【技术实现步骤摘要】
一种立式真空溅射镀膜生产线
本技术涉及真空镀膜
，具体说，是涉及一种立式真空溅射镀膜生产线。
技术介绍
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程
的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，而在磁控溅射镀膜设备中，磁控溅射阴极尤为重要。目前普遍采用平面磁控溅射阴极(后简称“平面阴极”)或旋转磁控溅射阴极(后简称“旋转阴极”)。平面阴极因其轰击轨道和靶材均是固定设置的这一结构上设计的缺点，靶材沉积利用率非常低(小于20%);尤其在使用一段时间后，靶材表面会形成“跑道状”溅射凹坑，不仅会破坏镀膜层的均匀性，严重影响后期镀膜的稳定性和均匀性；而且需要经常更换靶材，给连续生产带来了极大的不便且造成靶材不能充分利用的资源。而后研发的旋转阴极相较上述平面阴极而言，提高了靶材利用率，有效减少了打弧和靶面掉渣，工艺稳定性更佳，可消除平面阴极较易形成的再...
【技术保护点】
一种立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于，包括：一传送流水线和一镀膜流水线，镀膜流水线与传送流水线连接，传送流水线传送基片，镀膜流水线包括进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室，所述进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室依次首尾连接，所述基片通过进口腔室从传送流水线进入镀膜流水线，通过出口腔室从镀膜流水线移出。
【技术特征摘要】
1.一种立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于，包括:一传送流水线和一镀膜流水线，镀膜流水线与传送流水线连接，传送流水线传送基片，镀膜流水线包括进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室，所述进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室依次首尾连接，所述基片通过进口腔室从传送流水线进入镀膜流水线，通过出口腔室从镀膜流水线移出。2.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述传送流水线与镀膜流水线平行设置。3.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:镀膜腔室中设有一移动式阴极装置，所述移动式的阴极装置的靶材轰击轨道非固定。4.如权利要求3所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述移动式阴极装置包括阴极组件和平移组件，所述阴极组件与平移组件固定连接且随平移组件的运动平动，其中阴极为平面磁控溅射阴极；所述阴极组件与平移组件通过一绝缘件连接。5.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:阴极组件包括靶材、靶背板、磁铁和轭铁，靶背板四周围有绝缘垫，靶材固定连接靶背板，磁铁固定于轭铁上，且轭铁连接绝缘件。6.如权利要求5所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:阴极组件中的磁铁可选用现有技术中的各种磁铁阵，或多个磁铁排布而成，或定制成型磁铁而成。7.如权利要求6所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:靶背板与磁铁相对面开有一凹槽，磁铁位于所述凹槽内但不接触所述靶背板。8.如权利要求7所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述磁铁随平移组件在凹槽内平动。9.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述平移组件由外至内依次为移动件、滑轨件、安装件和支撑件，其中移动件分别与绝缘件和滑轨件中的滑块连接，安装件与滑轨件中的滑轨连接，且安装件与支撑件连接。10.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述平移组件由外至内依次为移动件、滚珠丝杠件、安装件和支撑件，其中移动件分别与绝缘件和滚珠丝杠件中的螺母连接，安装件与滚珠丝杠件中的固定件连接，且安装件与支撑件连接。11.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述平移组件包括一移动件、一滑轨件、一滚珠丝杠件、安装件和支撑件；滑轨件包括一滑块和一滑轨，滑块与滑轨配合，滑块在滑轨上滑动；滚珠丝杠件包括一螺母、一螺杆和一安装座，螺杆安装在安装座上，螺杆与螺母配合，螺杆转动时，螺母沿螺杆平动；移动件上分别连接滑轨件中的滑块和滚珠丝杠件的螺母，安装件分别连接滑轨件中的滑轨和滚珠丝杠件的安装座；此时移动件在滑轨件和滚珠丝杠件的共作用下平动。12.如权利要求10或11所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:滚珠丝杠件电连接一电机，由电机驱动滚珠丝杠件中的螺母平动。13.如权利要求12所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:电机为一伺服电机，通过一同步带传动滚珠丝杠件。14.如权利要求11所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:平移组件至少包括两个滑轨件且分布于滚珠丝杠件的两侧，以更好的承重阴极组件，使该阴极装置平动更为稳定均匀。