本实用新型提供了一种腔体隔绝环，所述的腔体隔绝环包括环状主体和位于其底部的环状底座，所述的环状底座为环形凹槽结构，所述的环状主体与环状底座的外周面相接，所述的环状底座的外周壁上开设至少一个通孔。本实用新型提供的腔体隔绝环可以极大地改善P...

本发明涉及一种钛靶材和背板的扩散焊接方法及制得的钛靶材组件，所述扩散焊接方法包括如下步骤：(1)准备钛靶材、带有凹槽的背板和垫圈；(2)将步骤(1)所述钛靶材放入背板的凹槽内，将步骤(1)所述垫圈围在所述钛靶材四周，完成装配处理，然后再...

本发明提供一种冷却盘及其制作方法，所述冷却盘包括盘体，所述盘体表面铺设有环形槽；不锈钢管，嵌设于所述环形槽内，用于输送液体；所述冷却盘的制作方法，包括步骤：提供盘体和不锈钢管，所述盘体表面铺设有环形槽；将所述不锈钢管嵌设入所述环形槽内；...

本发明提供一种承载台表面的处理方法，包括步骤：提供承载台，所述承载台具有承载面；对所述承载面进行细化晶粒处理；经过细化晶粒处理后，采用盐浴氮碳共渗工艺对所述承载面进行处理。采用该发明的处理方法，不仅可以很好的提高承载面的强度、硬度以及使...

本发明提供了一种钨钛靶材与铜背板的钎焊方法，所述钎焊方法包括如下步骤：(1)钨钛靶材与铜背板的焊接面分别独立的进行表面喷砂处理；(2)分别独立地对钨钛靶材与铜背板喷砂处理后的焊接面进行镀镍处理；(3)钎焊连接进行镀镍处理后的钨钛靶材与铜...

本实用新型提供了一种晶圆冷却盘体及包括其的晶圆冷却装置，所述的晶圆冷却盘体包括基体和盖板，在所述基体上加工出至少一条流道，所述的流道中通入冷却介质，用于对放置在冷却盘体上的晶圆进行冷却，相邻两条流道之间留有2～3mm的基体厚度；所述的流...

一种WTi合金靶材的制备方法，包括钨粉及含铁钛粉，将所述钨粉与所述含铁钛粉进行混粉工艺，生成混合粉；将所述混合粉进行装模，将装模后的所述混合粉进行热压烧结工艺。通过将所述钨粉与所述含铁钛粉进行混粉工艺，在原料的提供上，选用含铁元素的钛粉...

一种钴靶坯的制作方法，包括：提供钴锭，将所述钴锭进行热轧工艺，形成初级钴靶坯；将热轧工艺后的所述初级钴靶坯进行退火处理；将退火处理后的所述初级钴靶坯进行冷轧工艺。将所述钴锭进行热轧工艺的目的是使得所述镍锭的可塑性能提高，进一步细化所述钴...

一种靶材组件及其制造方法，制造方法包括：提供靶材和背板，所述靶材具有靶材焊接面，所述背板具有背板焊接面；在所述靶材焊接面或所述背板焊接面上形成螺纹；形成所述螺纹后，将所述靶材焊接面与所述背板焊接面相贴合设置形成初始组件；对所述初始组件进...

一种钨钛合金靶材的制备方法，包括：通过将钨钛合金粉末进行冷等静压工艺处理，然后将所述坯料放入包套并进行密封，其中所述包套与所述坯料通过耐高温棉隔离，使得在后续的工艺中所述坯料不会与所述包套发生反应，为后期出炉后从所述包套中取出所述钨钛合...

本发明涉及一种铜靶材与背板的扩散焊接方法，所述扩散焊接方法包括如下步骤：(1)准备铜靶材、带有凹槽的背板和垫块，其中所述铜靶材和垫块的面积均与背板凹槽的底面积相等；(2)依次将步骤(1)所述铜靶材、垫块放入背板的凹槽内，完成装配处理，然...

本发明提供了一种钴靶材与铜背板的钎焊方法，所述钎焊方法包括如下步骤：(1)矫正钴靶材翘曲度，使靶材的平面度≤0.2mm；(2)钴靶材与铜背板的焊接面分别独立的进行表面喷砂处理；(3)分别独立地对钴靶材与铜背板喷砂处理后的焊接面进行镀镍处...

一种镍靶坯及靶材的制造方法，镍靶坯的制造方法包括：提供镍锭；将所述镍锭进行第一退火工艺处理，所述第一退火工艺温度为900℃‑950℃；将经过第一退火工艺处理后的所述镍锭进行轧制，形成初级镍靶坯。将所述镍锭进行轧成型前，将所述镍锭进行第一...

一种靶材腐蚀剂及其应用方法，包括：硫酸、硝酸、氢氟酸以及盐酸；所述硫酸质量百分比为20％‑23％；所述硝酸质量百分比15％‑18％；所述氢氟酸质量百分比为21％‑24％；所述盐酸质量百分比为33％‑40％；还提供不锈钢样品，使用所述靶材...

本发明涉及一种铬硅合金溅射靶材及其制备方法。所述制备方法包括：(1)将具有目标质量比例的铬硅合金粉末装入模具并封口，进行振实处理；(2)将步骤(1)振实后的模具进行脱气处理；(3)将步骤(2)脱气后的模具在1000‑1350℃下进行热等...

本实用新型提供了一种去除靶材焊缝中钎料的装置，所述去除靶材焊缝中钎料的装置包括温度控制单元与刀头；所述温度控制单元包括金属刀座以及用于测量并调节金属刀座温度的加热模块，所述金属刀座上设置有与刀头匹配的凹槽，所述刀头可调节地安装于金属刀座...

本发明提供一种靶材组件的制作方法，包括：提供二氧化硅靶材和金属背板，所述二氧化硅靶材具有靶材焊接面，所述金属背板具有背板焊接面；采用等离子喷涂工艺在所述二氧化硅靶材焊接面上形成镍层；将二氧化硅靶材焊接面上的镍层与金属背板焊接面进行焊接形...

本实用新型提供一种检测辅助装置及靶材检测辅助设备，涉及靶材检测领域，该检测辅助装置包括：支撑组件和旋转组件，旋转组件可转动地安装于支撑组件上；旋转组件具有用于承载工件的承载结构，承载结构上设置有用于将工件限位于承载结构上的紧固组件，且紧...

本实用新型提供了一种靶材浸润处理装置，涉及液晶面板用溅射靶材技术领域。一种靶材浸润处理装置，包括：基座组件和滚轮组件；其中，所述滚轮组件包括连接轴和传动连接于所述连接轴上的滚轮，所述基座组件套设于所述连接轴上，并能够沿所述连接轴的轴向移...

本实用新型提供了一种靶材溅射深度测试装置，所述的靶材溅射深度测试装置包括测试装置主体以及用于将测试装置主体固定在待测靶材上的固定件；所述的测试装置主体包括可拆卸连接的深度测量组件和水平定位件；所述的深度测量组件包括纵向并排布置的至少一个...