具有补偿滤波的端点检测制造技术

一种抛光方法包括：抛光基板的层，用原位监测系统监测所述基板的所述层，以产生取决于所述层的厚度的信号，对所述信号进行滤波以产生经滤波的信号，从代表对所述信号进行滤波所需的时间的原始阈值与时间延迟值来确定经调整的阈值，以及当所述经滤波的信号越过所述经调整的阈值时，触发抛光端点。

Endpoint Detection with Compensated Filtering

A polishing method includes: polishing the layer of the substrate, monitoring the layer of the substrate with an in-situ monitoring system, generating a signal depending on the thickness of the layer, filtering the signal to generate a filtered signal, determining the adjusted threshold from the original threshold and time delay value representing the time required to filter the signal, and when the filtered threshold is used. When the signal crosses the adjusted threshold, the polishing end point is triggered.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有补偿滤波的端点检测
本公开涉及在化学机械抛光期间使用电磁感应的监测，例如涡流监测。
技术介绍
集成电路通常通过导体、半导体或绝缘层连续地沉积于硅晶片上以及通过这些层的后续处理而形成在基板(例如半导体晶片)上。一个制造步骤包括将填料层沉积在非平坦表面上以及平坦化该填料层直到非平坦表面暴露出来。例如，导电填料层可以沉积在图案化绝缘层上，以填充绝缘层中的沟槽或孔。接着抛光填料层直到绝缘层的凸起图案的暴露出来。在平坦化之后，保留在绝缘层的凸起图案之间的导电层的部分形成通孔、插座和线，通孔、插座和线提供基板上的薄膜电路之间的导电路径。此外，平坦化可用于使用于平板印刷术的介电层平坦化。化学机械抛光(CMP)是一种公认的平坦化方法。这种平坦化方法通常要求将基板安装在承载头上。基板的暴露表面放置抵靠旋转抛光垫。承载头提供在基板上的可控制负载以将基板推靠在抛光垫。抛光液体(诸如具有研磨颗粒的浆料)供应到抛光垫的表面。在半导体处理期间，确定基板上的基板或层的一个或更多个特性可以是重要的。例如，在CMP工艺期间知道导电层的厚度可以是重要的，使得可以在正确的时间终止该工艺。可使用多种方法来确定基板特性。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于固持抛光垫；承载头，所述承载头用于在抛光期间将基板固持抵靠所述抛光垫；原位监测系统，所述原位监测系统用于在抛光期间监测所述基板，并且产生取决于正在被抛光的所述基板的层的厚度的信号；以及控制器，所述控制器被配置成：存储代表对所述信号进行滤波所需的时间的原始阈值与时间延迟值；接收来自所述原位监测系统的所述信号并对所述信号进行滤波以产生经滤波的信号，从所述原始阈值与所述时间延迟值来确定经调整的阈值，并且当所述经滤波的信号越过所述经调整的阈值时，触发抛光端点。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.21 US 62/397,8401.一种抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于固持抛光垫；承载头，所述承载头用于在抛光期间将基板固持抵靠所述抛光垫；原位监测系统，所述原位监测系统用于在抛光期间监测所述基板，并且产生取决于正在被抛光的所述基板的层的厚度的信号；以及控制器，所述控制器被配置成：存储代表对所述信号进行滤波所需的时间的原始阈值与时间延迟值；接收来自所述原位监测系统的所述信号并对所述信号进行滤波以产生经滤波的信号，从所述原始阈值与所述时间延迟值来确定经调整的阈值，并且当所述经滤波的信号越过所述经调整的阈值时，触发抛光端点。2.如权利要求1所述的抛光系统，其中所述控制器被配置成确定所述经滤波的信号的斜率。3.如权利要求2所述的抛光系统，其中所述控制器被配置成通过将所述时间延迟值乘以所述斜率来确定针对所述阈值的调整。4.如权利要求3所述的抛光系统，其中所述控制器被配置成根据VT'＝VT-(ΔT*R)来确定所述经调整的阈值VT'，其中VT是所述原始阈值，ΔT是所述时间延迟值并且R是所述斜率。5.如权利要求1所述的抛光系统，其中所述控制器被配置成根据一个或更多个滤波参数来对所述信号进行滤波，并且所述控制器被配置成基于所述一个或更多个滤波参数来确定所述时间延迟值。6.如权利要求5所述的抛光系统，其中所述一个或更多个滤波参数包括来自所述信号的测量的数量和/或所述信号的时间段，以被用于产生所述经滤波的信号。7.如权利要求6所述的抛光系统，其中所述工作台是可旋转的，并且所述原位监...

【专利技术属性】
技术研发人员：K·徐，K·林，I·卡尔松，SH·沈，TY·刘，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US