溅射涂覆装置包括具有内部空间的真空室。内部空间由室壁限定。靶单元成直线设置在真空涂覆室内部。靶单元设置为相对于真空室和衬底的传送路径ｔ是可倾斜的。靶单元包括靶和壳体。壳体连接到靶并限定出靶单元的内部空间。在内部空间，设置了很多元件，如磁...

本发明提供一种铁含量低的喷涂Ｓｉ－或Ｓｉ∶Ａｌ－靶。提供一种用于溅射含硅膜的旋转溅射靶。该靶包括含硅溅射材料层（１０４）；以及载体（１０２），其用于承载溅射材料，其中，溅射材料层包含低于２００ｐｐｍ的铁。

本发明涉及一种用于处理衬底的设备。所述设备用于在真空室(2) 内处理衬底，所述处理例如是涂覆。在此真空室(2)内，布置有n个阴 极(7-10)和n+1个阳极(28-32)，所述阳极中的每个都与阴极(7- 10)相邻。所述n个阴极(7-1...

本发明涉及含有溅射沉积钝化层的光伏器件及其生产方法和生产设备。具体地，本发明公开了一种生产包括至少一个半导体单元的光伏器件的方法，包括如下步骤：通过刻蚀来清洗所述半导体单元的至少一个表面；在基本上无氧或贫氧的环境中干燥所述半导体单元的所...

本发明涉及一种具有改进的分隔板的对式镀膜装置，其用于为基底镀膜，包括至少两个彼此相邻布置的处理室（１、２、３、４），两个相邻的处理室之间的分隔板（９），和用于为处理室抽真空的泵装置（１２、１３）其中分隔板（９）包括至少具有两个端口的导管...

本实用新型公开了一种用于衬底处理室的卤素灯组件，其具有卤素灯和单块陶瓷散热器。所述卤素灯包括密封在具有夹紧密封端的密封罩中的灯丝和一对电连接器。所述单块陶瓷散热器包括块和从所述块向外突出的间隔开的柱子的阵列。所述块包括腔和开口，所述腔具...

本实用新型公开了一种非多边形多部件室。该非多边形多部件室可以包括：（１）具有第一侧和第二侧的中心部件；（２）适合与中心部件的第一侧连接的第一侧部件；和（３）适合与中心部件的第二侧连接的第二侧部件。该中心部件、第一侧部件和第二侧部件在连接...

在本发明的第一方面，提供了一种可编程转移装置，用于将导电零件转移至目标衬底的电极垫。该可编程转移装置包括：（１）转移衬底；以及（２）形成在所述转移衬底上的多个独立的可寻址电极。每个电极均适于在向目标衬底的电极垫转移所述导电零件期间选择性...

本发明涉及用于在塑料基材上沉积至少一个金属层的方法和薄膜沉积机，所述塑料基材具体为用于柔性印刷电路板的塑料薄片，其中在将第一层沉积在待沉积的所述塑料基材表面之前，对该表面进行非沉积预处理。本发明的目的是提供上述方法，从而改善塑料基材上的...

本发明涉及用于等离子体反应器室的晶片支架，其中所述晶片支架具有与晶片边缘相邻且包围晶片边缘的晶片边缘气体注射器。

一种等离子增强的化学处理反应器，包括： 等离子体室； 与该等离子体室相通的第一气体注入进气口，用来接受至少一种第一气体； 电磁能源，用于激励所述至少一种第一气体，形成等离子体； 与该等离子体室相通的处理室，因此该...

本发明的实施例一般地涉及在等离子体处理室中限界等离子体的方法和装置。该装置可以包括与室壁具有在约０．８英寸到约１．５英寸之间的间隙距离的圈形环。如果在处理期间存在衬底，除了圈形等离子体限界环，还可以通过在等离子体处理期间将供应到顶电极的...

本发明提供了一种用于处理工件的等离子体反应器，包括：真空室，其由侧壁和顶板限定；和工件支撑底座，其具有处在所述室中并且面向所述顶板的工件支撑表面，并且包括阴极电极。ＲＦ功率发生器耦合到所述阴极电极。等离子体分布由外部环形内电磁体、外部环...

本发明公开了一种形成等离子反应器顶部至少一部分的顶置气体分布电极，其具有面对反应器处理区的底表面。该电极包括气体供应歧管和多个压降圆柱形孔，前者用于在所述电极顶部处接收供应压力下的处理气体，后者从每个孔的一端处的气体供应歧管相对于电极轴...

本发明公开了一种用于电感耦合的等离子体处理室的ＲＦ等离子体产生和温度控制系统。等离子体产生系统包括加热器，所述加热器包括基本平行于细长下加热元件的细长上加热元件，其中上加热元件和下加热元件通过基本垂直于上加热元件和下加热元件的一个或多个...

在至少某些实施例中，本发明是一种等离子体蚀刻方法，包括施加包含ＣＦ↓［４］、Ｎ↓［２］和Ａｒ的气体混合物，并形成高密度和低轰击能量的等离子体。高密度和低轰击能量的等离子体是通过使用高源和低偏压功率设置而形成的。气体混合物还可包括Ｈ↓［２...

本发明提供了一种用于接地室隔离阀的方法和装置。一般地，该方法利用（多个）导电性弹性构件，以有效地接地室隔离阀和／或隔离阀门，同时避免处理系统中的移动组件之间的金属－金属接触。在一个实施例中，弹性构件固定地附接到室隔离阀的门并且与该门电导...

用于处理工件的等离子体反应装置包括反应室、在室内用于支撑工件的静电吸盘、耦合用来向静电吸盘施加ＲＦ功率的ＲＦ等离子体偏置功率发生器以及具有在静电吸盘内部并且具有入口和出口的热交换器的相变传热（ＰＣＨＴ）环路。ＰＣＨＴ环路可以工作在两种模...

提供了用于确定等离子体的特性的方法。在一个实施例中，一种用于确定等离子体的特性的方法包括获得耦合到等离子体的具有不同频率的第一和第二波形的电流和电压信息的度量，利用从每个不同频率的波形获得的度量确定等离子体的至少一个特性。在另一个实施例...

本发明提供了用于减小以等离子体方式沉积介质层时等离子体不稳定性的方法。在一种实施例中，该方法包括：在等离子体处理室中设置衬底；使气体混合物流入室中；向电极施加ＲＦ功率以在室中形成等离子体；并收集电极的ＤＣ偏压。在另一种实施例中，用于等离...