本发明专利技术涉及一种显示基板制作方法，包括：在基底之下形成多个像素界定层；在每个像素界定层之下形成隔垫物；其中，像素界定层截面的侧边和隔垫物截面的侧边位于第一平面，第一平面与基底成第一角度；在隔垫物之下设置掩膜版；通过蒸镀源在相邻像素界定层之间形成有机发光层，蒸镀源的蒸镀区域的边界与基底成第二角度，第二角度大于或等于第一角度。根据本发明专利技术实施例的技术方案，由于第二角度大于或等于第一角度，在蒸镀区域的边界进入透过区域时，直接覆盖到基板，而不会被透过区域的侧边遮挡，以便从像素界定层的侧边处开始形成有机发光层，使得第一电极和第二电极正对区域的有机发光层厚度均匀。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，具体而言，涉及一种显示基板制作方法、一种显示基板和一种显示装置。
技术介绍
在有机发光二极管显示器(OLED)的制作工艺中，有机发光层一般采用蒸镀工艺形成。以图1所示的母板为例，其中包含多个基板，例如蒸镀源为沿着y方向的线源，蒸镀源沿着x方向移动，蒸镀源中的材料蒸发出来后，通过掩膜版形成在每个基板的指定区域。掩膜版的截面如图2所示，掩膜版包括多个遮挡区域11和多个透过区域12，遮挡区域11截面的顶边长度大于截面的底边长度，而且由于制作工艺所限，遮挡区域11的顶部具有一定厚度，也即遮挡区域11具有与顶边相连的侧边120，侧边120垂直于基底。蒸镀设备在线源两端设置有中间档板13，中间档板13和侧挡板14之间设置有掺杂材料，形成的蒸镀区域15如图3所示。在蒸镀过程中，如图4所示，蒸镀源沿着x方向移动，y方向垂直纸面向里。在蒸镀区域15的边界进入掩膜版透过区域12之后的一段时间内，由于遮挡区域11侧边的遮挡，蒸镀区域15无法覆盖基底16靠近遮挡区域11侧边的区域，在蒸镀区域15的边界离开透过区域12时也存在上述问题。这导致形成在透过区域的有机发光层中间区域较厚，两侧区域较薄，而阴极和阳极正对区域是整个通过区域，因此正对区域有机发光层厚度不均。对于单个子像素而言，会导致子像素不同区域发光亮度不同，对于多个像素而言，会导致混色(色偏)问题。专利技术内容本专利技术所要解决的技术问题是，如何提高显示基板中有机发光层厚度的均匀度。为此目的，本专利技术提出了一种显示基板制作方法，包括：在基底之下形成多个像素界定层；在每个所述像素界定层之下形成隔垫物；其中，所述像素界定层截面的侧边和所述隔垫物截面的侧边位于第一平面，所述第一平面与所述基底成第一角度；在隔垫物之下设置掩膜版，其中，掩膜版包括多个遮挡区域和多个透过区域，所述遮挡区域截面的顶边长度大于截面的底边长度，所述遮挡区域的侧边与所述顶边相连，且垂直于所述基底，所述底边靠近所述侧边的端点与所述侧边最低点的连线位于所述第一平面内；通过蒸镀源在相邻像素界定层之间形成有机发光层，蒸镀源的蒸镀区域的边界与所述基底成第二角度，所述第二角度大于或等于所述第一角度。优选地，在所述蒸镀源的两侧设置有档板，所述档板平行于第一方向，用于使所述蒸镀区域的边界与所述基底成第二角度，其中，所述第一方向垂直于所述截面。优选地，所述多个像素界定层和多个隔垫物中，未平行于所述第一方向的像素界定层截面的侧边和隔垫物截面的侧边位于所述第一平面，平行于所述第一方向的像素界定层截面的侧边和隔垫物截面的侧边位于第二平面，所述第二平面垂直于所述基底。优选地，所述第二角度等于所述第一角度。优选地，所述蒸镀源为线源，所述线源平行于所述底边，通过蒸镀源在相邻像素界定层之间形成有机发光层包括：沿第一方向移动蒸镀源。优选地，在形成所述像素界定层之前还包括：在所述基底之下形成第一电极；在形成所述有机发光层之后还包括：在所述有机发光层之下形成第二电极，其中，所述第一电极和所述第二电极的极性相反。本专利技术还提出了一种显示基板，包括：基底；多个像素界定层，设置在所述基底之下；隔垫物，设置在每个所述像素界定层之下，其中，所述像素界定层截面的侧边和所述隔垫物截面的侧边位于第一平面，所述第一平面与所述基底成第一角度；有机发光层，设置在相邻像素界定层之间。优选地，所述多个像素界定层和多个隔垫物中，未平行于第一方向的像素界定层截面的侧边和隔垫物截面的侧边位于所述第一平面，平行于所述第一方向的像素界定层截面的侧边和隔垫物截面的侧边位于第二平面，所述第二平面垂直于所述基底，其中，形成所述有机发光层的蒸镀源沿所述第一方向移动。优选地，上述显示基板还包括：第一电极，设置在所述基底和所述有机发光层之间；第二电极，设置在所述有机发光层之下，其中，所述第一电极和所述第二电极的极性相反。本专利技术还提出了一种显示装置，包括上述显示基板。根据上述实施例的技术方案，由于第二角度大于或等于第一角度，在蒸镀区域的边界进入透过区域时，可以保证该边界直接覆盖到基板，而不会被透过区域的侧边遮挡，以便从像素界定层的侧边处开始形成有机发光层，而第一电极和第二电极的正对区域是两者时间仅存在有机发光层的区域，因此根据本专利技术的实施例可以使得第一电极和第二电极正对区域的有机发光层厚度均匀，进而使得子像素的所有区域发光亮度相同，保证显示基板的整体观看效果不存在混色。