本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件，旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件包括两靶并排设置的靶材，每靶...

本发明公开了一种卧式双面镀膜机，包括双面镀膜室和装设于所述双面镀膜室内的转盘，所述转盘上沿周向布设有多个基片安装位，各基片安装位上均装设有基片安装盘，所述基片安装盘上设有与基片适配的安装孔，所述基片安装盘沿周边设有用于释放热应力的应力释...

本发明公开了一种HUD高反射膜，包括PC基层、高反介质层以及设于PC基层与高反介质层之间的镀铬层和镀铝层，所述镀铬层与所述PC基层连接，所述镀铝层与高反介质层连接，所述镀铬层和镀铝层之间设有共键过渡叠层。该HUD高反射膜具有结构附着力强...

本发明公开了一种低阻高透ITO膜，包括SiO<subgt;2</subgt;基层，所述SiO<subgt;2</subgt;基层上附着低阻高透ITO层，所述低阻高透ITO层包括多层交替设置的ITO层和疏松SiO&...

本发明公开了一种用于磁控溅射镀膜的等离子发生器及磁控溅射镀膜机，用于磁控溅射镀膜的等离子发生器，包括壳体和ICP线圈，所述壳体设有线圈安装腔和等离子激发槽，所述线圈安装腔围绕等离子激发槽设置，所述ICP线圈装设于线圈安装腔内。磁控溅射镀...

本实用新型公开了一种真空磁控溅射双面镀膜机，包括抽真空机构和镀膜室，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的水平布置的转盘，转盘位于镀膜室内，转盘上环形阵列布置有多个用于安装基片的基片安装位，磁控溅射系统包括至少一组上阴极磁控溅射组件和至少一...

本实用新型公开了一种真空磁控溅射双面镀膜系统，包括抽真空机构、入口室、加热室、中转室和镀膜室，入口室、中转室和镀膜室依次连接，加热室和中转室连接，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的水平布置的转盘，转盘位于镀膜室内，转盘上环形阵列布置有多...

本发明公开了一种真空磁控溅射卧式双面镀膜系统，包括抽真空机构、入口室、加热室、中转室和镀膜室，入口室、中转室和镀膜室依次连接，加热室和中转室连接，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的转盘，转盘上环形阵列布置有多个基片安装位，磁控溅射系统包...

本发明提供了一种膜厚测试和均匀性调节方法，包括：步骤S1：在待测样品上选定多个测试点；步骤S2：获取多个测试点的反射率或透过率光谱图；步骤S3：选定参考波长、参考光谱和波长点。步骤S4：通过光学模拟软件模拟光谱曲线和光谱曲线对应的膜厚，...

本实用新型公开一种真空镀膜用溅射阴极，其包括安装板，所述安装板的顶部设有驱动装置，所述安装板上设有左挡板以及右挡板，所述左挡板和所述右挡板与所述安装板共同形成用于安装靶管的容置腔，所述驱动装置同时和所述左挡板和所述右挡板连接，以同时驱动...

本实用新型公开一种真空镀膜工件架，其包括上支撑盘、下支撑盘以及连接柱，所述连接柱的上下两端分别和所述上支撑盘和所述下支撑盘彼此相对的壁面连接以形成安装间隙，所述安装间隙内设有多个旋转桶，所述旋转桶的外壁面用于安装待镀膜工件；所述真空镀膜...

本实用新型公开一种可调节可加偏压工件架，其包括安装底座、轴承座、转动齿轮、旋转主轴，转动齿轮包括齿轮本体以及安装轴，安装轴一端伸入至转动齿轮的轴心处，安装轴的另一端与齿轮本体连接，旋转主轴两端分别设置在齿轮本体远离安装轴一侧的轴心处和上...

本实用新型公开一种反向倾斜镀膜装置，其包括依次连通的第一隔离室、第一过渡室、第一镀膜室、第二镀膜室、第二过渡室以及第二隔离室，所述第一镀膜室和所述第二镀膜室均设置在底架上并与竖直方向形成3

本实用新型公开一种真空溅射镀膜装置，其包括镀膜室，所述镀膜室的上方和下方分别设有上阴极靶管以及下阴极靶管，所述镀膜室的中部的两侧设有位于上阴极靶管和下阴极靶管之间的基片载盘，两个所述基片载盘之间夹持有待镀膜基片，所述镀膜室上设有与所述基...

本发明公开一种磁控溅镀真空室及其控制方法，磁控溅镀真空室包括真空室，所述真空室呈环形，所述真空室内为真空腔，沿所述真空室的周向间隔设置有多个靶位，其中一个所述靶位设有离子源用于离子源轰击，另外所述靶材设有NbOx靶材或In/Cr靶材，所...

本发明公开一种真空磁控镀膜生产线及其镀膜方法，真空磁控镀膜生产线包括依次连通的进口室、进口缓冲室、进口过渡室、AR层镀膜室、ITO层镀膜室、出口过渡室、出口缓冲室以及出片室，形成连通的直线通道，真空磁控镀膜生产线还包括基片传送机构以及溅...

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种大面积真空镀膜的玻璃基片角度调节装置，包括底板，设置在底板下表面用于支撑整个所述玻璃基片角度调节装置的底座，固定于所述底板的后壁，固定于所述后壁上的顶板，所述底板、后壁和顶板构成开口状，固定于后壁...

本发明公开一种真空溅射镀膜装置，真空溅射镀膜装置包括进口室、进口缓冲室、进口过渡室、镀膜室、出口过渡室、出口缓冲室以及出片室，所述镀膜室内部设有镀膜腔，所述镀膜腔内设有用于基片通过的移动间隙，所述移动间隙的两侧均设置有溅射阴极，所述镀膜...

本发明公开一种真空磁控溅射镀膜装置、控制方法及计算机可读存储介质，真空磁控溅射镀膜装置的控制方法包括获取用户输入的气体输入数据，根据所述气体输入数据调整第一气体出口、第二气体出口以及第三气体出口的电控阀以改变溅射阴极的氧气、氩气以及氢气...

本实用新型公开一种多室真空磁控溅射镀膜装置，多室真空磁控溅射镀膜装置包括运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，传送部与前室衔接，前室与镀膜室衔接，传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，前室与镀膜室独立设置真空设备，工...