用于溅射腔室的靶材组件、溅射装置以及溅镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于溅射腔室的靶材组件，所述靶材组件包括按第一方向排列的n个第一靶材，以及按与第一方向互相垂直的第二方向排列的两个第二靶材，其中，至少部分第一靶材位于所述两个第二靶材之间；并且，每一第一靶材以及每一第二靶材由功率源分别控制；其中，n≥2。本发明专利技术还公开了一种包含前述靶材组件的溅射装置和采用该溅射装置对玻璃基板进行溅镀的方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种用于溅射腔室的靶材组件，所述靶材组件包括按第一方向排列的n个第一靶材，以及按与第一方向互相垂直的第二方向排列的两个第二靶材，其中，至少部分第一靶材位于所述两个第二靶材之间；并且，每一第一靶材以及每一第二靶材由功率源分别控制；其中，n≥2。本专利技术还公开了一种包含前述靶材组件的溅射装置和采用该溅射装置对玻璃基板进行溅镀的方法。【专利说明】
本专利技术涉及物理气相沉积
，尤其涉及一种改善镀层均匀性的靶材组件的设计，以及包含该靶材组件的溅射装置和采用该溅射装置对玻璃基板进行溅镀的方法。
技术介绍
派镀(sputter)是一种物理气相沉积(PhysicalVapor Deposition, PVD)工艺，其物理现象表现为在一相对稳定真空状态下，阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材，将其原子等粒子溅出，此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜。目前，在制备液晶面板的过程中，在玻璃基板上进行成膜制程时，一般都采用PVD溅镀工艺。如图1所示，现有的靶材组件50设计为按平行于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于溅射腔室的靶材组件，其特征在于，所述靶材组件(10)包括按第一方向排列的n个第一靶材(101)，以及按与第一方向互相垂直的第二方向排列的两个第二靶材(102)，其中，至少部分第一靶材(101)位于所述两个第二靶材(102)之间；并且，每一第一靶材(101)以及每一第二靶材(102)由功率源(2)分别控制；其中，n≥2。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：柴立，张正义，陈一翔，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44