【技术实现步骤摘要】
一种立式真空溅射镀膜生产线
本专利技术涉及真空镀膜
，具体说，是涉及一种立式真空溅射镀膜生产线。
技术介绍
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程
的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溉射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，而在磁控溅射镀膜设备中，磁控溅射阴极尤为重要。目前普遍采用平面磁控溅射阴极(后简称“平面阴极”)或旋转磁控溅射阴极(后简称“旋转阴极”)。平面阴极因其轰...
【技术保护点】
一种立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于，包括：一传送流水线和一镀膜流水线，镀膜流水线与传送流水线连接，传送流水线传送基片，镀膜流水线包括进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室，所述进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室依次首尾连接，所述基片通过进口腔室从传送流水线进入镀膜流水线，通过出口腔室从镀膜流水线移出；所述传送流水线与镀膜流水线平行设置。
【技术特征摘要】
1.一种立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于，包括:一传送流水线和一镀膜流水线，镀膜流水线与传送流水线连接，传送流水线传送基片，镀膜流水线包括进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室，所述进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室依次首尾连接，所述基片通过进口腔室从传送流水线进入镀膜流水线，通过出口腔室从镀膜流水线移出；所述传送流水线与镀膜流水线平行设置。2.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:镀膜腔室中设有一移动式阴极装置，所述移动式的阴极装置的靶材轰击轨道非固定。3.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述移动式阴极装置包括阴极组件和平移组件，所述阴极组件与平移组件固定连接且随平移组件的运动平动，其中阴极为平面磁控溅射阴极；所述阴极组件与平移组件通过一绝缘件连接。4.如权利要求3所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述平移组件由外至内依次为移动件、滚珠丝杠件、安装件和支撑件，其中移动件分别与绝缘件和滚珠丝杠件中的螺母连接，安装件与滚珠丝杠件中的固定件连接，且安装件与支撑件连接。5.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述镀膜流水线设有至少一个传动机构，所述传动机构设置于镀膜流水线的各腔室，基片在镀膜流水线的各腔室内通过传动机构运输。6.如权利要求2 所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述镀膜流水线设有与各功能腔室数量匹配的门体结构，所述门体结构配置于各功能腔室，包括室门和门框，室门的两侧均与门框活动连接，各功能腔室配置的门体结构尺寸及配置各功能腔室的方式均一致。7.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述镀膜流水线中包括至少一个管道耦合组件，所述管道耦合组件包括上耦合件和下耦合件，上下耦合件活动连接并密封，上下耦合件分别固定连接同一管道；上下耦合件耦合密封时，管道连通；上下耦合件分离时，管道断开。8.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于:所述立式真空溅射镀膜生产线包括至少一个装片装置，所述装片装置包括一固定组件和一调节组件，调节组件...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄国兴，孙桂红，祝海生，黄乐，梁红，吴永光，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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