15.如权利要求10或11所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:平移组件还包括一光电感应器，分设于滚珠丝杠件的螺杆的两侧。16.如权利要求4所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述阴极装置还包括一连接件，该连接件与真空镀膜生产线中的镀膜腔室的箱体活动连接，且平移组件连接该连接件。17.如权利要求16所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述活动连接为铰接。18.如权利要求16所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:当该阴极装置为多个时，该连接件为同一连接件，此时，多个阴极装置共连接于该连接件上。19.如权利要求16所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:连接件为一支撑板。20.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述镀膜流水线设有至少一个传动机构，所述传动机构设置于镀膜流水线的各腔室，基片在镀膜流水线的各腔室内通过传动机构运输。21.如权利要求20所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述传动机构包括一主动组件、一从动组 件和一磁耦合器，主动组件和从动组件分别设置在磁耦合器的两侧，主动组件受电驱动，通过磁耦合器将主动组件的运动传递给从动组件。22.如权利要求21所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:从动组件位于镀膜流水线的各腔室内，主动组件位于各腔室外，磁耦合器贯穿密封于各腔室的箱体。23.如权利要求21所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:主动组件包括一主动轴，从动组件包括一从动轴和一传动轮，从动轴带动传动轮转动，主动轴和从动轴设置在磁耦合器的两侧，磁耦合器连接主动轴和从动轴。24.如权利要求23所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:主动组件进一步包括一带轮和一皮带，带轮设置在主动轴上，皮带连接镀膜流水线中的电机和主动轴上的带轮，主动轴受镀膜流水线中电机驱动。25.如权利要求23所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:主动轴包括一主动轴第一端部、一主动轴第二端部和一主动轴体，从主动轴第一端部向主动轴第二端部延伸形成主动轴体,主动轴第二端部与磁力耦合器连接。26.如权利要求25所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:带轮设置在主动轴第一端部通过键连接。27.如权利要求25所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:主动组件进一步包括至少一个主动轴键，主动轴键设置在带轮和主动轴第一端部之间。28.如权利要求25所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:主动轴第一端部设有至少一个主动轴键槽，主动轴键槽的宽度与主动轴键的宽度一致，带轮上进一步包括一带轮内孔和至少一个带轮键槽，带轮内孔的内径与主动轴第一端部的直径一致，带轮键槽自带轮内孔上去除材料形成，带轮键槽的宽度与主动轴键的宽度一致。29.如权利要求28所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:当带轮设置在主动轴第一端部上时，主动轴键槽与带轮键槽连通，主动轴键安置于主动轴键槽与带轮键槽之间，主动轴键槽和带轮键槽的深度不小于主动轴键的厚度。30.如权利要求28所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:主动轴键槽的数量与主动轴键的数量一致。31.如权利要求23所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:从动轴进一步包括一从动轴第一端部、一从动轴第二端部和一从动轴体，从动轴第一端部向从动轴第二端部延伸形成从动轴体，从动轴第一端部与磁力稱合器连接。32.如权利要求31所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:传动轮设置在从动轴上，传动轮和从动轴通过键连接。33.如权利要求31所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:从动组件进一步包括至少一个从动轴键，从动轴键设置在从动轴和传动轮之间。34.如权利要求33所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:从动轴进一步包括至少一个从动轴键槽，从动轴键槽自从动轴第二端部去除材料形成，从动轴键槽的宽度与从动轴键的宽度一致。35.如权利要求34所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:传动轮进一步包括一传动轮内孔和至少一个传动轮键槽，传动轮键槽自传动轮内孔上去除材料形成，传动轮内孔的直径与从动轴第二端部的直径一致，传动轮键槽的宽度与传动轮键的宽度一致。36.