附图说明通过参考附图会更加清楚的理解本专利技术的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本专利技术进行任何限制，在附图中：图1至图4示出了现有技术中蒸镀形成有机发光层的示意图；图5示出了根据本专利技术一个实施例的显示基板制作方法的示意流程图；图6至图9示出了根据本专利技术一个实施例的显示基板制作方法的具体示意流程图；图10示出了根据本专利技术一个实施例的蒸镀源移动方向示意图；图11示出了根据本专利技术一个实施例的子像素示意图；图12示出了根据本专利技术又一个实施例的子像素示意图；图13示出了根据本专利技术一个实施例的有机发光层示意图。具体实施方式为了能够更清楚地理解本专利技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是，本专利技术还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本专利技术的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。如图5所示，根据本专利技术一个实施例显示基板制作方法，包括：S1，在基底1之下形成多个像素界定层2，如图6所示；S2，在每个像素界定层2之下形成隔垫物3；其中，像素界定层2截面的侧边AB和隔垫物3截面的侧边BC位于第一平面，第一平面与基底1成第一角度α，如图7所示，以下所指截面均是垂直于基底1的截面，；S3，在隔垫物之下设置掩膜版，其中，掩膜版包括多个遮挡区域4和多个透过区域5，遮挡区域4截面的顶边长度大于截面的底边长度，遮挡区域4的侧边DF与顶边相连，且垂直于基底1，底边靠近侧边DF的端点E与侧边DF最低点D的连线DE位于第一平面内，如图8所示；S4，通过蒸镀本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示基板制作方法，其特征在于，包括：在基底之下形成多个像素界定层；在每个所述像素界定层之下形成隔垫物；其中，所述像素界定层截面的侧边和所述隔垫物截面的侧边位于第一平面，所述第一平面与所述基底成第一角度；在隔垫物之下设置掩膜版，其中，掩膜版包括多个遮挡区域和多个透过区域，所述遮挡区域截面的顶边长度大于截面的底边长度，所述遮挡区域的侧边与所述顶边相连，且垂直于所述基底，所述底边靠近所述侧边的端点与所述侧边最低点的连线位于所述第一平面内；通过蒸镀源在相邻像素界定层之间形成有机发光层，蒸镀源的蒸镀区域的边界与所述基底成第二角度，所述第二角度大于或等于所述第一角度。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板制作方法，其特征在于，包括：
在基底之下形成多个像素界定层；
在每个所述像素界定层之下形成隔垫物；
其中，所述像素界定层截面的侧边和所述隔垫物截面的侧边位于
第一平面，所述第一平面与所述基底成第一角度；
在隔垫物之下设置掩膜版，
其中，掩膜版包括多个遮挡区域和多个透过区域，所述遮挡区域
截面的顶边长度大于截面的底边长度，所述遮挡区域的侧边与所述顶
边相连，且垂直于所述基底，所述底边靠近所述侧边的端点与所述侧
边最低点的连线位于所述第一平面内；
通过蒸镀源在相邻像素界定层之间形成有机发光层，蒸镀源的蒸
镀区域的边界与所述基底成第二角度，所述第二角度大于或等于所述
第一角度。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述蒸镀源的
两侧设置有档板，所述档板平行于第一方向，用于使所述蒸镀区域的
边界与所述基底成第二角度，其中，所述第一方向垂直于所述截面。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述多个像素界
定层和多个隔垫物中，未平行于所述第一方向的像素界定层截面的侧
边和隔垫物截面的侧边位于所述第一平面，平行于所述第一方向的像
素界定层截面的侧边和隔垫物截面的侧边位于第二平面，所述第二平
面垂直于所述基底。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二角度等
于所述第一角度。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述蒸镀源为线
源，所述线源平行于所述底...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨凡，郭坤，承天一，张毅，杨玉清，彭利满，吴岩，杨文斌，刘祺，赖韦霖，刘亮亮，阳智勇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。