一种用于衬底化学机械抛光装置的载具头及其柔性膜制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于衬底化学机械抛光装置载具头的柔性膜，它具有中心部分、周边部分和至少一个薄片，中心部分具有提供衬底支撑表面的外表面，周边部分用于将中心部分连接到载具头的基座，薄片从中心部分的内表面延伸。薄片包括横向延伸的第一部分和垂直延伸的第二部分，所述第二部分将横向延伸的第一部分连接到中心部分。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术一般地涉及衬底的化学机械抛光，更具体地说，涉及用于 化学机械抛光的载具头。
技术介绍
集成电路通常是通过在硅晶片上依次沉积导体层、半导体层或绝缘层 而在衬底上形成的。 一种制造步骤包括在非平表面上方沉积填充物层，并 对填充物层进行平面化直到该非平表面暴露出来。例如，可以在经过图案 化的绝缘层上沉积导体填充物层来填充绝缘层中的沟槽或孔洞。然后对填 充物层进行抛光，直到绝缘层的凸起图案暴露出来。在平面化之后，绝缘 层的凸起图案之间遗留的那部分导体层形成过孔、插塞和导线，它们在衬 底上的薄膜电路之间提供导电路径。另外，还需要平面化来使衬底表面成 为平面以便进行光刻。化学机械抛光(CMP)是一种可接受的平面化方法。这种平面化方法 通常需要将衬底安装在载具头或抛光头上。衬底的暴露表面靠着转动的抛 光盘状垫垫或带状垫设置。抛光垫可以是标准的垫，也可以是固定研 磨(fixed-abrasive)垫。标准垫具有耐用的粗糙表面，而固定研磨垫具有 保持在容纳介质(containment media)中的研磨颗粒。载具头向衬底提供 可控载荷以将其推靠到抛光垫。向抛光垫表面供给抛光浆液，抛光浆液包 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于衬底化学机械抛光装置载具头的柔性膜，其特征在于，所述膜包括：　中心部分，具有提供衬底支撑表面的外表面；　周边部分，用于将所述中心部分连接到所述载具头的基座；以及　至少一个薄片，从所述中心部分的内表面延伸，所述薄片包括横向延伸的第一部分和垂直延伸的第二部分，所述第二部分将所述横向延伸的第一部分连接到所述中心部分，所述横向延伸的第一部分比所述垂直延伸的第二部分至少长百分之五十。

【技术特征摘要】
US 2005-12-28 11/321,0061.一种用于衬底化学机械抛光装置载具头的柔性膜，其特征在于，所述膜包括中心部分，具有提供衬底支撑表面的外表面；周边部分，用于将所述中心部分连接到所述载具头的基座；以及至少一个薄片，从所述中心部分的内表面延伸，所述薄片包括横向延伸的第一部分和垂直延伸的第二部分，所述第二部分将所述横向延伸的第一部分连接到所述中心部分，所述横向延伸的第一部分比所述垂直延伸的第二部分至少长百分之五十。2. 根据权利要求1所述的柔性膜，其特征在于，所述第二部分比所述 第一部分厚。3. 根据权利要求2所述的柔性膜，其特征在于，所述第二部分比所述 第一部分厚约二到四倍。4. 根据权利要求1所述的柔性膜，其特征在于，所述中心部分比所述 第二部分厚。5. 根据权利要求4所述的柔性膜，其特征在于，所述中心部分比所述 第二部分厚约三到六倍。6. 根据权利要求1所述的柔性膜，其特征在于，还在所述薄片中所述 第一部分与所述第二部分之间连接处包括凹槽。7. 根据权利要求1所述的柔性膜，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈宏清，欧俊宏，史蒂文M祖尼加，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：实用新型
国别省市：US[美国]