如权利要求35所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:当传动轮安装在从动轴第二端部时，从动轴上的从动轴键槽与传动轮键槽连通，从动轴键安置在从动轴键槽与传动轮键槽之间，从动轴键槽和传动轮键槽的深度不小于从动轴键的厚度。37.如权利要求35所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:从动组件进一步包括一传动轮固定座，传动轮固定座设置在从动轴上，传动轮与传动轮固定座通过螺栓连接，防止传动轮从从动轴上脱落。38.如权利要求28所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述传动机构进一步包括一密封法兰，密封法兰设置在磁力耦合器上，密封法兰进一步包括一密封垫圈和一垫圈槽，密封垫圈放置在垫圈槽内。密封法兰将磁力耦合器安装在真空镀膜线中。39.如权利要求38所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:该主动轴和从动轴采用磁性材料制成。40.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述镀膜流水线设有与各功能腔室数量匹配的门体机构，所述门体结构配置于各功能腔室，包括室门和门框，室门的两侧均与门框活动连接，各功能腔室配置的门体机构尺寸及配置各功能腔室的方式均一致。41.如权利要求40所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述门体机构进一步包括多组密封组件，室门的两侧与门框通过多组密封组件与门框可拆卸活动连接，优选为螺接。42.如权利要求41所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:室门两侧的密封组件位置对应。43.如权利要求41所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:密封组件包括铰链件和紧锁件，铰链件连接室门与门框，室门经铰链件开合，紧锁件安装在门框上。44.如权利要求43所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:铰链件包括第一铰链件、第二铰链件和辅助铰链件，其中第一铰链件与室门连接，第二铰链件与门框连接，辅助铰链件分别连接第一铰链件和第二铰链件；第一铰链件包括第一铰链座和第一铰链轴，第二铰链件包括第二铰链座和第二铰链轴，第一铰链座和辅助铰链件同第一铰链轴转动，第二铰链座和辅助铰链件同第二铰链轴转动，且第二铰链座与辅助铰链座间设有轴承。45.如权利要求44所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第一铰链座依辅助铰链件形状去除材料成第一凹槽，辅助铰链件嵌入第一凹槽内与第一铰链座同轴转动；相应地，第二铰链座依辅助铰链件形状去除材料成第二凹槽，辅助铰链件嵌入第二凹槽内与第二铰链座同轴转动；第一凹槽与第二凹槽开口方向相反。46.如权利要求44所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第一铰链座与第二铰链座等高等长，第二铰链座与第一铰链座不等宽。47.如权利要求45所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第一凹槽设置在第一铰链座的中段，同样地，第二凹槽设置在第二铰链座的中段。48.如权利要求47所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述第一铰链座与辅助铰链件间通过一螺栓固定，且该螺栓与室门连接。49.如权利要求43所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:紧锁件包括固定座、固定元件和压紧螺钉，固定座通过螺栓固定在镀膜生产线各功能腔室的门框上，固定元件通过压紧螺钉活动安装在固定座上。50.如权利要求49所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:压紧螺钉与固定元件之间活动连接，固 定元件经压紧螺钉安装在门框上时可旋转。51.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述镀膜流水线中包括至少一个管道耦合组件，所述管道耦合组件包括上耦合件和下耦合件，上下耦合件活动连接并密封，上下耦合件分别固定连接同一管道；上下耦合件耦合密封时，管道连通；上下耦合件分离时，管道断开。52.如权利要求51所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:上耦合件包括上固定法兰和上管道接头，其中上固定法兰和上管道接头固定连接相通，且连接处密封。53.如权利要求52所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:下耦合件包括耦合法兰、波纹管、下固定法兰和下管道接头，其中耦合法兰、波纹管、下固定法兰和下管道接头依次连接相通，且各连接处均密封。54.如权利要求53所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:波纹管与耦合法兰通过压块固定。55.如权利要求52或53所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:连接处经焊接密封。56.如权利要求53所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:上下耦合件经上固定法兰与耦合法兰耦合密封实现两者耦合密封。57.