提供一种用于确定载体悬浮系统的对准的方法。所述载体悬浮系统包括多个磁性单元，所述多个磁性单元适于无接触悬浮载体。所述多个磁性单元包括第一磁性单元和第二磁性单元。所述方法包括测量从所述第一磁性单元到所述载体的第一距离。所述方法包括测量从所...

实施方式提供用于检测在处理腔室内执行的清洁工艺的清洁终点的系统、方法和设备。实施方式包括光谱仪和透镜系统，光谱仪用于测量在清洁工艺期间处理腔室中的清洁反应的随时间变化的光谱响应，透镜系统与光谱仪耦接并且被设置以经由观察口聚焦于处理腔室中...

一种半导体制造系统，包括：化学机械研磨系统；卡匣保持区域，卡匣保持区域由壁包围并具有门，门可由操作员打开以将一或多个卡匣放置入卡匣保持区域；机器人，机器人经配置以在卡匣保持区域中的卡匣和化学机械研磨系统之间传送基板；计算机控制器，计算机...

一种抛光方法包括：抛光基板的层，用原位监测系统监测所述基板的所述层，以产生取决于所述层的厚度的信号，对所述信号进行滤波以产生经滤波的信号，从代表对所述信号进行滤波所需的时间的原始阈值与时间延迟值来确定经调整的阈值，以及当所述经滤波的信号...

本发明提供一种用于射频(RF)处理设备中的气体输送设备的实施方式。在一些实施方式中，用于射频(RF)处理设备中的气体输送设备包括：传导气体管线、第一凸缘、第二凸缘和铁氧体材料块，所述传导气体管线具有第一端和第二端；所述第一凸缘耦接至所述...

提供一种用于在真空腔室中提升或降低载体(10)的组件(100)。所述组件(100)包括：载体支撑件(20)，可在向上方向上或向下方向上移动；和保持装置(30)，被配置为在所述载体的向上移动或向下移动期间非接触保持所述载体的上部部分。此外...

本文提供用于校正基板变形的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中，一种基板支撑件包括：基部，具有由从所述基部向上延伸的壁形成的内部容积；多个红外灯，设置在所述内部容积内；支撑板，设置在所述多个红外灯上方，其中所述支撑板包括支撑表面以支撑...

本公开内容涉及一种用于保持基板的保持器。所述保持器包括：表面，经构造为面向所述基板，和粘合剂，被提供在所述表面上方并包括多个粘合结构。所述多个粘合结构包括：从所述表面突出的第一粘合结构；和从所述表面突出的第二粘合结构。所述第一粘合结构和...

提供了一种用于对基板进行退火的系统。所述系统包括：第一锅炉，所述第一锅炉具有耦接到水源的输入端；第二锅炉，所述第二锅炉具有输入端连接到第一锅炉的输出端；和批处理腔室，所述批处理腔室耦接到第二锅炉的输出端，其中所述批处理腔室被配置为使用来...

于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板...

提供用于在真空腔室(101)内运输载体(10)的设备(100)。设备(100)包含第一运输系统(112)，经构造以在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)非接触地运输载体，及路径切换组件(150),具有载体保持部(151)，经构造以机...

本公开文本的实施总的来说涉及半导体处理腔室，并且更具体地涉及用于半导体处理腔室的被加热的支撑基座。在一个实施方式中，公开一种基座组件，且所述基座组件包括：基板支撑件，所述基板支撑件包括介电材料并具有用于接收基板的支撑表面；电阻加热器，所...

一种用于获得代表基板上的层的厚度的测量的度量系统包含：被定位以获取所述基板的至少一部分的彩色图像的相机。控制器被配置以从所述相机接收所述彩色图像；将预先确定的路径存储在具有包含第一颜色通道和第二颜色通道的至少二个维度的坐标空间中；存储函...

本文中公开了用于数据的时间序列瞬时分析的方法及系统。一种方法包括以下步骤：接收时间序列数据；生成包括随机化数据点的训练数据集；使用在时间窗内的这些随机化数据点集合来生成随机化数据点组合；基于这些随机化数据点组合来计算距离值；基于多个经计...

提供一种用于在真空室(102)中传输载体(10)的设备(100)。设备(100)包括第一传输系统(112)和路径转换组件(150)，第一传输系统(112)沿着在传输方向(T)上的第一传输路径(T1)提供且包括下轨道区段(121)和上轨道...

描述一种用于在真空腔室中蒸发材料的设备。所述设备包括：用于材料的容器，所述容器设于真空腔室中；超声源，与所述容器接触，所述超声源经构造以产生所述材料的气溶胶；分配管，用于引导所述材料；和光源，在具有气溶胶的区域中导引电磁辐射，以蒸发所述...

根据本公开内容，提供一种用于在由载体支撑的基板上沉积一个或多个层的处理系统(100)。处理系统包括：装载锁定腔室(110)，用于装载基板；路由模块(410)，用于输送基板；第一真空摆动模块(131)；和处理模块(510)，包括沉积源，沉...

一种用于化学机械抛光的装置包括：压板，所述压板具有表面以支撑抛光垫；承载头，所述承载头用以保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；垫调节器所述垫调节器包括要抵靠抛光表面上被按压的导电体；原位抛光垫厚度监测系统，所述原位抛光垫厚度监测系统包括传感器...

本文提供耦接射频功率及直流功率至电极的电容组件及包含所述电容组件的基板支撑件的实施方式。在一些实施方式中，电容组件包含：第一导电板，以接收来自RF功率源的RF功率，第一导电板包含中心孔；至少一个电容，所述至少一个电容耦接至第一导电板并围...

描述一种设备(100)，其用于在真空处理系统中非接触地传输装置(120)。该设备(100)包含：磁传输排布(125)，用以提供磁悬浮力(FL)以悬浮该装置(120)，该磁传输排布包括一或多个主动式磁单元(150)；感测器(140)，用以...