WTi合金靶材的制备方法技术

一种WTi合金靶材的制备方法，包括钨粉及含铁钛粉，将所述钨粉与所述含铁钛粉进行混粉工艺，生成混合粉；将所述混合粉进行装模，将装模后的所述混合粉进行热压烧结工艺。通过将所述钨粉与所述含铁钛粉进行混粉工艺，在原料的提供上，选用含铁元素的钛粉，避免在混粉过程中直接加入铁粉，可以避免在混粉的过程中碎铁粉被氧化从而避免所述混合粉内的氧元素；并且在混粉的过程中，只要控制所述钨粉与所述钛粉的比例，即可以控制所述混合粉内铁元素的含量。将所述混合粉进行装模，将装模后的所述混合粉进行热压烧结工艺，通过严格的装模过程，控制整个烧结工艺，保障杂质不进入所述混合粉中，从而保障最终形成的所述WTi合金靶材的质量。

Preparation of WTI alloy target

【技术实现步骤摘要】
WTi合金靶材的制备方法
本专利技术涉及靶材制备
，特别涉及一种WTi(钨钛)合金靶材的制备方法。
技术介绍
WTi(钨钛)合金由于具有低的电阻系数、良好的热稳定性和抗氧化性；被广泛的应用于Al、Cu与Ag布线的扩散阻挡层；通常而言，要求WTi靶材纯度越高越好，即所述WTi合金靶材中杂质元素，如Na，K，Fe，O等杂质元素的含量越低越好，会使溅射后的WTi薄膜质量更加稳定。但是，在GoldBump(金凸块)行业中，由于特殊的工艺要求，不仅需要保障所述WTi靶材的纯度尽量高，而且要保障所述WTi靶材中Fe元素含量不能过低，若是所述WTi靶材中Fe元素的含量过低，会影响WTi溅射薄膜的蚀刻速率，而且，由于Fe元素分布的不均匀性，Fe元素会导致薄膜扩散阻挡性能不稳定，因此，Fe元素的含量也不宜过高。GoldBump行业中一般规定WTi靶材中Fe元素含量在30-50质量ppm。现有技术是通过直接掺入Fe分子的方式，在掺入的过程中，通过控制Fe分子颗粒的大小及含量，以控制Fe元素在WTi合金中的含量及保证可以均匀分布，但是由于细Fe本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种WTi合金靶材的制备方法，其特征在于，包括：/n钨粉及含铁钛粉，将所述钨粉与所述含铁钛粉进行混粉工艺，生成混合粉；/n将所述混合粉进行装模；/n将装模后的所述混合粉进行热压烧结工艺。/n

【技术特征摘要】
1.一种WTi合金靶材的制备方法，其特征在于，包括：
钨粉及含铁钛粉，将所述钨粉与所述含铁钛粉进行混粉工艺，生成混合粉；
将所述混合粉进行装模；
将装模后的所述混合粉进行热压烧结工艺。


2.如权利要求1所述WTi合金靶材的制备方法，其特征在于，所述钨粉规格为含铁1质量ppm以下的5N钨粉；所述含铁钛粉规格为含铁350-450质量ppm的3N5钛粉。


3.如权利要求1所述WTi合金靶材的制备方法，其特征在于，包括：提供混粉设备，将所述钨粉与所述含铁钛粉放入所述混粉设备进行混粉。


4.如权利要求3所述WTi合金靶材的制备方法，其特征在于，所述混粉设备材质为钛材质。


5.如权利要求3所述WTi合金靶材的制备方法，其特征在于，将所述钨粉与所述含铁钛粉放入所述混粉设备进行混粉之前，还包括步骤：给所述混粉设备内充入惰性气体，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，罗明浩，吴东青，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33