一种EUV投射光刻的照明光学单元，将照明光从光源沿着照明光束路径引导到物场。第一分面反射镜包括多个第一单片分面。第二分面反射镜包括多个第二分面。由第一分面中至少一些和分配的第二分面预定物场照明通道。经由照明通道，整个物场均可用照明光照明...

一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4)，具有光阑(23)，光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。

一种EUV投射光刻的照明光学单元，包括场分面反射镜和光瞳分面反射镜。通过恰好一个场分面和恰好一个光瞳分面(29)沿着在光源与物场之间的照明通道引导相应使用的照明光部分束(16i)。可用作校正光瞳分面的至少一些光瞳分面(29)布置在作用其...

本发明涉及用于操纵尤其在光学系统中的元件的位置的装置。按照本发明的装置针对位置操纵的每个自由度具有至少一个执行器(22、52、72、102a、102b、122a、122b、142a、142b、162a、162b)以将可调节的力施加在元件...

本发明涉及一种保持光刻系统(100)中的部件(M6)的组合件(200)，组合件包括对部件(M6)施加补偿力的重力补偿装置(202)和调节装置(400)。重力补偿装置(202)至少部分地补偿作用在部件(M6)上的重力。调节补偿力的所述至少...

一种由掩模坯体(250，350，550，950)制造极紫外波长范围的掩模的方法，所述掩模坯体具有缺陷(220，320，520，620，920)，其中，所述方法包括下列步骤：a.将所述缺陷(220，320，520，620，920)归类为至...

本发明涉及一种永久修复光刻掩模(105、210、220)的材料缺损的缺陷(260、270、280)的方法，该方法包括以下步骤：(a)在掩模(105、210、220)的待修复位置处提供至少一个含碳前驱气体和至少一个氧化剂；(b)在材料缺损...

一种包含多个M的扫描仪(3i)的投射曝光系统(1)的照明系统(19)的辐射源模块(2)，包含输出耦合光学单元(9)，其包含至少一个装置，用于将具有总强度的集中输出光束(8)划分为具有单独强度的多个(M)单独输出光束(10i)，其中划分集...

本发明涉及一种反射镜装置(29)，其包括至少一个导电屏蔽元件(25)，其形成在与反射镜体(35)的至少一个侧表面(22)和/或后侧(21)相邻的区域中产生电场的机构。

一种EUV投射光刻的照明光学单元(7)，用于以照明光(3)照明物场(8)。在物体位移方向(y)上可位移的待成像物体(19)可布置于物场(8)中。传输光学单元(14)通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将场分面反射镜(5)的场分面成像至物场...

一种投射曝光设备，包含投射镜头(12)；波前测量装置，其测量在该投射镜头(12)中的波前，该波前测量装置包含莫尔光栅布置(14)，其具有设计为分别布置于该投射镜头(12)的物平面(20)中的物光栅(16)与像平面(22)中的像光栅(18...

本发明涉及一种校正反射光学元件(1)的表面形状的方法，所述反射光学元件具有基板(2)和反射涂层(3)，其中，所述方法至少包括以下步骤：通过在布置于基板(2)和反射涂层(3)之间的至少一个可变形层(7)中产生永久局部形状变化(10)来校正...

微光刻投射曝光装置(10)的光学配置，包含反射镜元件(M6)，其具有反射镜基板(34)及形成于反射镜基板(34)的表面上的反射区域。所述配置另外包含配置为在至少一个自由度移动反射镜元件(M6)的至少一个致动器(46)、以及作用在反射镜基...

一种投射镜头(PO)，用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至投射镜头的像平面(IS)上，投射镜头包含多个反射镜(M1‑M6)，其具有设置于该物平面与该像平面之间的投射射束...

本发明涉及一种用于基于预定的掩模结构生成晶片结构的光刻工艺的仿真的方法，包括以下步骤：提供掩模的包含掩模结构的区域的空间像；预定强度范围；对于强度范围内的不同阈值，确定辅助晶片结构或可能的晶片结构；对于辅助晶片结构或可能的晶片结构中的每...

本发明涉及一种压电定位装置(1)，其包括至少一个压电致动器(3)，所述压电致动器具有第一连接触点(4)和第二连接触点(5)。为了激活所述至少一个压电致动器(3)，提供控制装置(6)，其包括连接到所述连接触点(4,5)的数/模转换器(12...

本发明关于一种离子化装置(1)，其包括：等离子体产生装置(4)，在初级等离子体区(9)中产生亚稳粒子(6a)和/或离子(6b)；场产生装置(13)，在次级等离子体区(10)中产生辉光放电(12)；进气口(2)，将待离子化的气体(3)供应...

公开了一种光刻系统(100)的连接配置(200A、200B)，其具有第一构件(212)、第二构件(206)、第一界面元件(210)和第二界面元件(218)，所述第一界面元件在第一接合部(220)处可释放地连接至第一构件(212)，所述第...

本文公开了一种光刻系统(100)的反射镜(204)，该反射镜包含具有表面(226)的反射镜体(224)。该表面包括光学有效区域(220)和光学非有效区域(222)，光学非有效区域(222)至少部分位于光学有效区域(220)内。反射镜(2...

本发明关于一种写入至基板晶片(300)的光刻设备(100)，其包含：光产生装置(110)，包含产生光的一个或多个光源(111、112、113)；光传递装置(120)，包含将来自光产生装置(110)的光传递至写入装置(140)的多个光波导...