【技术实现步骤摘要】
基板传送机械手终端受动器本申请是申请日为2015年6月5日、申请号为201580036350.6、专利技术名称为“基板传送机械手终端受动器”的专利技术专利申请的分案申请。
本公开内容的实施方式总体涉及半导体处理设备。
技术介绍
在半导体基板上的微电子器件的制造中,在制造工艺期间多次于基板边缘及背侧上处置(handle)半导体基板。该处置可引起污染物粘着于基板背侧且于处理部件之间移动,例如,循着基板、或于不同基板之间由腔室至腔室、FOUP(前开式晶片传送盒)至FOUP、或处理工具至处理工具,非期望地增加用于保养的工具停机时间,以用于移除污染物。这些污染物也可转移至基板前侧,而导致降低的设备性能和/或良率损失。上述问题的典型解法意图通过减少到基板与基板传送/处置器件之间的接触面积来降低背侧颗粒的产生。然而,减小接触面积可减轻颗粒产生的同时,专利技术人观察到:即便使用最小的考量的接触面积,仍旧产生大量的颗粒。因此,专利技术人提供具有减少的颗粒产生的用于支撑及处置基板的改良装置的实施方式。
技术实现思路
于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中,用于支撑基板的装 ...
【技术保护点】
1.一种用于支撑基板的装置,所述装置包括:支撑构件;和多个基板接触元件,所述多个基板接触元件由所述支撑构件突出,其中所述多个基板接触元件的每一个包括:第一接触表面,在基板放置于所述第一接触表面上时支撑所述基板;及第二接触表面,所述第二接触表面由所述第一接触表面延伸,其中所述第二接触表面邻近所述基板的周边以防止所述基板的径向移动,其中所述第一接触表面相关于所述支撑构件处于第一角度,且所述第二接触表面相关于所述支撑构件处于第二角度,其中所述第一角度介于约3度与5度之间,并且其中所述第二角度大于所述第一角度;及一个或更多个垫片,所述一个或更多个垫片设置于所述支撑构件与所述多个基板 ...
【技术特征摘要】
2014.07.03 US 62/020,769;2014.09.03 US 14/476,2241.一种用于支撑基板的装置,所述装置包括:支撑构件;和多个基板接触元件,所述多个基板接触元件由所述支撑构件突出,其中所述多个基板接触元件的每一个包括:第一接触表面,在基板放置于所述第一接触表面上时支撑所述基板;及第二接触表面,所述第二接触表面由所述第一接触表面延伸,其中所述第二接触表面邻近所述基板的周边以防止所述基板的径向移动,其中所述第一接触表面相关于所述支撑构件处于第一角度,且所述第二接触表面相关于所述支撑构件处于第二角度,其中所述第一角度介于约3度与5度之间,并且其中所述第二角度大于所述第一角度;及一个或更多个垫片,所述一个或更多个垫片设置于所述支撑构件与所述多个基板接触元件中的一或多个基板接触元件之间。2.如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:普及特·阿咖瓦,丹尼尔·格林伯格,徐松文,杰弗里·布罗丁,史蒂芬·V·桑索尼,格伦·莫里,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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