旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种旋转异形靶阴极机构，其靶管绕磁钢部件相对旋转，带动整个的靶材沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材表面都得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材的利用率，且靶材呈异形靶面结构，保证靶材的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材的利用率；由此延长了更换靶材的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；采用旋转阴极靶材设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，使溅射到内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，且清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构的结构简单。本发明专利技术还公开一种具有旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种旋转异形靶阴极机构，设置于磁控溅射镀膜装置的旋转阴极腔体内，其特征在于：包括支撑杆、磁钢部件、靶管及靶材，所述支撑杆固定连接于所述所述旋转阴极腔体内，所述磁钢部件呈密封设置并连接于所述支撑杆上，且所述磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，所述靶管转动地套设于所述支撑杆及所述磁钢部件外，所述靶管内的空隙形成冷却水通道，所述靶材设于所述靶管外，且所述靶材呈异形靶面结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘国利，范振华，
申请(专利权)人：东莞宏威数码机械有限公司，
类型：发明
国别省市：