一种靶材的处理方法，包括：提供靶材，所述靶材包括边缘区域的非溅射区；对所述靶材的非溅射区表面进行喷砂处理，形成粗糙面；对所述粗糙面进行熔射处理，在所述非溅射区表面形成膜层。经喷砂处理后，靶材的非溅射区表面形成粗糙面；接着，对粗糙面进行熔...

一种靶材喷砂夹具和靶材喷砂方法，所述靶材喷砂夹具包括：靶材卡盘，所述靶材卡盘设置有第一凹槽，所述第一凹槽用于容纳靶材；盖板，所述盖板位于所述靶材的溅射区上，用于保护所述溅射区；连接件，所述连接件的个数大于或者等于两个，每个所述连接件包括...

一种靶材矫正装置，包括：机架，所述机架具有悬挂梁、与所述悬挂梁相对设置的支撑台，连接所述悬挂梁和所述支撑台的支撑杆，所述悬挂梁和所述支撑台之间具有间隔，所述支撑台用于放置靶材；液压缸或气压缸，悬挂于所述悬挂梁，可沿所述悬挂梁移动，所述液...

一种钼靶材的制作方法，包括：先通过热压烧结工艺实现钼粉末的致密化处理，得到第一钼靶材坯料，之后再通过多阶段的热轧处理工艺逐步实现第一钼靶材坯料进一步致密化处理，从而获得钼颗粒晶粒小于50μm，致密度高达99.94%的钼靶材。相对于现有的...

一种磁控溅射环装置和磁控溅射反应器，其中，磁控溅射环装置包括：安装于磁控溅射腔室侧壁上，所述磁控溅射腔室侧壁具有定位销套，所述磁控溅射环装置包括：磁控溅射环，所述磁控溅射环包括内环侧壁和与所述内环侧壁相对的外环侧壁，所述外环侧壁具有凹槽...

本发明提供一种钨钛靶材的制作方法，包括，将废弃靶材进行机械破碎，形成颗粒，所述废弃靶材为钨钛靶材；提供用于制作靶材的粉末原料；将所述颗粒及粉末原料混合后放入模具中，进行热压烧结，形成靶材；热压烧结后，冷却，取出靶材。采用本发明提供的靶材...

一种抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统，修整器包括：研磨颗粒，其形状规则且为多面体；基体，具有研磨面，研磨面的表面粗糙度大小使得研磨面凹凸不平，研磨颗粒固结在研磨面上，至少部分研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内；至少部分研磨颗粒...

一种磁控溅射环包装件，用于包装所述磁控溅射环，所述磁控溅射环包括磁控溅射环首端和磁控溅射环尾端，所述磁控溅射环首端和磁控溅射环尾端形成开口，包括：包覆所述磁控溅射环的第一膜层；第一端口保护件，包覆位于磁控溅射环首端的第一膜层和磁控溅射环...

本实用新型提供了一种靶材翻转机，包括：基座、翻转机构，以及夹持组件。翻转机构包括通过第一转轴活动连接在基座上的翻转支架，翻转支架可沿第一轴线翻转；夹持组件通过第二转转轴活动安装在翻转支架上，且可绕第二转轴旋转。夹持组件夹持住表面涂覆有焊...

本实用新型提供了一种靶材放置货架。所述靶材放置货架包括至少一层靶材搁置层，一层靶材搁置层包括至少三根位于同一平面的悬臂，以用于放置靶材；所述至少三根悬臂的设置使得一块靶材的下方，至少形成三个支撑点，以提高靶材的支撑力度，以及受力均匀度，...

本发明提供了一种铜靶材的制备方法，包括：先采用热锻工艺将铜坯料进行致密化处理，在经冷却后，形成第一铜靶材坯料；轧制所述第一铜靶材坯料，使之厚度降低10～50%，形成第二铜靶材坯料；将所述第二铜靶材坯料进行退火处理，形成铜靶材。采用本发明...