本实用新型提供一种传输外壳，其包括：第一托盘，其具有封闭末端和带有第一圆周凸缘的开放末端，所述第一托盘的至少一部分包括透光材料；第二托盘，其包括封闭末端和带有第二圆周凸缘的开放末端，并且所述第二圆周凸缘与所述第一圆周凸缘配合，使得所述第...

本实用新型公开了一种带有底部分的保持环，所述底部分可以从环的上部拆下。保持环的上部和下部包括一个或多个磁性体和／或由可吸引到磁体的材料所形成的一个或多个部分。

本实用新型公开了一种可更换的气体喷嘴，该气体喷嘴可插入衬底处理室的气体分配器环中并且在室中可以被防护。可更换气体喷嘴具有拥有通道的纵长陶瓷体，所述通道用于将气流导向室中。陶瓷体包括用于与气体分配器环配合的第一外螺纹和用于接纳热防护罩的第...

本实用新型公开了一种抛光垫调节器，其包括基板和基板上的垫调节面。所述调节面包括中心区域和周边区域。包括基本不变宽度的研磨粒子的研磨辐条从中心区域延伸到周边区域，所述研磨辐条彼此径向隔开。辐条对称并彼此径向隔开，并可以具有各种形状。调节面...

一种具有多层涂层的抗腐蚀铝元件，可用于衬底处理室中，并包括铝主体、形成于铝主体上的阳极化氧化铝层、以及阳极化氧化铝层上的包括氧化铝的溅射层。

本实用新型提供了一种化学机械抛光垫及化学机械装置，该化学机械抛光垫具有主体，该主体具有抛光表面，该抛光表面具有半径、中心区域以及周边区域。抛光表面具有从中心区域径向地向外延伸到周边区域的多个主径向线槽道，每个主径向线槽道在周边区域具有倾...

一种用于衬底制造装置的气体输送喷嘴，所述的气体输送喷嘴包括：　　　　包含气体通道的气体输送管，所述气体通道具有由：　　　　（ｉ）向上突入所述的气体通道中以部分地阻挡所述气体通道的下盖，以及　　　　（ｉｉ）向下突入所述的气体通道并突出在所...

本实用新型公开了一种用于衬底处理室的带状屏蔽，它具有圆筒形壁，圆筒形壁具有穿过其的切口。凸缘从圆筒形壁的底端沿径向向外延伸。壳体从圆筒形壁的顶端沿径向向外延伸并环绕切口连接到凸缘。圆筒形壁、凸缘和壳体，它们的至少部分表面具有小于约１６微...

本实用新型公开了一种用于衬底化学机械抛光装置载具头的柔性膜，它具有中心部分、周边部分和至少一个薄片，中心部分具有提供衬底支撑表面的外表面，周边部分用于将中心部分连接到载具头的基座，薄片从中心部分的内表面延伸。薄片包括横向延伸的第一部分和...

衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。所述的臂具有固定到所述支撑块的第一夹板以及固定到所述处理室的第二夹板。多个电导体...

一种用于静电吸盘的防护装置，该防护装置包括一个陶瓷环，该陶瓷环具有一个其形状适合于配合安装在静电吸盘的周边周围的内表面，以及一个具有（ｉ）带有凹槽的顶部和（ｉｉ）侧部的外表面。在该外表面的顶部之上设有金属涂层。

一种具有多个量测座的台座空隙平准调整工具，用于在化学气相沉积室内校正台座与扩散器间的相对位置，其中该台座支撑基板且可在该沉积室体中沿着台座轴进行垂直方向移动，及该扩散器，用于将工艺气体扩散至该腔体中，其具有：多个支撑座，可被放置在该台座...

本实用新型提供了一种能够安装到处理室中底座上的静电吸盘。所述吸盘具有包括带嵌入电极的陶瓷体的静电圆盘。所述陶瓷体具有带环形外缘的衬底支撑表面。所述吸盘还具有在所述静电圆盘之下的基板，所述基板是陶瓷材料和金属的复合物。所述基板具有延伸到所...

本发明一般地提供了用于支撑衬底的衬底支撑构件。在一个实施例中，用于支撑衬底的衬底支撑构件包括连接到下屏蔽罩的主体。所述主体具有适用于支撑衬底的上表面和下表面。所述下屏蔽罩具有中央部分和凸缘。所述凸缘以与所述主体分隔开的关系放置。所述下屏...

在此所提供的是一种提高在将材料膜沉积到衬底的过程中所使用的基座的支撑板的平面度的方法，包括下列步骤：将轴的中空芯中的压力减小到低于大气压的水平；以及将沉积室中的压力减小到将材料膜沉积到衬底上所要求的水平，其中在轴的中空芯中的压力作用于支...

本发明提供了一种用于支撑基片的装置，所述装置具有适合于最小化基片支撑件与支撑于其上的基片之间的损坏的球体。在一个实施例中，一种用于支撑基片的装置包括设置在倾斜的球体支撑表面上的球体。所述球体支撑表面适合于将所述球体向着球体支撑表面的一侧...

本发明提供了衬底支撑件和其制造方法。在本发明的一种实施例中，衬底支撑件包括具有衬底支撑表面的导电主体，所述衬底支撑表面被电绝缘涂层覆盖。涂层的至少位于衬底支撑表面中心上的一部分具有约８０至约２００微英寸的表面光洁度。在另一个实施例中，衬...

一般地，提供了一种用于衬底转移机械手的末端操纵器组件。在一个实施例中，用于衬底转移机械手的末端操纵器组件包括末端操纵器，该末端操纵器具有位于其上的多个金属垫。聚合物垫位于每个金属垫之上，其中金属垫上表面的暴露部分与聚合物垫顶表面之比至少...

旋转－清洗－干燥器（ＳＲＤ）包括适于固定并旋转衬底的衬底支架，以及适于将流体供给位于衬底支架上的衬底表面的流体源。该ＳＲＤ还包括至少一个遮护板，其位于能接收在衬底支架上旋转的衬底所排出的流体的位置处。该遮护板包括面向衬底的表面，该表面是...

本发明提供了用于支撑衬底的装置。在一个实施例中，提供了一种具有主体和上部分的衬底支撑件，所述上部分具有承窝和球体，所述球体适合使所述衬底支撑件与支撑于其上的衬底之间的摩擦和／或化学反应最小化。所述衬底支撑件可以被用在例如负载封闭的室以及...