真空磁控溅射用旋转阴极靶制造技术

本实用新型专利技术涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材，所述衬管外壁上设有外螺纹，所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。本实用新型专利技术衬管外壁设有外螺纹，靶材内壁设有内螺纹，两者通过螺纹连接后，使得靶材的安装非常方便，而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时，亦容易从衬管中分离以回收利用，未使用的靶材也就能旋入衬管中使用，使得衬管可以重复利用，大大节省了材料的损耗，节省了成本。本实用新型专利技术可应用于真空磁控溅射。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：包括管状的衬管(1)和套设在衬管(1)外壁上并随衬管(1)旋转的靶材(2)，所述衬管(1)外壁上设有外螺纹，所述靶材(2)内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：肖世文，黄建威，肖盛荣，
申请(专利权)人：广州市尤特新材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：