【技术实现步骤摘要】
用于真空磁控溅射设备的磁靴
本技术涉及生产设备，尤其涉及用于触控屏玻璃镀膜作业时所用的真空磁控溅射设备。
技术介绍
真空磁控溅射设备就是在一相对稳定真空状态下，通过阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上的靶材，将其原子等粒子溅出，此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜，从而完成真空溅镀作业。在触控屏生产中，需要在玻璃上通过真空磁控溅射作业来形成一层ITO膜。参阅图1所述，是一种真空磁控溅射设备简要模型，电子在交互电场与磁场EXB作用下将气体电离后撞击ITO靶材表面，使靶材原子或分子等溅射出来并在管面经过吸附、凝结、表面扩散迁移、碰撞结合形成稳定晶核，然后再通过吸附使晶核长大成小岛，岛长大后互相联结聚结，最后形成连续状薄膜。其中产生磁场的部件是磁靴，一般安装在设备的真空腔的背后。现有的磁靴有移动式磁靴和固定式磁靴，现有的移动式磁靴是通过螺杆移动轨道上的永磁体的位置，从而实现磁场分布可调，优点是可以提高靶材的利用率，但是缺点是因磁场分布不均匀而致使镀膜不均匀；现有的固定式磁靴因永磁体的位置设计分布不合理而导致靶材的利用率低。急需设计出一种用于真空磁控溅射设备的磁靴，使其既可以保证靶材的利用率高又可以保证镀膜均匀。
技术实现思路
因此，本技术的目的在于提出一种既可以保证靶材的利用率高又可以保证镀膜均匀的用于真空磁控溅射设备的磁靴。本技术采用如下技术方案实现:用于真空磁控溅射设备的磁靴，包括一导磁的基板和多个永磁体，永磁体均具有第一磁极和第二磁极。该基板的外形为一矩形，该多个永磁体沿该基板矩形的外...
【技术保护点】
用于真空磁控溅射设备的磁靴，包括一导磁的基板和多个永磁体，永磁体均具有第一磁极和第二磁极，其特征在于：该基板的外形为一矩形，该多个永磁体沿该基板矩形的外周边排列成一圈并固定吸附于该基板上，且该一圈排列的永磁体均是以第一磁极向外设置的，该多个永磁体沿该基板矩形的中轴排列成一列并固定吸附于该基板上，且该一列排列的永磁体均是以第二磁极向外设置的。
【技术特征摘要】
1.用于真空磁控溅射设备的磁靴，包括一导磁的基板和多个永磁体，永磁体均具有第一磁极和第二磁极，其特征在于:该基板的外形为一矩形，该多个永磁体沿该基板矩形的外周边排列成一圈并固定吸附于该基板上，且该一圈排列的永磁体均是以第一磁极向外设置的，该多个永磁体沿该基板矩形的中轴排列成一列并固定吸附于该基板上，且该一列排列的永磁体均是以第二磁极向外设置的...
【专利技术属性】
技术研发人员：钟赐春，
申请(专利权)人：厦门万德宏光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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