衬底支撑组件制造技术

衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。所述的臂具有固定到所述支撑块的第一夹板以及固定到所述处理室的第二夹板。多个电导体穿过所述臂的所述通道，而陶瓷绝缘体处在所述的导体之间。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般地涉及用于在处理室中支撑衬底的衬底支撑组件(substrate support assembly)。
技术介绍
在电子电路例如集成电路和显示器的制造中，衬底被放置在处理室中，而处理气体被引入到室中以处理衬底。处理室通常包含包围衬底处理区域的围壁(enclosure wal1)。气体激发器通过例如微波发生器(microwave applicator)、感应器线圈或围绕室布置的电极对处理气体施加射频(RF)能或微波能，激发(energize)被引入室中的处理气体。处理气体被激发来进行处理，如刻蚀衬底中的特征的刻蚀处理或在衬底上沉积一层材料的沉积处理。在处理室中处理衬底期间，衬底被支持在衬底支撑组件上。衬底支撑组件包含支撑部件，支撑部件具有衬底承受表面。组件还可以具有电极，而电极作为气体激发器的一部分来激发处理气体。支撑电极也可以可选择地加电偏压，以在支撑组件上用静电支持衬底。组件可以具有电连接器和导电结构如电线或引线。电连接器将支撑组件的若干部分与其它的室元件或外部电路连接起来。举例来说，衬底电极可以具有电接地的电连接器(接地连接器)或给支撑电极提供电源的电连接器(电源连本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在处理室中支撑衬底的支撑组件，其特征是，所述的支撑组件包含：　　　　（ａ）支撑块，包含电极；　　　　（ｂ）臂，用于在所述的处理室中支持所述的支撑块，所述的臂包含固定到所述支撑块的第一夹板和固定到所述处理室的第二夹板，以及所述的臂具有贯穿其中的通道；　　　　（ｃ）多个电导体，穿过所述臂的所述通道；以及　　　　（ｄ）陶瓷绝缘体，处在所述的导体之间。

【技术特征摘要】
US 2003-4-24 10/423,7171.一种用于在处理室中支撑衬底的支撑组件，其特征是，所述的支撑组件包含(a)支撑块，包含电极；(b)臂，用于在所述的处理室中支持所述的支撑块，所述的臂包含固定到所述支撑块的第一夹板和固定到所述处理室的第二夹板，以及所述的臂具有贯穿其中的通道；(c)多个电导体，穿过所述臂的所述通道；以及(d)陶瓷绝缘体，处在所述的导体之间。2.如权利要求1所述的支撑组件，其特征是，所述的多个电导体包括(i)热电偶，以及(ii)电接地连接器。3.如权利要求1所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含氧化铝、氧化锆、氧化硅、碳化硅、莫来石以及氮化硅中的一种或多种。4.如权利要求1所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含若干条，所述的条在所述的多个电导体之间沿着长度被间隔开。5.如权利要求1所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含半圆柱的形状。6.如权利要求5所述的组件，其特征是，所述的陶瓷绝缘体包含支撑所述电连接器中的一个或多个的凹支撑表面。7.一种处理室，其特征是，所述处理室包含如权利要求1所述的组件。8.一种用于在处理室中支撑衬底的衬底支撑组件，其特征是，所述的组件包含介电块，具有被嵌入其中的电极；臂，用于在所述的处理室中支持所述的介电块，所述的臂具有固定到所述介电块的第一夹板和固定到所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯托弗理查德马洪，阿比吉特德赛，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：实用新型
国别省市：US[美国]