用于在真空腔室内运输载体的设备及用于在真空腔室内运输载体的方法技术

提供用于在真空腔室(101)内运输载体(10)的设备(100)。设备(100)包含第一运输系统(112)，经构造以在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)非接触地运输载体，及路径切换组件(150),具有载体保持部(151)，经构造以机械接触载体(10)以用于使载体在路径切换方向(S)上移动远离第一运输路径(T1)。进一步地，描述包含路径切换组件的系统，以及用于在真空腔室内运输载体的方法。

Equipment for transporting carrier in vacuum chamber and method for transporting carrier in vacuum chamber

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在真空腔室内运输载体的设备及用于在真空腔室内运输载体的方法
本公开内容的实施方式有关于一种用于在真空腔室内运输载体的设备、一种用于真空处理基板的系统以及一种用于在真空腔室内运输载体的方法。本公开内容的实施方式特别有关于一种真空系统，所述真空系统具有沉积设备并具有路径切换组件，所述路径切换组件经构造以在真空腔室内的第一运输路径与第二运输路径之间移动载体。具体而言，描述了在真空腔室中切换载体的轨道的方法。
技术介绍
用于基板上的层沉积的技术包含例如溅射沉积(sputterdeposition)、蒸镀(evaporation)及化学气相沉积(chemicalvapordeposition；CVD)。溅射沉积工艺可用于使材料层沉积于基板上，例如绝缘材料层或导体材料层。为了沉积多层堆叠，可使用直列式排列(in-linearrangement)处理模块。串联式处理系统包含多个后续处理模块，例如沉积模块与可选地其他处理模块，例如清洁模块及/或蚀刻(etching)模块，其中处理方面在处理模块中相继进行，使得可在串联式处理系统中连续地或准连续地(quasi-continuously)处理多个基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于在真空腔室(101)内运输载体(10)的设备(100)，包含：第一运输系统(112)，所述第一运输系统(112)经构造以在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)非接触地运输所述载体；及路径切换组件(150)，包含载体保持部(151)，所述载体保持部(151)经构造以机械接触所述载体(10)，以用于在路径切换方向(S)上将所述载体移动远离所述第一运输路径(T1)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在真空腔室(101)内运输载体(10)的设备(100)，包含：第一运输系统(112)，所述第一运输系统(112)经构造以在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)非接触地运输所述载体；及路径切换组件(150)，包含载体保持部(151)，所述载体保持部(151)经构造以机械接触所述载体(10)，以用于在路径切换方向(S)上将所述载体移动远离所述第一运输路径(T1)。2.根据权利要求1所述的设备，更包含第二运输系统(114)，所述第二运输系统(114)经构造以沿着从所述第一运输路径(T1)水平偏移的第二运输路径(T2)非接触地运输所述载体，其中所述载体保持部(151)在所述路径切换方向(S)上是可移动的，以用于将所述载体从所述第一运输路径(T1)转移至所述第二运输路径(T2)和处理位置(T3)中的至少一者，所述处理位置(T3)从所述第一运输路径与所述第二运输路径水平偏移。3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述载体保持部(151)在垂直方向(V)上是可移动的。4.根据权利要求1-3任一项所述的设备，其中所述载体保持部(151)包含以下安装件中的至少一者：经构造以与所述载体的侧表面接合的安装件、经构造以与所述载体的顶表面接合的安装件、和经构造以与所述载体的内表面接合的安装件。5.根据权利要求1-4任一项所述的设备，其中所述载体保持部(151)包含支撑表面，以用于从下方支撑所述载体。6.根据权利要求1-5任一项所述的设备，其中所述载体保持部(151)包含磁性卡盘。7.根据权利要求1-6任一项所述的设备，其中所述载体保持部(151)包含机械安装件，特别是用于将所述载体悬挂在所述载体保持部的挂钩。8.根据权利要求1-7任一项所述的设备，其中所述第一运输系统(112)包含下轨道区(121)、上轨道区(122)和致动器(125)，所述致动器(125)经构造以调整所述下轨道区(121)和所述上轨道区(122)之间的距离。9.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥利弗·海姆尔，克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼，拉尔夫·林登贝格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US