真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构制造技术

技术编号:12507906 阅读:108 留言:0更新日期:2015-12-13 12:34
一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,主要包括档板、螺杆及马达,本实用新型专利技术是于真空磁控溅射金属膜层设备中装置一个以上,此档板的移动可于真空磁控溅射金属膜层生产过程中产生侧向厚度改变的功能,本实用新型专利技术借由电源线通电后让马达转动螺杆来控制档板的移动。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种借由电源线通电后让马达转动螺杆来控制档板的移动,尤其涉及一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构
技术介绍
目前的真空磁控溅射金属膜层技术无法做到侧向的厚薄渐层处理,也因此无法做到颜色的变化。
技术实现思路
本技术所要解决的主要技术问题在于,克服现有技术存在的上述缺陷,而提供一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,借由电源线通电后让马达转动螺杆来控制档板的移动。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:—种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,主要包括档板、螺杆及马达,本技术于真空磁控溅射金属膜层设备中装置一个以上,此档板的移动可于真空磁控溅射金属膜层生产过程中产生侧向厚度改变的功能,本技术借由电源线通电后让马达转动螺杆来控制档板的移动。本技术的有益效果是,借由电源线通电后让马达转动螺杆来控制档板的移动。【附图说明】下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构的立体图。图2是真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构的实施例图。图中标号说明:1、档板2、马达3、螺杆4、电源线5、真空磁控溅射金属膜层设备【具体实施方式】请参阅图1及图2,一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,主要包括档板1、马达2、螺杆3及电源线4,本技术是于真空磁控溅射金属膜层设备5中装置一个以上,此档板I的移动可于真空磁控溅射金属膜层生产过程中产生侧向厚度改变的功能,本技术借由电源线4通电后让马达2转动螺杆3来控制档板I的移动。以上所述,仅是本技术的较佳实施例而已,并非对本技术作任何形式上的限制,凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本技术技术方案的范围内。综上所述,本技术在结构设计、使用实用性及成本效益上,完全符合产业发展所需,且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造,具有新颖性、创造性、实用性,符合有关新型专利要件的规定,故依法提起申请。【主权项】1.一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,其特征在于,包括: 一档板,位于真空磁控溅射金属膜层设备中,借由螺杆来移动;及 一马达,电源线通电后转动螺杆移动档板; 一螺杆,连接马达移动档板;及 一电源线,供应马达电源。2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,其特征在于,所述档板在真空磁控溅射金属膜层设备中为一个以上。【专利摘要】一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,主要包括档板、螺杆及马达,本技术是于真空磁控溅射金属膜层设备中装置一个以上,此档板的移动可于真空磁控溅射金属膜层生产过程中产生侧向厚度改变的功能,本技术借由电源线通电后让马达转动螺杆来控制档板的移动。【IPC分类】C23C14/35【公开号】CN204849013【申请号】CN201520530731【专利技术人】林孟君 【申请人】华泰(桐乡)玻璃明镜有限公司【公开日】2015年12月9日【申请日】2015年7月21日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空磁控溅射金属膜层设备的档板结构,其特征在于,包括:一档板,位于真空磁控溅射金属膜层设备中,借由螺杆来移动;及一马达,电源线通电后转动螺杆移动档板;一螺杆,连接马达移动档板;及一电源线,供应马达电源。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林孟君
申请(专利权)人:华泰桐乡玻璃明镜有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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