【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】溅镀装置、靶材及护罩
本专利技术是关于溅镀装置、以及被组入于该溅镀装置的靶材及护罩。
技术介绍
在集成电路、显示面板、盘片等的制造中,可使用溅镀,以在半导体晶圆、玻璃面板、树脂盘片等基板之上形成膜。溅镀是使离子冲撞靶材表面,藉此使由该表面所放出的粒子沉积在基板之上而形成膜的沉积技术。靶材是被固定在背垫板。背垫板是通过冷却手段予以冷却,藉此使靶材冷却。背垫板亦可另外作为对靶材施加电压的电极来发挥功能。先前技术文献专利文献专利文献1:日本特开平2003-226967号公报
技术实现思路
专利技术所欲解决的课题图8是为了说明本专利技术的课题而由本专利技术人所作成的图。在该图中是模式显示溅镀装置中的靶材5的周边部。溅镀装置具有:背垫板7、将靶材5固定在背垫板7的固定部13、及包围靶材5的周围的护罩14。固定部13可由螺丝等而被固定在背垫板7,以将靶材5按压在背垫板7。护罩14是可以覆盖固定部13的方式被配置在靶材5的周围。因通过被供予至保持基板S的基板保持部4与背垫板7之间的电压所引起的放电所发生的离子会冲撞靶材5,藉此粒子由靶材5放出。这些粒子是为了形成膜,除 ...
【技术保护点】
一种溅镀装置,具有:背垫板、用以将靶材固定在所述背垫板的固定部、及包围所述靶材的周围的护罩,该溅镀装置在处理空间中通过溅镀而在基板上形成膜,其特征为:所述护罩具有开口部,所述固定部构成为通过将所述靶材的周边部按压在所述背垫板上,将所述靶材固定在所述背垫板上,所述护罩具有:没有介于其间的所述固定部而与所述背垫板相面对的面对部、及在所述面对部的外侧形成的外侧部,在所述面对部与所述背垫板之间的间隔小于所述外侧部与所述背垫板之间的间隔,以及所述护罩的面向所述处理空间的内面包含以所述内面与所述背垫板的距离随着由所述外侧部朝向所述面对部减小的方式呈倾斜的部分。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.12 JP 2011-2716631.一种溅镀装置,具有:背垫板、用以将靶材固定在所述背垫板的固定部、及包围所述靶材的周围的护罩,该溅镀装置在处理空间中通过溅镀而在基板上形成膜,其特征为: 所述护罩具有开口部, 所述固定部构成为通过将所述靶材的周边部按压在所述背垫板上,将所述靶材固定在所述背垫板上, 所述护罩具有:没有介于其间的所述固定部而与所述背垫板相面对的面对部、及在所述面对部的外侧形成的外侧部,在所述面对部与所述背垫板之间的间隔小于所述外侧部与所述背垫板之间的间隔,以及 所述护罩的面向所述处理空间的内面包含以所述内面与所述背垫板的距离随着由所述外侧部朝向所述面对部减小的方式呈倾斜的部分。2.如权利要求1所述的溅镀装置,其中,所述固定部在所述处理空间侧的面包含以所述固定部的该面与所述背垫板的距离朝向所述开口部的内侧减小的方式呈倾斜的部分, 所述护罩的与所述内面为相反侧的面是包含以所述护罩的该面与所述背垫板的距离由所述外侧部朝向所述面对部减小的方式呈倾斜的部分。3.如权利要求1或2所述的溅镀装置,其中,所述面对部包含朝向所述背垫板突出的突出部。4.如权利要求3所述的溅镀装置,其中,所述溅镀装置另外具备有靶材, 所述靶材具有:被配置在所述开口部的内侧的本体部;及包围所述本体部的凸缘部,以及 所述靶材在所述凸缘部具有环状凹部,所述突出部与所述凹部相面对。5.如权利要求1-4之一所述的溅镀装置,其中,所述护罩包含在远离所述开口部的方向厚度变厚的部分。6.如权利要求1-5之一所述的溅镀装置,其中,所述护罩的面向所述处理空间的内面在远离所述开口...
【专利技术属性】
技术研发人员:石原繁纪,
申请(专利权)人:佳能安内华股份有限公司,
类型:发明
国别省市:日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。