且已开发出显示单元的、可从平直状态进行弯曲以具有预定角度的结构。为了形成上述显示单元，可使用各种方法形成各层中的每一层。在这个方面，形成每一层的方法可包括沉积方法、光掩模工艺等。在沉积方法中，蒸发、喷涂和沉积沉积材料的工艺通常可包括将沉积源置于下部，将掩模置于沉积源上，将衬底置于掩模上并将已通过掩模的沉积材料沉积至衬底上。同时，有必要对形成在掩模中并允许沉积材料通过的图案孔进行精细加工，从而制造具有大尺寸和高分辨率的显示装置面板。这种图案孔的精确度可决定沉积材料的图案的精确度。特别地，在显示单元的分辨率或其性能的方面上，沉积材料的图案是非常重要的问题且可确定产品质量。因此，使用了各种装置和方法来增加沉积材料的图案的精确度。作为一个实例，沉积掩模的母金属通过轧制工艺且随后进行蚀刻或激光辐射工艺以加工图案孔而制造，且因此掩模被最终制造出来。在该
技术介绍
部分中公开的信息是专利技术人在实现本专利技术概念之前已知的或是在实现本专利技术概念的过程中所获得的技术信息。因此，其可含有不形成本国公众所已知的现有技术的信息。
技术实现思路
然而，当使用通过轧制工艺制造的沉积掩模的母金属来制造掩模时，会出现问题，即，图案孔不是在需要加工图案孔的区域中进行加工或在图案孔的形状中出现缺陷。一个或多个示例性实施方式包括一种沉积掩模、一种制造沉积掩模的方法和一种制造显示装置的方法。额外的方面将在下面的说明中部分地进行阐述且将部分地通过说明变得显而易见或可通过给定实施方式的实践而获悉。根据一个或多个示例性实施方式，一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体；从掩模主体突出的多个突出物；以及在掩模主体中形成的多个凹槽，其中掩模主体的颗粒尺寸在约10μm至约1000μm的范围中，且其中多个突出物的最大高度和多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。掩模主体可包括含有在约30wt％至约50wt％的范围内的镍的因瓦合金。掩模主体的厚度可在约5μm至约50μm的范围中。多个图案孔的角部的曲率半径可小于用于加工多个图案孔的激光束的半径。多个图案孔在水平方向上的单位面积沿多个图案孔的竖直方向上是不同的。多个图案孔的内表面可包括倾斜表面。根据一个或多个示例性实施方式，一种制造沉积掩模的方法包括通过进行电铸工艺加工沉积掩模的母金属；将沉积掩模的母金属置于载台和将通过激光振荡器振荡的激光束分成多个激光束的分束器之间；将通过多个激光束中的至少一些穿透的光学镜置于母金属和分束器之间；以及通过调整已通过分束器的多个激光束的辐射方向的扫描器将多个激光束辐射至通过光学镜暴露的母金属的一部分上而在母金属中加工图案孔。母金属的颗粒尺寸可在约10μm至约1000μm的范围中。母金属可包括：从母金属的表面突出的多个突出物；以及形成在母金属的表面中的多个凹槽，其中多个突出物的最大高度和多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。掩模主体可包括含有在约30wt％至约50wt％的范围内的镍的因瓦合金。掩模主体的厚度可在约5μm至约50μm的范围中。图案孔在水平方向上的单位面积沿图案孔的竖直方向可以是不同的。图案孔的内表面可包括倾斜表面。将母金属置于载台和分束器之间可包括：通过使用被布置在载台和母金属之间的静电吸盘吸附母金属。将光学镜置于载台和分束器之间可包括：对齐在光学镜中形成的第一标记和形成在母金属中以对应第一标记的形状的第二标记的位置。该方法可进一步地包括：监测光学镜和母金属的位置；以及通过移动光学镜和母金属中的至少一个对齐光学镜和母金属。第一标记可形成在光学镜中，其中对应于第一标记的形状的第二标记形成在母金属中，且其中第一标记和第二标记的位置通过移动光学镜和母金属中的至少一个来对齐。已通过扫描器的多个激光束可沿竖直方向被辐射至母金属上。光学镜可包括：穿透层，被配置成允许多个激光束中的一些穿透光学镜；以及反射层，被配置成反射多个激光束中的另外一些，其中反射层包括对应于图案孔的形状的开口。穿透层可包括石英和玻璃中的至少一种。反射层可包括不透明金属。开口的角部的曲率半径可小于多个激光束的半径。根据一个或多个示例性实施方式，一种制造包括在衬底上彼此面对的像素电极和对电极以及被布置在像素电极和对电极之间的有机层的显示装置的方法包括：使用沉积掩模沉积有机层，其中沉积掩模包括：具有多个图案孔的掩模主体；从掩模主体突出的多个突出物；以及形成在掩模主体中的多个凹槽，其中掩模主体的颗粒尺寸在约10μm至约1000μm的范围中，且其中多个突出物的最大高度和多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。掩模主体可包括含有在约30wt％至约50wt％的范围内的镍的因瓦合金。掩模主体的厚度可在约5μm至约50μm的范围中。沉积掩模可通过将一个或多个激光束辐射至通过进行电铸工艺和加工多个图案孔而制造出的沉积掩模的母金属上而制造出来。多个图案孔的角部的曲率半径可小于用于加工多个图案孔的激光束的半径。多个图案孔在水平方向上的单位面积沿多个图案孔的竖直方向可以是不同的。多个图案孔的内表面可包括倾斜表面。附图说明这些和/或其他方面将根据下面结合附图的对示例性实施方式的描述而变得显而易见和更容易理解，其中：图1为根据一个示例性实施方式的在制造沉积掩模前沉积掩模的母金属的示意性立体图；图2为沿图1中的线I-I’所截取的放大的横截面视图；图3为根据另一个示例性实施方式的进行沉积掩模制造方法的沉积掩模制造装置的示意性概念图；图4为沿图3中的线II-II’所截取的放大的横截面视图；...