如权利要求56所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:下固定法兰与一移动组件相连，且在移动组件作用下传动下固定法兰使得下耦合件运动。58.如权利要求57所述的立式真空灘射镀膜生产线，其特征在于:管道耦合组件进一步包括至少一个气缸，气缸设置在耦合法兰和下固定法兰之间，使耦合法兰的上下运动，以实现耦合法兰与上固定法兰的分合。59.如权利要求58所述的立式真空派射镀膜生产线,其特征在于:气缸为两个,分设于波纹管的两侧。60.如权利要求58所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:气缸为薄型气缸。61.如权利要求53所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:波纹管为可压缩金属波纹管。62.如权利要求58所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:气缸包括一气管连接件，气缸通过气管连接件与耦合法兰连接。63.如权利要求53所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:耦合法兰开口处设有滤网。64.如权利要求52或53所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:各连接处均设有密封垫圈。65.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述立式真空溅射镀膜生产线包括至少一个装片装置，所述装片装置包括一固定组件和一调节组件，调节组件安装在固定组件上，通过调节调节组件的位置安装不同规格的基片。66.如权利要求65所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:固定组件包括第一支撑杆、第二支撑杆、第一挡板和第二挡板，第一支撑杆、第一挡板、第二支撑杆和第二挡板两两连接形成一方形框架，第一支撑杆和第二支撑杆上分别设有至少两个导槽区域；调节组件安装在固定组件上，调节组件包括至少两个调节梁和至少一组定位件，定位件可拆卸的安装在调节梁上，调节梁安装在第一支撑杆和第二支撑杆的导槽区域上。67.如权利要求66所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:导槽区域进一步包括一导槽和一安置区，导槽设置在安置区内，导槽呈竖直方向。68.如权利要求67所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:安置区的长度不小于导槽的长度，安置区的宽度不小于导槽的宽度。69.如权利要求67所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:导槽区域包括第一导槽区域和第二导槽区域，第一导槽区域的面积大于第二导槽区域。70.如权利要求69所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第一导槽区域设置在第一支撑杆和第二支撑杆的两端部，第二导槽区域设置在第一支撑杆和第二支撑杆中间部位，第一导槽区域进一步包括一第一导槽和第一安置区，第一导槽呈竖直方向设置在所述第一安置区内，第一安置区的长度不小于所述第一导槽的长度，第一安置区的宽度不小于第一导槽的宽度；第二导槽区域进一步包括一第二导槽和一第二安置区，第二导槽呈竖直方向设置在第二安置区内，第二安置区的长度不小于第二导槽的长度，第二安置区的宽度不小于第二导槽的宽度，第一安置区的面积大于第二安置区，第一导槽的长度长于第二导槽。71.如权利要求66所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:固定组件的第一支撑杆和第二支撑杆上进一步分别设有中心安置区域，中心导位区域设置在第一支撑杆和第二支撑杆中间，中心导位区域进一步包括一中心安置孔和一中心安置区，中心安置孔设置在中心安置区的中心，中心安置区自第一支撑杆和第二支撑杆上去除材料形成，中心安置区的深度与安置区一致。72.如权利要求71所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:调节梁安装在第一支撑杆和第二支撑杆的导槽区域和/或中心安置区域，调节梁包括一第一端部、一第二端部和一横梁，横梁的两端连接第一端部和第二端部，第一端部和第二端部的厚度小于横梁的厚度，第一端部和第二端部的厚度一致。73.如权利要求72所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第一端部和第二端部的厚度与安置区的深度一致。74.如权利要求72所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第一端部上设置有调节孔，调节孔的直径与导槽的宽度一致。75.如权利要求72所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:第二端部上设置有调节槽，调节槽的长度大于调节孔的直径，调节槽的宽度与导槽的宽度一致，这样防止调节梁在真空镀膜腔室中出现热变形现象，导致装片装置上基片不能稳固安装。76.如权利要求66所述的立...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄国兴，孙桂红，祝海生，黄乐，梁红，吴永光，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43
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