【技术保护点】
一种沉积掩模，包括：掩模主体，具有多个图案孔；多个突出物，从所述掩模主体突出；以及多个凹槽，形成在所述掩模主体中，其中所述掩模主体的颗粒尺寸在10μm至1000μm的范围中，且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于0.5μm。

【技术特征摘要】
2014.11.21 KR 10-2014-0163717;2015.11.06 KR 10-2011.一种沉积掩模，包括：
掩模主体，具有多个图案孔；
多个突出物，从所述掩模主体突出；以及
多个凹槽，形成在所述掩模主体中，
其中所述掩模主体的颗粒尺寸在10μm至1000μm的范围中，且
其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之
间的差异等于或小于0.5μm。
2.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述掩模主体包括含有
在30wt％至50wt％的范围内的镍的因瓦合金。
3.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述掩模主体的厚度在
5μm至50μm的范围中。
4.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述多个图案孔的角部
的曲率半径小于用于加工所述多个图案孔的激光束的半径。
5.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述多个图案孔在水平
方向上的单位面积沿所述多个图案孔的竖直方向是不同的。
6.根据权利要求5所述的沉积掩模，其中所述多个图案孔的
内表面包括倾斜表面。
7.一种制造沉积掩模的方法，所述方法包括：
通过进行电铸工艺加工所述沉积掩模的母金属；
将所述沉积掩模的所述母金属置于载台和将通过激光振荡器振
荡的激光束分成多个激光束的分束器之间；
将通过所述多个激光束中的至少一些穿透的光学镜置于所述母
金属和所述分束器之间；以及
通过调整已通过所述分束器的所述多个激光束的辐射方向的扫
描器将所述多个激光束辐射至所述母金属的通过所述光学镜暴露的
一部分上而在所述母金属中加工图案孔。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述母金属的颗粒尺寸在
10μm至1000μm的范围中。
9.根据权利要求7所述的方法，其中所述母金属包括：
从所述母金属的表面突出的多个突出物；以及
形成在所述母金属的所述表面中的多个凹槽，
其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之
间的差异等于或小于0.5μm。
10.根据权利要求7所述的方法，其中所述母金属包括含有在
30wt％至50wt％的范围内的镍的因瓦合金。
11.根据权利要求7所述的方法，其中所述掩模主体的厚度在
5μm至50μm的范围中。
12.根据权利要求7所述的方法，其中所述图案孔在水平方向
上的单位面积沿所述图案孔的竖直方向是不同的。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述图案孔的内表面包
括倾斜表面。
14.根据权利要求7所述的方法，其中将所述母金属置于所述

\t载台和所述分束器之间包括：通过使用被布置在所述载台和所述母金
属之间的静电吸盘吸附所述母金属。
15.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：任星淳，黄圭焕，金在植，文敏浩，文英慜，张淳喆，姜泰旭，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR